磁気記録媒体、磁気記録装置、および磁気記録媒体製造方法
【課題】記録層のサーボ領域およびユーザデータ領域の各々にて複数の磁性部が離隔して設けられている磁気記録媒体において、ユーザデータ領域の磁性部について高い書換え性を実現しつつ、サーボ領域の磁性部の磁化反転を抑制する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体Ｘ１は、第１面２ａおよび第２面２ｂを有し且つサーボ領域Ｓ１およびユーザデータ領域Ｓ２を含む記録層２を備える。サーボ領域Ｓ１は、複数の磁性部２１および磁性部２１間に介在する非磁性部２２を含む。ユーザデータ領域Ｓ２は、複数の磁性部２３および磁性部２３間に介在する非磁性部２４を含む。非磁性部２４は、記録層２の第１面２ａの側において、磁性部２３よりも退避し且つ非磁性部２２よりも退避している。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体Ｘ１は、第１面２ａおよび第２面２ｂを有し且つサーボ領域Ｓ１およびユーザデータ領域Ｓ２を含む記録層２を備える。サーボ領域Ｓ１は、複数の磁性部２１および磁性部２１間に介在する非磁性部２２を含む。ユーザデータ領域Ｓ２は、複数の磁性部２３および磁性部２３間に介在する非磁性部２４を含む。非磁性部２４は、記録層２の第１面２ａの側において、磁性部２３よりも退避し且つ非磁性部２２よりも退避している。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターニングされた磁性部を記録層に有する磁気記録媒体、そのような磁気記録媒体を備えた磁気記録装置、および、そのような磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクなどの記憶装置を構成するための記録媒体として、磁気ディスク（磁気記録媒体）が知られている。磁気ディスクは、ディスク基板と所定の磁性構造を有する記録層とを含む積層構造を有する。コンピュータシステム等における情報処理量の増大に伴い、磁気ディスクについては高記録密度化の要求が高まっている。
【０００３】
磁気ディスクの技術分野においては、高記録密度化を図るのに適した磁気ディスクとして、いわゆるビットパターンドメディア（ＢＰＭ）が知られている。ＢＰＭたる磁気ディスクについては、例えば下記の特許文献１〜３に記載されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１００４９９号公報
【特許文献２】特開２００８−１２３６３８号公報
【特許文献３】特開２００８−２３４７７４号公報
【０００５】
図２５および図２６は、ＢＰＭたる従来の磁気ディスク８０を表す。図２５は、磁気ディスク８０の部分拡大平面図である。図２６は、図２５の線XXVI−XXVIに沿った断面図である。
【０００６】
磁気ディスク８０は、ディスク基板８１、記録層８２、および保護膜８３（図２５では図示略）からなる積層構造を有する。記録層８２は、磁気ディスク８０の周方向Ｄ１に隣り合って交互に配されたサーボ領域Ｓ１およびユーザデータ領域Ｓ２を含み、相互に離隔する複数の磁性部８２Ａと、相互に離隔する複数の磁性部８２Ｂと、これらの間に介在する非磁性部８２Ｃとからなる。磁性部８２Ａは、垂直磁気異方性を有し、サーボ領域Ｓ１に含まれる。サーボ領域Ｓ１において周方向Ｄ１に連なる磁性部８２Ａにおいてサーボ情報が保持される。図２５に示すように、磁性部８２Ａは磁気ディスク８０の径方向Ｄ２に延びる形状を有する。径方向Ｄ２において、磁性部８２Ａは、トラック幅に相当する長さや、複数のトラックにわたる長さを有する。一方、磁性部８２Ｂは、垂直磁気異方性を有し、ユーザデータ領域Ｓ２に含まれる。ユーザデータ領域Ｓ２における複数の磁性部８２Ｂの各々は図２５に示すようにドット状の単一の記録セルをなすように設けられ、各磁性部８２Ｂが所定方向に磁化されて、周方向Ｄ１に連なる磁性部８２Ｂにおいて所定のユーザデータが記録されている。ＢＰＭたる磁気ディスク８０では、記録セルをなすための磁性部８２Ｂよりも、サーボ情報をなすための上述の磁性部８２Ａは、磁気ディスク８０の径方向Ｄ２において長い。
【０００７】
図２７から図２９は、従来の磁気ディスク８０の製造方法を表す。磁気ディスク８０の製造においては、まず、図２７（ａ）に示すように、垂直磁気異方性を有する磁性膜８２’がディスク基板８１上に形成される。次に、図２７（ｂ）に示すように、スピンコーティング法により、磁性膜８２’上に所定のレジスト膜８４が形成される。次に、図２７（ｃ）および図２８（ａ）に示すように、スタンパ８５を使用したインプリント工程が行われる。スタンパ８５は複数の凹部８５ａを有する。凹部８５ａは、上述の記録層８２における磁性部８２Ａ，８２Ｂに対応するパターン形状を有する。本工程では、このようなスタンパ８５がレジスト膜８４に押し付けられる。これにより、スタンパ８５の凹凸情報がレジスト膜８４に転写されて、磁性膜８２’上にレジストパターン８４Ａが形成される。レジストパターン８４Ａは、上述の記録層８２における磁性部８２Ａ，８２Ｂに対応するパターン形状を有する。インプリント工程の後、レジストパターン８４Ａからスタンパ８５が取り外される。
【０００８】
本方法では、次に、図２８（ｂ）に示すように、レジストパターン８４Ａがマスクとして利用されて磁性膜８２’に対してドライエッチングが施され、磁性膜８２’がパターニングされる。これにより、上述の磁性部８２Ａ，８２Ｂがパターン形成されることとなる。次に、図２９（ａ）に示すように、レジストパターン８４Ａが除去される。次に、図２９（ｂ）に示すように、磁性部８２Ａ，８２Ｂ間に非磁性部８２Ｃが形成される。次に、図２９（ｃ）に示すように、保護膜８３が形成される。以上のような方法により、パターニングされた磁性部８２Ａ，８２Ｂを有する従来の磁気ディスク８０は製造される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
磁気ディスク８０において、サーボ領域Ｓ１に含まれる磁性部８２Ａと、ユーザデータ領域Ｓ２に含まれる磁性部８２Ｂとは、上述のように同じ磁性膜８２’に由来して形成され、同じ組成の磁性材料よりなる。しかしながら、磁性部８２Ａの保磁力と磁性部８２Ｂの保磁力とは有意に異なる。磁性部８２Ａ，８２Ｂは同じ組成の磁性材料よりなるけれども、磁性部８２Ａの保磁力と磁性部８２Ｂの保磁力とは有意に異なるのである。
【００１０】
膜状であって垂直磁気異方性を有する磁性部の保磁力は、当該磁性部のパターン形状によって異なり得るところ、当該磁性部の磁気的な孤立度が高いほど、当該磁性部の保磁力は高い傾向にあることが知られている。すなわち、膜状であって垂直磁気異方性を有する磁性部の広がり面積が大きいほど、当該磁性部の保磁力は小さい傾向にあることが知られている。そして、膜状であって垂直磁気異方性を有する磁性部の保磁力は、当該磁性部における磁化反転の生じやすさに影響を与える。保磁力が小さいほど、磁性部は磁化反転しやすい。
【００１１】
従来の磁気ディスク８０においては、サーボ領域Ｓ１に含まれる磁性部８２Ａは、上述のように径方向Ｄ２に延びる形状を有し、ユーザデータ領域Ｓ２に含まれるドット状の磁性部８２Ｂよりも、広がり面積が大きい。そのため、磁性部８２Ａの保磁力は、磁性部８２Ｂの保磁力よりも有意に小さい。
【００１２】
サーボ領域Ｓ１の磁性部８２Ａについて、磁気記録装置における記録用の磁気ヘッドからの漏れ磁界などの磁気的外乱の作用によって磁化反転が生じない程度に保磁力を大きく設定する場合、磁性部８２Ａよりも磁性部８２Ｂは更に保磁力が大きい。このような高保磁力の磁性部８２Ｂに対しては、記録用磁気ヘッドによって磁気記録しにくい（即ち、この場合の磁性部８２Ｂは書換え性が低い）。高保磁力の磁性部８２Ｂを磁化反転させて書換えるためには、比較的大きな記録磁界を印加する必要があるからである。
【００１３】
一方、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部８２Ｂについて、記録用磁気ヘッドによって比較的小さな記録磁界で磁化方向を反転可能な程度に保磁力を小さく設定する場合、磁性部８２Ｂよりも磁性部８２Ａは更に保磁力が小さい。この場合、磁性部８２Ａは、例えば、記録用磁気ヘッドによる磁気ディスク８０への書き込み処理に際し、当該ヘッドからの漏れ磁界などの磁気的外乱の作用によって磁化反転してしまうことがある。サーボ領域Ｓ１にてサーボ情報を保持する複数の磁性部８２Ａにおいて、磁化方向が本来的な方向から反転している磁性部８２Ａが存在すると、再生装置における再生用磁気ヘッドが当該サーボ領域Ｓ１において適切なサーボ情報を読み取ることができない。すなわち、再生装置においてサーボ情報検出エラーが多発して好ましくない。
【００１４】
本発明は、以上のような事情の下で考え出されたものである。本発明の目的は、記録層のサーボ領域およびユーザデータ領域の各々において複数の磁性部が離隔して設けられた磁気記録媒体において、ユーザデータ領域の磁性部について高い書換え性を実現しつつ、サーボ領域の磁性部の磁化反転を抑制することである。本発明の他の目的は、そのような磁気記録媒体を備える磁気記録装置、および、そのような磁気記録媒体を製造するための方法を、提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の第１の側面によると磁気記録媒体が提供される。この磁気記録媒体は、第１面および当該第１面とは反対の第２面を有し且つサーボ領域およびユーザデータ領域を含む記録層を備える。サーボ領域は、複数の第１磁性部および当該第１磁性部間に介在する第１非磁性部を含む。ユーザデータ領域は、複数の第２磁性部および当該第２磁性部間に介在する第２非磁性部を含む。第２非磁性部は、記録層の第１面の側において、第２磁性部よりも退避し且つ第１非磁性部よりも退避している。本磁気記録媒体において、サーボ領域に含まれる第１磁性部にはサーボ情報を保持させることが可能である。本磁気記録媒体において、ユーザデータ領域に含まれる第２磁性部にはユーザデータを記録することが可能である。
【００１６】
本磁気記録媒体の記録層のユーザデータ領域（ＵＲ）において、第２非磁性部は、記録層の第１面側にて第２磁性部よりも退避している。そのため、記録層のユーザデータ領域における第１面側の表面（ＵＲ表面）は、凹凸形状（第２磁性部の頂面が凸部頂面をなし且つ第２非磁性部の頂面が凹部底面をなす）を有する。これに対し、サーボ領域（ＳＲ）の第１非磁性部については、記録層の第１面側にて第１磁性部よりも退避するように設けるか、或は第１面側にて第１磁性部と面一に設けることが可能であるところ、当該第１非磁性部よりも上述の第２非磁性部は第１面側にて退避している。そのため、記録層のサーボ領域における第１面側の表面（ＳＲ表面）がたとえ凹凸形状を有する場合であっても、ＳＲ表面の当該凹凸形状の凹部よりも、ＵＲ表面の上記凹凸形状の凹部は、深い。
【００１７】
このような本磁気記録媒体に対する書込みを行うに際しては、本媒体の記録層の第１面（記録面）側に、記録用の磁気ヘッド（記録ヘッド）を伴うスライダを対向させつつ、記録面に対して当該スライダないし記録ヘッドを相対移動させる。相対移動するスライダと記録面との間には空気流が生じ、記録ヘッドを伴うスライダは記録面から浮上する。相対移動速度が例えば一定である場合、スライダと記録面との間に形成される空間体積が一定に維持される距離、記録ヘッドを伴うスライダは記録面から浮上する傾向にある。そのため、例えば一定速度でスライダと記録面とが相対移動する場合、サーボ領域での記録ヘッドの浮上量（記録面の頂面レベルからの距離）より、ユーザデータ領域での記録ヘッドの浮上量は、小さい。ユーザデータ領域にスライダが対向するときには、ＵＲ表面における上述の深い凹部が、ＵＲ表面とスライダの間の空間体積の一部をなすからである。ユーザデータ領域にスライダが対向するときには、前記の深い凹部がＵＲ表面―スライダ間の空間体積の一部をなすため、ユーザデータ領域対向時の記録ヘッドと記録面の最短距離は、サーボ領域対向時の記録ヘッドと記録面の最短距離より、短いのである。或は、サーボ領域におけるよりも、ユーザデータ領域における方が、記録面の頂面レベルから平均レベルが退避しているので、記録面の頂面レベルと記録ヘッドの距離は小さくなる、と捉えることもできる。記録面の平均レベルとは、記録層の厚さ方向における、記録面の少なくとも一領域の平均位置である。
【００１８】
ＵＲにおける記録ヘッドの浮上量が小さいほど、ＵＲにおける第２磁性部に対し、当該記録ヘッドの発する記録磁界によって磁気記録しやすい。すなわち、ＵＲにおける記録ヘッドの浮上量が小さいほど、第２磁性部の書換え性は高い。また、ＳＲにおける記録ヘッドの浮上量が大きいほど、ＳＲにおける第１磁性部は、当該記録ヘッドからの漏れ磁界（記録磁界等）によっては磁化反転しにくい。すなわち、ＳＲにおける記録ヘッドの浮上量が大きいほど、第１磁性部の磁化反転は抑制される。
【００１９】
以上のように、記録用磁気ヘッドの浮上量がサーボ領域よりもユーザデータ領域で小さい本磁気記録媒体は、ユーザデータ領域の磁性部（第２磁性部）について高い書換え性を実現しつつ、サーボ領域の磁性部（第１磁性部）の磁化反転を抑制するのに適する。
【００２０】
本発明の第２の側面によると磁気記録装置が提供される。この磁気記録装置は、本発明の第１の側面に係る磁気記録媒体を備える。本発明の第１の側面に係る磁気記録媒体を備える本磁気記録装置では、その具備する磁気記録媒体において、第１の側面に関して上述した効果が奏される。
【００２１】
本発明の第３の側面によると磁気記録媒体製造方法が提供される。この方法は、磁性材層形成工程と、磁性材層パターニング工程と、非磁性材層形成工程と、非磁性材層エッチング工程とを含む。磁性材層形成工程では、第１領域および第２領域を有する基材の上に磁性材料を成膜することによって磁性材層を形成する。磁性材層パターニング工程では、磁性材層をパターニングすることによって、複数の第１磁性部を第１領域上に形成し、且つ、複数の第２磁性部を第２領域上に形成する。非磁性材層形成工程では、非磁性材料を第１磁性部間および第２磁性部間に堆積するように基材上に成膜することによって非磁性材層を形成する。非磁性材層エッチング工程では、非磁性材層に対して基材とは反対の側から異方性エッチング処理を施すことによって、第１領域上に第１非磁性部を形成し、且つ、当該第１非磁性部および第２磁性部よりも基材側に表面が退避した第２非磁性部を第２領域上に形成する。このような方法によると、本発明の第１の側面に係る磁気記録媒体を適切に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
図１から図３は、本発明の第１の実施形態に係る磁気ディスクＸ１を表す。図１は、磁気ディスクＸ１の平面図である。図２は、磁気ディスクＸ１の部分拡大平面図である。図３は、図２の線III−IIIに沿った断面図である。
【００２３】
磁気ディスクＸ１は、ディスク基板１、記録層２、軟磁性層３、および保護膜４（図１および図２では省略）を含む積層構造を有する、情報記録と情報再生とを実行可能なビットパターンドメディア（ＢＰＭ）である。
【００２４】
ディスク基板１は、主に、磁気ディスクＸ１の剛性を確保するための部位であり、例えば、アルミニウム合金、ガラス、シリコン、またはポリカーボネート樹脂よりなる。
【００２５】
記録層２は、図３に示すように、保護膜４側の第１面２ａおよびディスク基板１側の第２面２ｂを有し、図１に示すように、磁気ディスクＸ１の周方向Ｄ１において交互に配されたサーボ領域Ｓ１およびユーザデータ領域Ｓ２を含む。サーボ領域Ｓ１には、図２および図３に示すように、相互に離隔する複数の磁性部２１、および、磁性部２１間に介在する非磁性部２２が含まれる。ユーザデータ領域Ｓ２には、相互に離隔する複数の磁性部２３、および、磁性部２３間に介在する非磁性部２４が含まれる。このような記録層２には、サーボ領域Ｓ１およびユーザデータ領域Ｓ２にわたって延び且つ磁気ディスクＸ１の回転中心Ａを共通中心として同心円状に配された複数のトラックが設けられている。各トラックは、磁気ディスクＸ１の周方向Ｄ１に延びる。
【００２６】
サーボ領域Ｓ１における複数の磁性部２１の各々は、垂直磁気異方性を有し、図２に示すように、磁気ディスクＸ１の径方向Ｄ２に延びる形状を有する。径方向Ｄ２において、磁性部２１は、トラック幅に相当する長さや、複数のトラックにわたる長さを有する。このような磁性部２１は、例えば硬磁性材料よりなる。磁性部２１のための硬磁性材料としては、例えば、ＣｏＰｔ、ＣｏＰｔＣｒ、またはＳｍＣｏを採用することができる。また、磁性部２１の厚さ（図３に示す矢印Ｈ方向の長さ）は例えば３０〜５０ｎｍである。サーボ領域Ｓ１においては、磁気ディスクＸ１の周方向Ｄ１に連なる磁性部２１においてサーボ情報が保持される。
【００２７】
非磁性部２２は、例えばＳｉＮ、Ｃ、ＳｉＯ２などの非磁性材料よりなる。非磁性部２２の存在により、例えば磁性部２１間の磁気的相互作用が充分に抑制されて、各磁性部２１について充分に高い磁気的孤立度が確保されている。本実施形態では、非磁性部２２は、記録層２の第１面２ａ側において、磁性部２１よりも退避している。非磁性部２２の厚さ（図３の矢印Ｈ方向の長さ）は、本実施形態では磁性部２１の厚さより小さく、例えば２５〜４５ｎｍである。
【００２８】
ユーザデータ領域Ｓ２における複数の磁性部２３の各々は、垂直磁気異方性を有し、図２に示すように、ドット状の単一の記録セルをなすように設けられている。図２に表れている磁性部２３の直径は、例えば１０〜３０ｎｍである。このような磁性部２３は、例えば硬磁性材料よりなる。磁性部２３のための硬磁性材料としては、例えば、ＣｏＰｔ、ＣｏＰｔＣｒ、またはＳｍＣｏを採用することができる。磁性部２３のための磁性材料は、磁性部２１のための磁性材料と、同じであってもよいし、異なってもよい。また、磁性部２３の厚さ（図３の矢印Ｈ方向の長さ）は、例えば３０〜５０ｎｍである。ユーザデータ領域Ｓ２においては、各磁性部２３が所定方向に磁化されて、磁気ディスクＸ１の周方向Ｄ１に連なる磁性部２３において所定のユーザデータが書き換え可能に記録されている。
【００２９】
非磁性部２４は、例えばＳｉＮ、Ｃ、ＳｉＯ２などの非磁性材料よりなる。非磁性部２４の存在により、例えば磁性部２３間の磁気的相互作用が充分に抑制されて、各磁性部２３について充分に高い磁気的孤立度が確保されている。本実施形態では、非磁性部２４は、記録層２の第１面２ａ側において、磁性部２１，２３よりも退避しており且つ非磁性部２２よりも退避している。非磁性部２４の厚さ（図３の矢印Ｈ方向の長さ）は、本実施形態では磁性部２１，２３の厚さ及び非磁性部２２の厚さより小さく、例えば２０〜４０ｎｍである。
【００３０】
軟磁性層３は、磁気ディスクＸ１への書込み時等に保護膜４に対向する記録用の磁気ヘッドからの磁束を再び当該ヘッドに環流させる磁路を効率よく形成するためのものである。このような軟磁性層３は、高透磁率を有して大きな飽和磁化を有するとともに小さな保磁力を有する軟磁性材料よりなる。書込み時には、記録用磁気ヘッドによる記録磁界の印加によって、ユーザデータ領域Ｓ２の各磁性部２３が所定方向に磁化されるところ、軟磁性層３が存在することにより、磁性部２３を磁化反転させるのに必要な実効的な記録磁界を低減させることが可能となる。軟磁性層３のための軟磁性材料としては、例えば、ＦｅＣ、ＦｅＮｉ、ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＣ、またはＦｅＣｏ−ＡｌＯを採用することができる。
【００３１】
保護膜４は、記録層２や軟磁性層３を外界から物理的および化学的に保護するための部位であり、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ２、またはダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）よりなる。保護膜４の厚さは、例えば１〜５ｎｍである。
【００３２】
保護膜４の露出面は、磁気ディスクＸ１の記録面５をなす。記録面５は、記録層２の第１面２ａに追従した凹凸形状を有する。具体的には、記録面５は、サーボ領域Ｓ１にて頂面５ａを含み且つ凹部５ｂをなし、ユーザデータ領域Ｓ２にて頂面５ｃを含み且つ凹部５ｄをなす。記録層２においては、サーボ領域Ｓ１の非磁性部２２は、上述のように、記録層２の第１面２ａ側にてサーボ領域Ｓ１の磁性部２１よりも退避している。そして、ユーザデータ領域Ｓ２の非磁性部２４は、記録層２の第１面２ａ側にて、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３よりも退避し、且つ、サーボ領域Ｓ１の非磁性部２２よりも退避している。そのため、ユーザデータ領域Ｓ２における記録面５の凹部５ｄは、サーボ領域Ｓ１における記録面５の凹部５ｂよりも、深い。すなわち、凹部５ｄの底面は、凹部５ｂの底面よりも、記録面５の頂面レベル（記録層２の厚さ方向における頂面５ａ，５ｂの位置）から退避している。
【００３３】
以上のようなディスク基板１、記録層２、軟磁性層３、および保護膜４を含む磁気ディスクＸ１の積層構造中には、必要に応じて他の層が含まれてもよい。また、磁気ディスクＸ１は、記録層２、軟磁性層３、および保護膜４を含む積層構造をディスク基板１の片面または両面に有する。
【００３４】
磁気ディスクＸ１に対する書込みを行うに際しては、図４や図５に示すように記録用の磁気ヘッドたる記録ヘッド６を伴うスライダ７を記録面５に対向させつつ、磁気ディスクＸ１をその回転中心Ａ（図１に示す）まわりに所定速度で回転させる。図４は、記録ヘッド６を伴うスライダ７が、記録層２のサーボ領域Ｓ１に対向している状態を表す。図４（ｂ）は図４（ａ）の部分拡大図である。図５は、記録ヘッド６を伴うスライダ７が、記録層２のユーザデータ領域Ｓ２に対向している状態を表す。図５（ｂ）は図５（ａ）の部分拡大図である。
【００３５】
回転する磁気ディスクＸ１の記録面５とスライダ７の間には、空気流が生じ、記録ヘッド６を伴うスライダ７は記録面５から浮上する。スライダ７にて記録面５に対向する側の面は、回転する磁気ディスクＸ１の記録面５とスライダ７の間に、スライダ７を記録面５から離そうとする正圧とスライダ７を記録面５に引き付けようとする負圧とを生ずるための凹凸（図４，５にて省略）を有する。図６は、スライダ７の一平面図であり、スライダ７において記録面５に対向する側の面（ＡＢＳ；Air Bearing Surface）の一例を表す。図６では、ＡＢＳにおける凸部について、斜線ハッチングを付して表す。
【００３６】
回転する磁気ディスクＸ１の記録面５とスライダ７の間に生ずる正圧および負圧のバランスに基づき、記録ヘッド６のヘッド浮上量が定まる。そして、磁気ディスクＸ１の回転速度が例えば一定である場合、スライダ７と記録面５との間に形成される空間体積が一定に維持される距離、記録ヘッド６を伴うスライダ７は記録面５から浮上する傾向にある。そのため、磁気ディスクＸ１の回転速度が例えば一定である場合、サーボ領域Ｓ１での記録ヘッド６の図４（ｂ）に示す浮上量ｄ１（記録面５の頂面レベルからの距離）より、ユーザデータ領域Ｓ２での記録ヘッド６の図５（ｂ）に示す浮上量ｄ２は、小さい。ユーザデータ領域Ｓ２にスライダ７が対向するときには、記録面５における深い凹部５ｄが、記録面５とスライダ７の間の空間体積の一部をなすからである。ユーザデータ領域Ｓ２にスライダ７が対向するときに深い凹部５ｄが記録面―スライダ間の空間体積の一部をなすため、ユーザデータ領域対向時の記録ヘッド６と記録面５の最短距離は、サーボ領域対向時の記録ヘッド６と記録面５の最短距離より短いのである。或は、サーボ領域Ｓ１におけるよりも、ユーザデータ領域Ｓ２における方が、記録面５の頂面レベルから記録面５の平均レベルが退避しているので、記録面５の頂面レベルと記録ヘッド６の距離は小さくなる、と捉えることもできる。記録面５の平均レベルとは、記録層２の厚さ方向における、記録面５の少なくとも一領域の平均位置である。図４（ｂ）には、サーボ領域Ｓ１における記録面５の平均レベル５’を破線で示す。図５（ｂ）には、ユーザデータ領域Ｓ２における記録面５の平均レベル５”を破線で示す。
【００３７】
ユーザデータ領域Ｓ２における記録ヘッド６の浮上量ｄ２が小さいほど、ユーザデータ領域Ｓ２における磁性部２３に対し、記録ヘッド６の発する記録磁界によって磁気記録しやすい。すなわち、ユーザデータ領域Ｓ２における記録ヘッド６の浮上量ｄ２が小さいほど、磁性部２３の書換え性は高い。また、サーボ領域Ｓ１における記録ヘッド６の浮上量ｄ１が大きいほど、サーボ領域Ｓ１における磁性部２１は、記録ヘッド６からの漏れ磁界（記録磁界等）によっては磁化反転しにくい。すなわち、サーボ領域Ｓ１における記録ヘッド６の浮上量ｄ１が大きいほど、磁性部２１の磁化反転は抑制される。
【００３８】
以上のように、スライダ７に伴う記録ヘッド６の浮上量がサーボ領域Ｓ１よりもユーザデータ領域Ｓ２で小さい磁気ディスクＸ１は、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３について高い書換え性を実現しつつ、サーボ領域Ｓ１の磁性部２１の磁化反転を抑制するのに適する。
【００３９】
磁気ディスクＸ１において、記録面５は、上述のように、サーボ領域Ｓ１にて凹部５ｂをなす（凹部５ｂは、ユーザデータ領域Ｓ２における凹部５ｄより浅い）。この凹部５ｂの深さを調節することにより、サーボ領域対向時の記録ヘッド６の上述の浮上量ｄ１を調整することが可能であり、ユーザデータ領域対向時の記録ヘッド６の上述の浮上量ｄ２と当該浮上量ｄ１との差を調整することが可能である。
【００４０】
図７から図１１は、磁気ディスクＸ１の製造方法を表す。本方法においては、まず、図７（ａ）に示すように、ディスク基板１上に、軟磁性層３、磁性膜２’、およびレジスト膜８を順次形成する。軟磁性層３の形成においては、例えばスパッタリング法により、軟磁性層３に関して上述した軟磁性材料をディスク基板１上に成膜する。磁性膜２’の形成においては、例えばスパッタリング法により、磁性部２１，２３に関して上述した磁性材料を軟磁性層３上に成膜する。レジスト膜８の形成においては、熱硬化型レジスト材料または紫外線硬化型レジスト材料をスピンコーティング法によって磁性膜２’上に成膜する。
【００４１】
次に、図７（ｂ）および図８（ａ）に示すように、スタンパ９を使用してインプリント工程を行う。スタンパ９は、製造すべき磁気ディスクＸ１におけるサーボ領域Ｓ１に対応する領域Ｓ３とユーザデータ領域Ｓ２に対応する領域Ｓ４とを含む。また、スタンパ９は、転写面９Ａを有し、転写面９Ａ側に複数の凹部９ａを有する（即ち、転写面９Ａは凹凸形状を伴う）。領域Ｓ３における複数の凹部９ａの開口形状は、磁気ディスクＸ１における記録層２のサーボ領域Ｓ１に含まれる複数の磁性部２１に対応したパターンを有する。領域Ｓ４における複数の凹部９ａの開口形状は、磁気ディスクＸ１における記録層２のユーザデータ領域Ｓ２に含まれる複数の磁性部２３に対応したパターンを有する。レジスト膜８として紫外線硬化型レジスト材料よりなるものを採用する場合、スタンパ９としては、紫外線が透過可能なものを使用する。スタンパ９は、例えば石英基板に対して凹部９ａを形成することによって作製することができる。
【００４２】
本インプリント工程では、このようなスタンパ９の転写面９Ａをレジスト膜８に押し付ける。レジスト膜８が熱硬化型レジスト材料よりなる場合、スタンパ９をレジスト膜８に押し付けた状態で加熱してレジスト膜８を硬化させる。レジスト膜８が紫外線硬化型レジスト材料よりなる場合、スタンパ９をレジスト膜８に押し付けた状態でレジスト膜８に対して紫外線を照射してレジスト膜８を硬化させる。このようなインプリント工程によって、転写面９Ａの凹凸形状がレジスト膜８に転写されて、レジストマスク８Ａが形成される。レジストマスク８Ａは、スタンパ９の凹部９ａに対応した凸部８ａを有する。
【００４３】
また、本インプリント工程では、図８（ａ）に示すように、スタンパ９は磁性膜２’に至らず、磁性膜２’とスタンパ９との間にはレジスト材料が残存するのが好ましい。スタンパ９が磁性膜２’に至ると、形成されるレジストマスク８Ａと磁性膜２’との接触面積が低下するなどしてレジストマスク８Ａが磁性膜２’から剥離しやすくなってしまう。そのような剥離が生じないように、スタンパ９と磁性膜２’との間にレジスト材料が残されるのが好ましいのである。
【００４４】
磁気ディスクＸ１の製造においては、スタンパ９を使用して行う上述のインプリント工程の後、図８（ｂ）に示すように、スタンパ９をレジストマスク８Ａから取り外す。
【００４５】
次に、図９（ａ）に示すように、凸部８ａを有するレジストマスク８Ａをマスクとして利用して、レジストマスク８Ａの側から磁性膜２’に対して異方性ドライエッチングを施すことにより、上述の磁性部２１，２３をパターン形成する。磁性部２１は、ディスク基板１上ないし軟磁性層３上において、記録層２のサーボ領域Ｓ１に対応した第１領域に形成される。磁性部２３は、ディスク基板１上ないし軟磁性層３上において、記録層２のユーザデータ領域Ｓ２に対応した第２領域に形成される。異方性ドライエッチングとしては、ＤＲＩＥ（Deep Reactive Ion Etching）を採用することができる。ＤＲＩＥでは、ＳＦ６ガスを用いて行うエッチングとＣ４Ｆ８ガスを用いて行う側壁保護とを交互に繰り返すＢｏｓｃｈプロセスにおいて、良好な異方性エッチング加工を行うことができる。後出のＤＲＩＥについても、このようなＢｏｓｃｈプロセスを採用することができる。この後、例えば所定の剥離液を作用させることによって、レジストマスク８Ａを除去する。
【００４６】
次に、図９（ｂ）に示すように非磁性膜２”を形成する。具体的には、磁性部２１，２３間の隙間を充填しつつ磁性部２１，２３を覆うように、非磁性部２２，２４に関して上述した非磁性材料を堆積させる。
【００４７】
次に、図９（ｃ）に示すように、非磁性膜２”上にレジスト膜１０を形成する。レジスト膜１０の形成においては、熱硬化型レジスト材料または紫外線硬化型レジスト材料をスピンコーティング法によって非磁性膜２”上に成膜する。
【００４８】
次に、図１０（ａ）および図１０（ｂ）に示すように、スタンパ１１を使用してインプリント工程を行う。スタンパ１１は、製造すべき磁気ディスクＸ１におけるサーボ領域Ｓ１に対応する領域Ｓ５とユーザデータ領域Ｓ２に対応する領域Ｓ６とを含む。また、スタンパ１１は、転写面１１Ａを有し、この転写面１１Ａ側において、領域Ｓ５の表面は領域Ｓ６の表面よりも退避している。レジスト膜１０として紫外線硬化型レジスト材料よりなるものを採用する場合、スタンパ１１としては、紫外線が透過可能なものを使用する。スタンパ１１は、例えば石英基板に対して領域Ｓ５の退避形状を形成することによって作製することができる。
【００４９】
本インプリント工程では、このようなスタンパ１１の転写面１１Ａをレジスト膜１０に押し付ける。レジスト膜１０が熱硬化型レジスト材料よりなる場合、スタンパ１１をレジスト膜１０に押し付けた状態で加熱してレジスト膜１０を硬化させる。レジスト膜１０が紫外線硬化型レジスト材料よりなる場合、スタンパ１１をレジスト膜１０に押し付けた状態でレジスト膜１０に対して紫外線を照射してレジスト膜１０を硬化させる。このようなインプリント工程によって、転写面１１Ａの凹凸形状がレジスト膜１０に転写されて、レジストマスク１０Ａが形成される。レジストマスク１０Ａは、部分１０ａおよび部分１０ｂを有する。部分１０ａは、磁気ディスクＸ１の記録層２のサーボ領域Ｓ１に対応するパターン形状を有する。部分１０ｂは、記録層２のユーザデータ領域Ｓ２に対応するパターン形状を有し、部分１０ａより薄い。
【００５０】
磁気ディスクＸ１の製造においては、スタンパ１１を使用して行う上述のインプリント工程の後、スタンパ１１をレジストマスク１０Ａから取り外す。その後、図１０（ｃ）に示すように、部分１０ｂを除去する。例えば、プラズマエッチングによって部分１０ｂを除去することができる。
【００５１】
次に、図１１（ａ）に示すように、レジストマスク１０Ａの部分１０ａをマスクとして利用して、レジストマスク１０Ａの側から非磁性膜２”に対して異方性ドライエッチングを施す。異方性ドライエッチングとしては、ＤＲＩＥを採用することができる。
【００５２】
次に、図１１（ｂ）に示すように、レジストマスク１０Ａないし部分１０ａを除去する。例えば所定の剥離液を作用させることによって、レジストマスク１０Ａを除去することができる。
【００５３】
次に、図１１（ｃ）に示すように、非磁性膜２”に対して異方性ドライエッチングを施して、上述の非磁性部２２，２４を形成する。本工程にて、記録層２が形成されることとなる。異方性ドライエッチングとしては、ＤＲＩＥを採用することができる。
【００５４】
次に、図１１（ｄ）に示すように保護膜４を形成する。保護膜４の形成においては、例えばスパッタリング法により、保護膜４に関して上述した材料を記録層２上に成膜する。以上のようにして、上述の磁気ディスクＸ１を適切に製造することができる。
【００５５】
本方法においては、磁性部２１，２３をパターニングする際に必要なマスク（所定の凸部８ａを有するレジストマスク８Ａ）の形成にあたり、スタンパ９を使用して行うインプリント法を採用するため、電子ビーム描画装置を使用する必要はない。すなわち、磁気ディスクＸ１ごとの製造過程において、長時間にわたる電子ビーム描画装置による露光処理を行う必要はない。したがって、本方法は、磁気ディスクＸ１を効率よく製造するのに適し、磁気ディスクＸ１の量産化を図りやすい。
【００５６】
図１２は、本発明の第２の実施形態に係る磁気ディスクＸ２を表す。図１２は、磁気ディスクＸ２の部分拡大平面図であり、第１の実施形態に係る上述の磁気ディスクＸ１にとっての図３に相当する。
【００５７】
磁気ディスクＸ２は、ディスク基板１、記録層２、軟磁性層３、および保護膜４’を含む積層構造を有する、情報記録と情報再生とを実行可能なＢＰＭである。磁気ディスクＸ２は、保護膜４に代えて保護膜４’を備える点において、磁気ディスクＸ１と異なる。
【００５８】
保護膜４’は、記録層２や軟磁性層３を外界から物理的および化学的に保護するための部位であり、部分４ａおよび部分４ｂを含む。部分４ａは、記録層２のサーボ領域Ｓ１を覆い、部分４ｂより厚い。部分４ａの厚さは、部分４ｂより厚い限りにおいて、例えば２〜１０ｎｍである。部分４ｂは、記録層２のユーザデータ領域Ｓ２を覆う。部分４ｂの厚さは、例えば１〜５ｎｍである。このような保護膜４’は、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ２、またはダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）よりなる。
【００５９】
保護膜４’の露出面は、磁気ディスクＸ２の記録面５をなす。磁気ディスクＸ２の記録面５は、磁気ディスクＸ１の記録面５と同様に、サーボ領域Ｓ１にて頂面５ａを含み且つ凹部５ｂをなし、ユーザデータ領域Ｓ２にて頂面５ｃを含み且つ凹部５ｄをなす。磁気ディスクＸ２の記録面５の凹部５ｄは、磁気ディスクＸ１の記録面５の凹部５ｄと同様に、サーボ領域Ｓ１における記録面５の凹部５ｂよりも、深い。
【００６０】
保護膜４’以外の磁気ディスクＸ２の構成は、保護膜４以外の磁気ディスクＸ１の構成と同じである。ディスク基板１、記録層２、軟磁性層３、および保護膜４’を含む磁気ディスクＸ２の積層構造中には、必要に応じて他の層が含まれてもよい。また、磁気ディスクＸ２は、記録層２、軟磁性層３、および保護膜４’を含む積層構造をディスク基板１の片面または両面に有する。
【００６１】
磁気ディスクＸ２に対する書込み時には、磁気ディスクＸ１に対する書込みについて図４および図５を参照して上述したのと同様に、記録ヘッドを伴うスライダ（図示略）を記録面５に対向させつつ、磁気ディスクＸ２をその回転中心まわりに所定速度で回転させる。磁気ディスクＸ２は、磁気ディスクＸ１と同様に、ユーザデータ領域Ｓ２における記録面５に深い凹部５ｄを有する。そのため、磁気ディスクＸ１に対する書込み関して上述したのと同様の理由で、磁気ディスクＸ２の回転速度が例えば一定である場合には、サーボ領域Ｓ１での記録ヘッドの浮上量より、ユーザデータ領域Ｓ２での記録ヘッドの浮上量は小さい。したがって、磁気ディスクＸ２は、磁気ディスクＸ１に関して上述したのと同様の理由で、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３について高い書換え性を実現しつつ、サーボ領域Ｓ１の磁性部２１の磁化反転を抑制するのに適する。
【００６２】
磁気ディスクＸ２においては、保護膜４’の部分４ｂが薄いほど、記録時に記録ヘッドによって印加される記録磁界の、記録層２のユーザデータ領域Ｓ２における実効的な強度は、大きい傾向にある。また、磁気ディスクＸ２においては、保護膜４’の部分４ａが厚いほど、記録ヘッドからの漏れ磁界（記録磁界等）の、記録層２のサーボ領域Ｓ１における実効的な強度は、小さい傾向にある。保護膜４’において記録層２のサーボ領域Ｓ１を覆う部分４ａがユーザデータ領域Ｓ２を覆う部分４ｂよりも厚いという構成は、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３について高い書換え性を実現しつつサーボ領域Ｓ１の磁性部２１の磁化反転を抑制するのに資する。
【００６３】
図１３から図１４は、磁気ディスクＸ２の製造方法を表す。本方法においては、まず、図７から図１１を参照して上述した過程を経て磁気ディスクＸ１を製造した後、図１３（ａ）に示すように、磁気ディスクＸ１の保護膜４上にレジスト膜１２を形成する。レジスト膜１２は例えばスピンオンガラス（ＳＯＧ）よりなる。レジスト膜１２の形成においては、例えば、所定のガラス材料をスピンコーティング法によって磁気ディスクＸ１の保護膜４上に成膜する。
【００６４】
次に、図１３（ｂ）および図１３（ｃ）に示すように、スタンパ１３を使用してインプリント工程を行う。スタンパ１３は、製造すべき磁気ディスクＸ２におけるサーボ領域Ｓ１に対応する領域Ｓ７とユーザデータ領域Ｓ２に対応する領域Ｓ８とを含む。また、スタンパ１３は、転写面１３Ａを有し、この転写面１３Ａ側において、領域Ｓ７の表面は領域Ｓ８の表面よりも退避している。
【００６５】
本インプリント工程では、このようなスタンパ１３の転写面１３Ａをレジスト膜１２に押し付ける。レジスト膜１２のための材料としてＳＯＧを採用する場合、スタンパ１３をレジスト膜１２に押し付けた状態で加熱してレジスト膜１２を硬化させる。このようなインプリント工程によって、転写面１３Ａの凹凸形状がレジスト膜１２に転写されて、レジストマスク１２Ａが形成される。レジストマスク１２Ａは、部分１２ａおよび部分１２ｂを有する。部分１２ａは、磁気ディスクＸ２の記録層２のサーボ領域Ｓ１に対応するパターン形状を有する。部分１２ｂは、記録層２のユーザデータ領域Ｓ２に対応するパターン形状を有し、部分１２ａより薄い。
【００６６】
磁気ディスクＸ２の製造においては、スタンパ１３を使用して行う上述のインプリント工程の後、スタンパ１３をレジストマスク１２Ａから取り外す。その後、図１４（ａ）に示すように、部分１２ｂを除去する。例えば、レジストマスク１２Ａに対してＤＲＩＥを施すことによって、部分１２ａを残存させつつ薄い部分１２ｂを除去することができる。
【００６７】
次に、図１４（ｂ）に示すように、レジストマスク１２Ａないし部分１２ａをマスクとして利用して、保護膜４に対してエッチング処理を施す。エッチング手法としては、例えばプラズマエッチングを採用することができる。これにより、記録層２のユーザデータ領域Ｓ２上にある保護膜４を除去する。
【００６８】
次に、図１４（ｃ）に示すように、レジストマスク１２Ａないし部分１２ａを除去する。除去手法としては、例えばＤＲＩＥを採用することができる。
【００６９】
次に、図１４（ｄ）に示すように保護膜４’を形成する。例えば、記録層２上および残存する保護膜４上にわたり、保護膜４’に関して上述した材料をスパッタリング法によって成膜することにより、保護膜４’を形成することができる。以上のようにして、上述の磁気ディスクＸ２を適切に製造することができる。
【００７０】
図１５から図１７は、本発明の第３の実施形態に係る磁気ディスクＸ３を表す。図１５は、磁気ディスクＸ３の平面図である。図１６は、磁気ディスクＸ３の部分拡大平面図である。図１７は、図１６の線XVII−XVIIに沿った断面図である。
【００７１】
磁気ディスクＸ３は、ディスク基板１、記録層２Ａ、軟磁性層３、および保護膜４Ａ（図１５および図１６では省略）を含む積層構造を有する、情報記録と情報再生とを実行可能なＢＰＭである。磁気ディスクＸ３は、記録層２に代えて記録層２Ａを備える点、および、保護膜４に代えて保護膜４Ａを備える点において、磁気ディスクＸ１と異なる。
【００７２】
記録層２Ａは、図１７に示すように、保護膜４Ａ側の第１面２ａおよびディスク基板１側の第２面２ｂを有し、図１５に示すように、磁気ディスクＸ３の周方向Ｄ１において交互に配されたサーボ領域Ｓ１およびユーザデータ領域Ｓ２を含む。記録層２Ａのサーボ領域Ｓ１には、図１６および図１７に示すように、相互に離隔する複数の磁性部２１、および、磁性部２１間に介在する非磁性部２２が含まれる。記録層２Ａのユーザデータ領域Ｓ２には、相互に離隔する複数の磁性部２３、および、磁性部２３間に介在する非磁性部２４が含まれる。このような記録層２Ａには、サーボ領域Ｓ１およびユーザデータ領域Ｓ２にわたって延び且つ磁気ディスクＸ３の回転中心Ａを共通中心として同心円状に配された複数のトラックが設けられている。各トラックは、磁気ディスクＸ３の周方向Ｄ１に延びる。
【００７３】
サーボ領域Ｓ１における複数の磁性部２１の各々は、垂直磁気異方性を有し、図１６に示すように、磁気ディスクＸ３の径方向Ｄ２に延びる形状を有する。径方向Ｄ２において、磁性部２１は、トラック幅に相当する長さや、複数のトラックにわたる長さを有する。このような磁性部２１は、例えば硬磁性材料よりなる。磁性部２１のための硬磁性材料としては、例えば、ＣｏＰｔ、ＣｏＰｔＣｒ、またはＳｍＣｏを採用することができる。また、磁性部２１の厚さ（図１７に示す矢印Ｈ方向の長さ）は例えば３０〜５０ｎｍである。サーボ領域Ｓ１においては、磁気ディスクＸ３の周方向Ｄ１に連なる磁性部２１においてサーボ情報が保持される。
【００７４】
非磁性部２２は、例えばＳｉＮ、Ｃ、ＳｉＯ２などの非磁性材料よりなる。非磁性部２２の存在により、例えば磁性部２１間の磁気的相互作用が充分に抑制されて、各磁性部２１について充分に高い磁気的孤立度が確保されている。本実施形態では、非磁性部２２は、記録層２Ａの第１面２ａ側において、磁性部２１と面一である。
【００７５】
ユーザデータ領域Ｓ２における複数の磁性部２３の各々は、垂直磁気異方性を有し、図１６に示すように、ドット状の単一の記録セルをなすように設けられている。図１６に表れている磁性部２３の直径は、例えば１０〜３０ｎｍである。このような磁性部２３は、例えば硬磁性材料よりなる。磁性部２３のための硬磁性材料としては、例えば、ＣｏＰｔ、ＣｏＰｔＣｒ、またはＳｍＣｏを採用することができる。磁性部２３のための磁性材料は、磁性部２１のための磁性材料と、同じであってもよいし、異なってもよい。また、磁性部２３の厚さ（図１７の矢印Ｈ方向の長さ）は、例えば３０〜５０ｎｍである。ユーザデータ領域Ｓ２においては、各磁性部２３が所定方向に磁化されて、磁気ディスクＸ３の周方向Ｄ１に連なる磁性部２３において所定のユーザデータが書き換え可能に記録されている。
【００７６】
非磁性部２４は、例えばＳｉＮ、Ｃ、ＳｉＯ２などの非磁性材料よりなる。非磁性部２４の存在により、例えば磁性部２３間の磁気的相互作用が充分に抑制されて、各磁性部２３について充分に高い磁気的孤立度が確保されている。本実施形態では、非磁性部２４は、記録層２Ａの第１面２ａ側において、磁性部２１，２３および非磁性部２２よりも退避している。非磁性部２４の厚さ（図１７の矢印Ｈ方向の長さ）は、本実施形態では磁性部２１，２３の厚さ及び非磁性部２２の厚さより小さく、例えば２０〜４０ｎｍである。
【００７７】
保護膜４Ａは、記録層２Ａや軟磁性層３を外界から物理的および化学的に保護するための部位であり、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ２、またはダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）よりなる。保護膜４Ａの厚さは、例えば１〜５ｎｍである。
【００７８】
保護膜４Ａの露出面は、磁気ディスクＸ３の記録面５をなす。記録面５は、記録層２Ａの第１面２ａに追従した凹凸形状を有する。具体的には、記録面５は、ユーザデータ領域Ｓ２にて頂面５ｃを含み且つ凹部５ｄをなす。記録層２Ａにおいては、サーボ領域Ｓ１の非磁性部２２は、上述のように、記録層２Ａの第１面２ａ側にてサーボ領域Ｓ１の磁性部２１と面一である。そして、ユーザデータ領域Ｓ２の非磁性部２４は、記録層２Ａの第１面２ａ側にて、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３よりも退避し、且つ、サーボ領域Ｓ１の非磁性部２２よりも退避している。そのため、記録面５は、サーボ領域Ｓ１にて平らであり、且つ、ユーザデータ領域Ｓ２にて凹部５ｄをなす。
【００７９】
ディスク基板１および軟磁性層３の構成は、磁気ディスクＸ１に関して上述したのと同様である。
【００８０】
以上のようなディスク基板１、記録層２Ａ、軟磁性層３、および保護膜４Ａを含む磁気ディスクＸ３の積層構造中には、必要に応じて他の層が含まれてもよい。また、磁気ディスクＸ３は、記録層２Ａ、軟磁性層３、および保護膜４Ａを含む積層構造をディスク基板１の片面または両面に有する。
【００８１】
磁気ディスクＸ３に対する書込みを行うに際しては、図１８や図１９に示すように記録用の磁気ヘッドたる記録ヘッド６を伴うスライダ７を記録面５に対向させつつ、磁気ディスクＸ３をその回転中心Ａ（図１５に示す）まわりに所定速度で回転させる。図１８は、記録ヘッド６を伴うスライダ７が、記録層２Ａのサーボ領域Ｓ１に対向している状態を表す。図１８（ｂ）は図１８（ａ）の部分拡大図である。図１９は、記録ヘッド６を伴うスライダ７が、記録層２Ａのユーザデータ領域Ｓ２に対向している状態を表す。図１９（ｂ）は図１９（ａ）の部分拡大図である。
【００８２】
回転する磁気ディスクＸ３の記録面５とスライダ７の間には、空気流が生じ、記録ヘッド６を伴うスライダ７は記録面５から浮上する。スライダ７にて記録面５に対向する側の面は、回転する磁気ディスクＸ３の記録面５とスライダ７の間に、スライダ７を記録面５から離そうとする正圧とスライダ７を記録面５に引き付けようとする負圧とを生ずるための凹凸（図１８，１９にて省略）を有する。スライダ７において記録面５に対向する側の面（ＡＢＳ）の凹凸構造は、図６を参照して上述したとおりである。
【００８３】
回転する磁気ディスクＸ３の記録面５とスライダ７の間に生ずる正圧および負圧のバランスに基づき、記録ヘッド６のヘッド浮上量が定まる。そして、磁気ディスクＸ３の回転速度が例えば一定である場合、スライダ７と記録面５との間に形成される空間体積が一定に維持される距離、記録ヘッド６を伴うスライダ７は記録面５から浮上する傾向にある。そのため、磁気ディスクＸ３の回転速度が例えば一定である場合、サーボ領域Ｓ１での記録ヘッド６の図１８（ｂ）に示す浮上量ｄ１（記録面５の頂面レベルからの距離）より、ユーザデータ領域Ｓ２での記録ヘッド６の図１９（ｂ）に示す浮上量ｄ２は、小さい。ユーザデータ領域Ｓ２にスライダ７が対向するときには、記録面５における凹部５ｄが、記録面５とスライダ７の間の空間体積の一部をなすからである。ユーザデータ領域Ｓ２にスライダ７が対向するときに凹部５ｄが記録面５―スライダ７間の空間体積の一部をなすため、ユーザデータ領域対向時の記録ヘッド６と記録面５の最短距離は、サーボ領域対向時の記録ヘッド６と記録面５の最短距離より短いのである。或は、サーボ領域Ｓ１におけるよりも、ユーザデータ領域Ｓ２における方が、記録面５の頂面レベルから記録面５の平均レベルが退避しているので、記録面５の頂面レベルと記録ヘッド６の距離は小さくなる、と捉えることもできる。サーボ領域Ｓ１では、記録面５と、記録面５の頂面レベルと、記録面５の平均レベルとは、一致する。図１９（ｂ）には、ユーザデータ領域Ｓ２における記録面５の平均レベル５”を破線で示す。
【００８４】
ユーザデータ領域Ｓ２における記録ヘッド６の浮上量ｄ２が小さいほど、ユーザデータ領域Ｓ２における磁性部２３に対し、記録ヘッド６の発する記録磁界によって磁気記録しやすい。すなわち、ユーザデータ領域Ｓ２における記録ヘッド６の浮上量ｄ２が小さいほど、磁性部２３の書換え性は高い。また、サーボ領域Ｓ１における記録ヘッド６の浮上量ｄ１が大きいほど、サーボ領域Ｓ１における磁性部２１は、記録ヘッド６からの漏れ磁界（記録磁界等）によっては磁化反転しにくい。すなわち、サーボ領域Ｓ１における記録ヘッド６の浮上量ｄ１が大きいほど、磁性部２１の磁化反転は抑制される。
【００８５】
以上のように、スライダ７に伴う記録ヘッド６の浮上量がサーボ領域Ｓ１よりもユーザデータ領域Ｓ２で小さい磁気ディスクＸ３は、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３について高い書換え性を実現しつつ、サーボ領域Ｓ１の磁性部２１の磁化反転を抑制するのに適する。
【００８６】
図２０は、磁気ディスクＸ３の製造方法の一部の工程を表す。本方法においては、まず、第１の実施形態に関して図７（ａ）から図１１（ｂ）までを参照して上述した過程を経て、図２０（ａ）に示す構造体を得る。図２０（ａ）に示す構造体では、ディスク基板１上に軟磁性層３が設けられ、軟磁性層３上に磁性部２１，２３および非磁性膜２”が設けられている。
【００８７】
次に、図２０（ｂ）に示すように、非磁性膜２”に対して異方性ドライエッチングを施して、上述の非磁性部２２，２４を形成する。本工程では、磁性部２１と面一の非磁性部２２が形成された時点でエッチング処理を停止する。本工程にて、記録層２Ａが形成されることとなる。異方性ドライエッチングとしては、ＤＲＩＥを採用することができる。
【００８８】
次に、図２０（ｃ）に示すように保護膜４Ａを形成する。保護膜４Ａの形成においては、例えばスパッタリング法により、保護膜４Ａに関して上述した材料を記録層２Ａ上に成膜する。以上のようにして、上述の磁気ディスクＸ３を適切に製造することができる。
【００８９】
本方法においては、磁性部２１，２３をパターニングする際に必要なマスク（所定の凸部８ａを有する図８（ａ）に示すレジストマスク８Ａ）の形成にあたり、スタンパ９を使用して行うインプリント法を採用するため、電子ビーム描画装置を使用する必要はない。すなわち、磁気ディスクＸ３ごとの製造過程において、長時間にわたる電子ビーム描画装置による露光処理を行う必要はない。したがって、本方法は、磁気ディスクＸ３を効率よく製造するのに適し、磁気ディスクＸ３の量産化を図りやすい。
【００９０】
図２１は、本発明の第４の実施形態に係る磁気ディスクＸ４を表す。図２１は、磁気ディスクＸ４の部分拡大平面図であり、第３の実施形態に係る上述の磁気ディスクＸ３にとっての図１７に相当する。
【００９１】
磁気ディスクＸ４は、ディスク基板１、記録層２Ａ、軟磁性層３、および保護膜４Ａ’を含む積層構造を有する、情報記録と情報再生とを実行可能なＢＰＭである。磁気ディスクＸ４は、保護膜４Ａに代えて保護膜４Ａ’を備える点において、磁気ディスクＸ３と異なる。
【００９２】
保護膜４Ａ’は、記録層２Ａや軟磁性層３を外界から物理的および化学的に保護するための部位であり、部分４ａおよび部分４ｂを含む。部分４ａは、記録層２Ａのサーボ領域Ｓ１を覆い、部分４ｂより厚い。部分４ａの厚さは、部分４ｂより厚い限りにおいて、例えば２〜１０ｎｍである。部分４ｂは、記録層２Ａのユーザデータ領域Ｓ２を覆う。部分４ｂの厚さは、例えば１〜５ｎｍである。このような保護膜４Ａ’は、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ２、またはダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）よりなる。
【００９３】
保護膜４Ａ’の露出面は、磁気ディスクＸ４の記録面５をなす。磁気ディスクＸ４の記録面５は、磁気ディスクＸ３の記録面５と同様に、サーボ領域Ｓ１にて平らであり、ユーザデータ領域Ｓ２にて頂面５ｃを含み且つ凹部５ｄをなす。
【００９４】
保護膜４Ａ’以外の磁気ディスクＸ４の構成は、保護膜４Ａ以外の磁気ディスクＸ３の構成と同じである。ディスク基板１、記録層２Ａ、軟磁性層３、および保護膜４Ａ’を含む磁気ディスクＸ４の積層構造中には、必要に応じて他の層が含まれてもよい。また、磁気ディスクＸ４は、記録層２Ａ、軟磁性層３、および保護膜４Ａ’を含む積層構造をディスク基板１の片面または両面に有する。
【００９５】
磁気ディスクＸ４に対する書込み時には、磁気ディスクＸ３に対する書込みについて図１８および図１９を参照して上述したのと同様に、記録ヘッドを伴うスライダ（図示略）を記録面５に対向させつつ、磁気ディスクＸ４をその回転中心まわりに所定速度で回転させる。磁気ディスクＸ４は、磁気ディスクＸ３と同様に、ユーザデータ領域Ｓ２における記録面５に凹部５ｄを有する。そのため、磁気ディスクＸ３に対する書込み関して上述したのと同様の理由で、磁気ディスクＸ４の回転速度が例えば一定である場合には、サーボ領域Ｓ１での記録ヘッドの浮上量より、ユーザデータ領域Ｓ２での記録ヘッドの浮上量は小さい。したがって、磁気ディスクＸ４は、磁気ディスクＸ３に関して上述したのと同様の理由で、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３について高い書換え性を実現しつつ、サーボ領域Ｓ１の磁性部２１の磁化反転を抑制するのに適する。
【００９６】
磁気ディスクＸ４においては、保護膜４Ａ’の部分４ｂが薄いほど、記録時に記録ヘッド（図示略）によって印加される記録磁界の、記録層２Ａのユーザデータ領域Ｓ２における実効的な強度は、大きい傾向にある。また、磁気ディスクＸ４においては、保護膜４Ａ’の部分４ａが厚いほど、記録ヘッドからの漏れ磁界（記録磁界等）の、記録層２Ａのサーボ領域Ｓ１における実効的な強度は、小さい傾向にある。保護膜４Ａ’において記録層２Ａのサーボ領域Ｓ１を覆う部分４ａがユーザデータ領域Ｓ２を覆う部分４ｂよりも厚いという構成は、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３について高い書換え性を実現しつつサーボ領域Ｓ１の磁性部２１の磁化反転を抑制するのに資する。
【００９７】
図２２から図２３は、磁気ディスクＸ４の製造方法を表す。本方法においては、まず、上述したように磁気ディスクＸ３を製造した後、図２２（ａ）に示すように、磁気ディスクＸ３の保護膜４Ａ上にレジスト膜１２を形成する。レジスト膜１２は例えばスピンオンガラス（ＳＯＧ）よりなる。レジスト膜１２の形成においては、例えば、所定のガラス材料をスピンコーティング法によって磁気ディスクＸ３の保護膜４Ａ上に成膜する。
【００９８】
次に、図２２（ｂ）および図２２（ｃ）に示すように、スタンパ１３を使用してインプリント工程を行う。スタンパ１３は、製造すべき磁気ディスクＸ４におけるサーボ領域Ｓ１に対応する領域Ｓ７とユーザデータ領域Ｓ２に対応する領域Ｓ８とを含む。また、スタンパ１３は、転写面１３Ａを有し、この転写面１３Ａ側において、領域Ｓ７の表面は領域Ｓ８の表面よりも退避している。
【００９９】
本インプリント工程では、このようなスタンパ１３の転写面１３Ａをレジスト膜１２に押し付ける。レジスト膜１２のための材料としてＳＯＧを採用する場合、スタンパ１３をレジスト膜１２に押し付けた状態で加熱してレジスト膜１２を硬化させる。このようなインプリント工程によって、転写面１３Ａの凹凸形状がレジスト膜１２に転写されて、レジストマスク１２Ａが形成される。レジストマスク１２Ａは、部分１２ａおよび部分１２ｂを有する。部分１２ａは、磁気ディスクＸ４の記録層２Ａのサーボ領域Ｓ１に対応するパターン形状を有する。部分１２ｂは、記録層２Ａのユーザデータ領域Ｓ２に対応するパターン形状を有し、部分１２ａより薄い。
【０１００】
磁気ディスクＸ４の製造においては、スタンパ１３を使用して行う上述のインプリント工程の後、スタンパ１３をレジストマスク１２Ａから取り外す。その後、図２３（ａ）に示すように、部分１２ｂを除去する。例えば、レジストマスク１２Ａに対してＤＲＩＥを施すことによって、部分１２ａを残存させつつ薄い部分１２ｂを除去することができる。
【０１０１】
次に、図２３（ｂ）に示すように、レジストマスク１２Ａないし部分１２ａをマスクとして利用して、保護膜４Ａに対してエッチング処理を施す。エッチング手法としては、例えばプラズマエッチングを採用することができる。これにより、記録層２Ａのユーザデータ領域Ｓ２上にある保護膜４Ａを除去する。
【０１０２】
次に、図２３（ｃ）に示すように、レジストマスク１２Ａないし部分１２ａを除去する。除去手法としては、例えばＤＲＩＥを採用することができる。
【０１０３】
次に、図２３（ｄ）に示すように保護膜４Ａ’を形成する。例えば、記録層２Ａ上および残存する保護膜４Ａ上にわたり、保護膜４Ａ’に関して上述した材料をスパッタリング法によって成膜することにより、保護膜４Ａ’を形成することができる。以上のようにして、上述の磁気ディスクＸ４を適切に製造することができる。
【０１０４】
図２４は、本発明の第５の実施形態に係る磁気記録装置Ｙを表す。磁気記録装置Ｙは、複数の磁気ディスク１００と、磁気ヘッド１０１と、スピンドルモータ１０２と、スイングアーム１０３と、アクチュエータ１０４と、ディスクコントローラ１０５とを備える。
【０１０５】
複数の磁気ディスク１００は、所定の間隔を空けて配されている。各磁気ディスク１００は、上述の磁気ディスクＸ１〜Ｘ４のいずれかであり、表裏両面に記録層を有する。磁気ヘッド１０１は、磁気ディスク１００に対してデータを読み書きするためのものであり、磁気ディスク１００の記録面と対向するように各スイングアーム１０３の先端に設けられている。このような磁気ヘッド１０１には、書き込み用ないし記録用のヘッド部（図示略）と読み取り用ないし再生用のヘッド部（図示略）とが磁気ディスク１００の周方向に離隔して設けられている。スピンドルモータ１０２は、磁気ディスク１００を高速回転させる回転駆動手段である。スイングアーム１０３は、磁気ディスク１００の径方向において磁気ヘッド１０１を移動させるためのものであり、アクチュエータ１０４によって動作させられる。アクチュエータ１０４は、ボイスコイルモータなどからなる。ディスクコントローラ１０５は、磁気ヘッド１０１、スピンドルモータ１０２、およびアクチュエータ１０４を駆動制御するためのものである。このようなディスクコントローラ１０５は、例えば、ＣＰＵやメモリなどを備えたマイクロコンピュータよりなる。
【０１０６】
このような磁気記録装置Ｙにおける情報記録時には、磁気記録装置Ｙの各部が協働して、磁気ヘッド１０１の書き込み用ヘッド部によって磁気ディスク１００の記録層のユーザデータ領域にデータが書き込まれる。また、磁気記録装置Ｙにおける情報再生時には、磁気記録装置Ｙの各部が協働して、磁気ヘッド１０１の読み取り用ヘッド部によって磁気ディスク１００の記録層のユーザデータ領域からデータが読み取られる。
【図面の簡単な説明】
【０１０７】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る磁気ディスクの平面図である。
【図２】図１に示す磁気ディスクの部分拡大平面図である。
【図３】図２の線III−IIIに沿った断面図である。
【図４】第１の実施形態において、記録層のサーボ領域にスライダ（記録ヘッドを伴う）が対向している状態を表す。（ｂ）は（ａ）の部分拡大図である。
【図５】第１の実施形態において、記録層のユーザデータ領域にスライダ（記録ヘッドを伴う）が対向している状態を表す。（ｂ）は（ａ）の部分拡大図である。
【図６】スライダのＡＢＳ（Air Bearing Surface）を表す平面図である。
【図７】第１の実施形態に係る磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図８】図７の後に続く工程を表す。
【図９】図８の後に続く工程を表す。
【図１０】図９の後に続く工程を表す。
【図１１】図１０の後に続く工程を表す。
【図１２】本発明の第２の実施形態に係る磁気ディスクの部分拡大断面図である。第１の実施形態に係る磁気ディスクにとっての図３に相当する。
【図１３】図１２に示す磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図１４】図１３の後に続く工程を表す。
【図１５】本発明の第３の実施形態に係る磁気ディスクの平面図である。
【図１６】図１５に示す磁気ディスクの部分拡大平面図である。
【図１７】図１６の線XVII−XVIIに沿った断面図である。
【図１８】第３の実施形態において、記録層のサーボ領域にスライダ（記録ヘッドを伴う）が対向している状態を表す。（ｂ）は（ａ）の部分拡大図である。
【図１９】第３の実施形態において、記録層のユーザデータ領域にスライダ（記録ヘッドを伴う）が対向している状態を表す。（ｂ）は（ａ）の部分拡大図である。
【図２０】第３の実施形態に係る磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図２１】本発明の第４の実施形態に係る磁気ディスクの部分拡大断面図である。第３の実施形態に係る磁気ディスクにとっての図１７に相当する。
【図２２】図２１に示す磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図２３】図２２の後に続く工程を表す。
【図２４】本発明の第５の実施形態に係る磁気記録装置を表す。
【図２５】従来のビットパターンドメディアたる磁気ディスクの部分拡大平面図である。
【図２６】図２５の線XXVI−XXVIに沿った断面図である。
【図２７】図２５に示す磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図２８】図２７の後に続く工程を表す。
【図２９】図２８の後に続く工程を表す。
【符号の説明】
【０１０８】
Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３，Ｘ４，８０ 磁気ディスク
Ｓ１ サーボ領域
Ｓ２ ユーザデータ領域
１，８１ ディスク基板
２，２Ａ，８２ 記録層
２ａ 第１面
２ｂ 第２面
２１，２３，８２Ａ，８２Ｂ 磁性部
２２，２４，８２Ｃ 非磁性部
３ 軟磁性層
４，４’，４Ａ，４Ａ’，８３ 保護膜
４ａ，４ｂ 部分
２’ 磁性膜
２” 非磁性膜
８，１０，１２ レジスト膜
９，１１，１３ スタンパ
Ｙ 磁気記録装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターニングされた磁性部を記録層に有する磁気記録媒体、そのような磁気記録媒体を備えた磁気記録装置、および、そのような磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクなどの記憶装置を構成するための記録媒体として、磁気ディスク（磁気記録媒体）が知られている。磁気ディスクは、ディスク基板と所定の磁性構造を有する記録層とを含む積層構造を有する。コンピュータシステム等における情報処理量の増大に伴い、磁気ディスクについては高記録密度化の要求が高まっている。
【０００３】
磁気ディスクの技術分野においては、高記録密度化を図るのに適した磁気ディスクとして、いわゆるビットパターンドメディア（ＢＰＭ）が知られている。ＢＰＭたる磁気ディスクについては、例えば下記の特許文献１〜３に記載されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１００４９９号公報
【特許文献２】特開２００８−１２３６３８号公報
【特許文献３】特開２００８−２３４７７４号公報
【０００５】
図２５および図２６は、ＢＰＭたる従来の磁気ディスク８０を表す。図２５は、磁気ディスク８０の部分拡大平面図である。図２６は、図２５の線XXVI−XXVIに沿った断面図である。
【０００６】
磁気ディスク８０は、ディスク基板８１、記録層８２、および保護膜８３（図２５では図示略）からなる積層構造を有する。記録層８２は、磁気ディスク８０の周方向Ｄ１に隣り合って交互に配されたサーボ領域Ｓ１およびユーザデータ領域Ｓ２を含み、相互に離隔する複数の磁性部８２Ａと、相互に離隔する複数の磁性部８２Ｂと、これらの間に介在する非磁性部８２Ｃとからなる。磁性部８２Ａは、垂直磁気異方性を有し、サーボ領域Ｓ１に含まれる。サーボ領域Ｓ１において周方向Ｄ１に連なる磁性部８２Ａにおいてサーボ情報が保持される。図２５に示すように、磁性部８２Ａは磁気ディスク８０の径方向Ｄ２に延びる形状を有する。径方向Ｄ２において、磁性部８２Ａは、トラック幅に相当する長さや、複数のトラックにわたる長さを有する。一方、磁性部８２Ｂは、垂直磁気異方性を有し、ユーザデータ領域Ｓ２に含まれる。ユーザデータ領域Ｓ２における複数の磁性部８２Ｂの各々は図２５に示すようにドット状の単一の記録セルをなすように設けられ、各磁性部８２Ｂが所定方向に磁化されて、周方向Ｄ１に連なる磁性部８２Ｂにおいて所定のユーザデータが記録されている。ＢＰＭたる磁気ディスク８０では、記録セルをなすための磁性部８２Ｂよりも、サーボ情報をなすための上述の磁性部８２Ａは、磁気ディスク８０の径方向Ｄ２において長い。
【０００７】
図２７から図２９は、従来の磁気ディスク８０の製造方法を表す。磁気ディスク８０の製造においては、まず、図２７（ａ）に示すように、垂直磁気異方性を有する磁性膜８２’がディスク基板８１上に形成される。次に、図２７（ｂ）に示すように、スピンコーティング法により、磁性膜８２’上に所定のレジスト膜８４が形成される。次に、図２７（ｃ）および図２８（ａ）に示すように、スタンパ８５を使用したインプリント工程が行われる。スタンパ８５は複数の凹部８５ａを有する。凹部８５ａは、上述の記録層８２における磁性部８２Ａ，８２Ｂに対応するパターン形状を有する。本工程では、このようなスタンパ８５がレジスト膜８４に押し付けられる。これにより、スタンパ８５の凹凸情報がレジスト膜８４に転写されて、磁性膜８２’上にレジストパターン８４Ａが形成される。レジストパターン８４Ａは、上述の記録層８２における磁性部８２Ａ，８２Ｂに対応するパターン形状を有する。インプリント工程の後、レジストパターン８４Ａからスタンパ８５が取り外される。
【０００８】
本方法では、次に、図２８（ｂ）に示すように、レジストパターン８４Ａがマスクとして利用されて磁性膜８２’に対してドライエッチングが施され、磁性膜８２’がパターニングされる。これにより、上述の磁性部８２Ａ，８２Ｂがパターン形成されることとなる。次に、図２９（ａ）に示すように、レジストパターン８４Ａが除去される。次に、図２９（ｂ）に示すように、磁性部８２Ａ，８２Ｂ間に非磁性部８２Ｃが形成される。次に、図２９（ｃ）に示すように、保護膜８３が形成される。以上のような方法により、パターニングされた磁性部８２Ａ，８２Ｂを有する従来の磁気ディスク８０は製造される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
磁気ディスク８０において、サーボ領域Ｓ１に含まれる磁性部８２Ａと、ユーザデータ領域Ｓ２に含まれる磁性部８２Ｂとは、上述のように同じ磁性膜８２’に由来して形成され、同じ組成の磁性材料よりなる。しかしながら、磁性部８２Ａの保磁力と磁性部８２Ｂの保磁力とは有意に異なる。磁性部８２Ａ，８２Ｂは同じ組成の磁性材料よりなるけれども、磁性部８２Ａの保磁力と磁性部８２Ｂの保磁力とは有意に異なるのである。
【００１０】
膜状であって垂直磁気異方性を有する磁性部の保磁力は、当該磁性部のパターン形状によって異なり得るところ、当該磁性部の磁気的な孤立度が高いほど、当該磁性部の保磁力は高い傾向にあることが知られている。すなわち、膜状であって垂直磁気異方性を有する磁性部の広がり面積が大きいほど、当該磁性部の保磁力は小さい傾向にあることが知られている。そして、膜状であって垂直磁気異方性を有する磁性部の保磁力は、当該磁性部における磁化反転の生じやすさに影響を与える。保磁力が小さいほど、磁性部は磁化反転しやすい。
【００１１】
従来の磁気ディスク８０においては、サーボ領域Ｓ１に含まれる磁性部８２Ａは、上述のように径方向Ｄ２に延びる形状を有し、ユーザデータ領域Ｓ２に含まれるドット状の磁性部８２Ｂよりも、広がり面積が大きい。そのため、磁性部８２Ａの保磁力は、磁性部８２Ｂの保磁力よりも有意に小さい。
【００１２】
サーボ領域Ｓ１の磁性部８２Ａについて、磁気記録装置における記録用の磁気ヘッドからの漏れ磁界などの磁気的外乱の作用によって磁化反転が生じない程度に保磁力を大きく設定する場合、磁性部８２Ａよりも磁性部８２Ｂは更に保磁力が大きい。このような高保磁力の磁性部８２Ｂに対しては、記録用磁気ヘッドによって磁気記録しにくい（即ち、この場合の磁性部８２Ｂは書換え性が低い）。高保磁力の磁性部８２Ｂを磁化反転させて書換えるためには、比較的大きな記録磁界を印加する必要があるからである。
【００１３】
一方、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部８２Ｂについて、記録用磁気ヘッドによって比較的小さな記録磁界で磁化方向を反転可能な程度に保磁力を小さく設定する場合、磁性部８２Ｂよりも磁性部８２Ａは更に保磁力が小さい。この場合、磁性部８２Ａは、例えば、記録用磁気ヘッドによる磁気ディスク８０への書き込み処理に際し、当該ヘッドからの漏れ磁界などの磁気的外乱の作用によって磁化反転してしまうことがある。サーボ領域Ｓ１にてサーボ情報を保持する複数の磁性部８２Ａにおいて、磁化方向が本来的な方向から反転している磁性部８２Ａが存在すると、再生装置における再生用磁気ヘッドが当該サーボ領域Ｓ１において適切なサーボ情報を読み取ることができない。すなわち、再生装置においてサーボ情報検出エラーが多発して好ましくない。
【００１４】
本発明は、以上のような事情の下で考え出されたものである。本発明の目的は、記録層のサーボ領域およびユーザデータ領域の各々において複数の磁性部が離隔して設けられた磁気記録媒体において、ユーザデータ領域の磁性部について高い書換え性を実現しつつ、サーボ領域の磁性部の磁化反転を抑制することである。本発明の他の目的は、そのような磁気記録媒体を備える磁気記録装置、および、そのような磁気記録媒体を製造するための方法を、提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の第１の側面によると磁気記録媒体が提供される。この磁気記録媒体は、第１面および当該第１面とは反対の第２面を有し且つサーボ領域およびユーザデータ領域を含む記録層を備える。サーボ領域は、複数の第１磁性部および当該第１磁性部間に介在する第１非磁性部を含む。ユーザデータ領域は、複数の第２磁性部および当該第２磁性部間に介在する第２非磁性部を含む。第２非磁性部は、記録層の第１面の側において、第２磁性部よりも退避し且つ第１非磁性部よりも退避している。本磁気記録媒体において、サーボ領域に含まれる第１磁性部にはサーボ情報を保持させることが可能である。本磁気記録媒体において、ユーザデータ領域に含まれる第２磁性部にはユーザデータを記録することが可能である。
【００１６】
本磁気記録媒体の記録層のユーザデータ領域（ＵＲ）において、第２非磁性部は、記録層の第１面側にて第２磁性部よりも退避している。そのため、記録層のユーザデータ領域における第１面側の表面（ＵＲ表面）は、凹凸形状（第２磁性部の頂面が凸部頂面をなし且つ第２非磁性部の頂面が凹部底面をなす）を有する。これに対し、サーボ領域（ＳＲ）の第１非磁性部については、記録層の第１面側にて第１磁性部よりも退避するように設けるか、或は第１面側にて第１磁性部と面一に設けることが可能であるところ、当該第１非磁性部よりも上述の第２非磁性部は第１面側にて退避している。そのため、記録層のサーボ領域における第１面側の表面（ＳＲ表面）がたとえ凹凸形状を有する場合であっても、ＳＲ表面の当該凹凸形状の凹部よりも、ＵＲ表面の上記凹凸形状の凹部は、深い。
【００１７】
このような本磁気記録媒体に対する書込みを行うに際しては、本媒体の記録層の第１面（記録面）側に、記録用の磁気ヘッド（記録ヘッド）を伴うスライダを対向させつつ、記録面に対して当該スライダないし記録ヘッドを相対移動させる。相対移動するスライダと記録面との間には空気流が生じ、記録ヘッドを伴うスライダは記録面から浮上する。相対移動速度が例えば一定である場合、スライダと記録面との間に形成される空間体積が一定に維持される距離、記録ヘッドを伴うスライダは記録面から浮上する傾向にある。そのため、例えば一定速度でスライダと記録面とが相対移動する場合、サーボ領域での記録ヘッドの浮上量（記録面の頂面レベルからの距離）より、ユーザデータ領域での記録ヘッドの浮上量は、小さい。ユーザデータ領域にスライダが対向するときには、ＵＲ表面における上述の深い凹部が、ＵＲ表面とスライダの間の空間体積の一部をなすからである。ユーザデータ領域にスライダが対向するときには、前記の深い凹部がＵＲ表面―スライダ間の空間体積の一部をなすため、ユーザデータ領域対向時の記録ヘッドと記録面の最短距離は、サーボ領域対向時の記録ヘッドと記録面の最短距離より、短いのである。或は、サーボ領域におけるよりも、ユーザデータ領域における方が、記録面の頂面レベルから平均レベルが退避しているので、記録面の頂面レベルと記録ヘッドの距離は小さくなる、と捉えることもできる。記録面の平均レベルとは、記録層の厚さ方向における、記録面の少なくとも一領域の平均位置である。
【００１８】
ＵＲにおける記録ヘッドの浮上量が小さいほど、ＵＲにおける第２磁性部に対し、当該記録ヘッドの発する記録磁界によって磁気記録しやすい。すなわち、ＵＲにおける記録ヘッドの浮上量が小さいほど、第２磁性部の書換え性は高い。また、ＳＲにおける記録ヘッドの浮上量が大きいほど、ＳＲにおける第１磁性部は、当該記録ヘッドからの漏れ磁界（記録磁界等）によっては磁化反転しにくい。すなわち、ＳＲにおける記録ヘッドの浮上量が大きいほど、第１磁性部の磁化反転は抑制される。
【００１９】
以上のように、記録用磁気ヘッドの浮上量がサーボ領域よりもユーザデータ領域で小さい本磁気記録媒体は、ユーザデータ領域の磁性部（第２磁性部）について高い書換え性を実現しつつ、サーボ領域の磁性部（第１磁性部）の磁化反転を抑制するのに適する。
【００２０】
本発明の第２の側面によると磁気記録装置が提供される。この磁気記録装置は、本発明の第１の側面に係る磁気記録媒体を備える。本発明の第１の側面に係る磁気記録媒体を備える本磁気記録装置では、その具備する磁気記録媒体において、第１の側面に関して上述した効果が奏される。
【００２１】
本発明の第３の側面によると磁気記録媒体製造方法が提供される。この方法は、磁性材層形成工程と、磁性材層パターニング工程と、非磁性材層形成工程と、非磁性材層エッチング工程とを含む。磁性材層形成工程では、第１領域および第２領域を有する基材の上に磁性材料を成膜することによって磁性材層を形成する。磁性材層パターニング工程では、磁性材層をパターニングすることによって、複数の第１磁性部を第１領域上に形成し、且つ、複数の第２磁性部を第２領域上に形成する。非磁性材層形成工程では、非磁性材料を第１磁性部間および第２磁性部間に堆積するように基材上に成膜することによって非磁性材層を形成する。非磁性材層エッチング工程では、非磁性材層に対して基材とは反対の側から異方性エッチング処理を施すことによって、第１領域上に第１非磁性部を形成し、且つ、当該第１非磁性部および第２磁性部よりも基材側に表面が退避した第２非磁性部を第２領域上に形成する。このような方法によると、本発明の第１の側面に係る磁気記録媒体を適切に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
図１から図３は、本発明の第１の実施形態に係る磁気ディスクＸ１を表す。図１は、磁気ディスクＸ１の平面図である。図２は、磁気ディスクＸ１の部分拡大平面図である。図３は、図２の線III−IIIに沿った断面図である。
【００２３】
磁気ディスクＸ１は、ディスク基板１、記録層２、軟磁性層３、および保護膜４（図１および図２では省略）を含む積層構造を有する、情報記録と情報再生とを実行可能なビットパターンドメディア（ＢＰＭ）である。
【００２４】
ディスク基板１は、主に、磁気ディスクＸ１の剛性を確保するための部位であり、例えば、アルミニウム合金、ガラス、シリコン、またはポリカーボネート樹脂よりなる。
【００２５】
記録層２は、図３に示すように、保護膜４側の第１面２ａおよびディスク基板１側の第２面２ｂを有し、図１に示すように、磁気ディスクＸ１の周方向Ｄ１において交互に配されたサーボ領域Ｓ１およびユーザデータ領域Ｓ２を含む。サーボ領域Ｓ１には、図２および図３に示すように、相互に離隔する複数の磁性部２１、および、磁性部２１間に介在する非磁性部２２が含まれる。ユーザデータ領域Ｓ２には、相互に離隔する複数の磁性部２３、および、磁性部２３間に介在する非磁性部２４が含まれる。このような記録層２には、サーボ領域Ｓ１およびユーザデータ領域Ｓ２にわたって延び且つ磁気ディスクＸ１の回転中心Ａを共通中心として同心円状に配された複数のトラックが設けられている。各トラックは、磁気ディスクＸ１の周方向Ｄ１に延びる。
【００２６】
サーボ領域Ｓ１における複数の磁性部２１の各々は、垂直磁気異方性を有し、図２に示すように、磁気ディスクＸ１の径方向Ｄ２に延びる形状を有する。径方向Ｄ２において、磁性部２１は、トラック幅に相当する長さや、複数のトラックにわたる長さを有する。このような磁性部２１は、例えば硬磁性材料よりなる。磁性部２１のための硬磁性材料としては、例えば、ＣｏＰｔ、ＣｏＰｔＣｒ、またはＳｍＣｏを採用することができる。また、磁性部２１の厚さ（図３に示す矢印Ｈ方向の長さ）は例えば３０〜５０ｎｍである。サーボ領域Ｓ１においては、磁気ディスクＸ１の周方向Ｄ１に連なる磁性部２１においてサーボ情報が保持される。
【００２７】
非磁性部２２は、例えばＳｉＮ、Ｃ、ＳｉＯ２などの非磁性材料よりなる。非磁性部２２の存在により、例えば磁性部２１間の磁気的相互作用が充分に抑制されて、各磁性部２１について充分に高い磁気的孤立度が確保されている。本実施形態では、非磁性部２２は、記録層２の第１面２ａ側において、磁性部２１よりも退避している。非磁性部２２の厚さ（図３の矢印Ｈ方向の長さ）は、本実施形態では磁性部２１の厚さより小さく、例えば２５〜４５ｎｍである。
【００２８】
ユーザデータ領域Ｓ２における複数の磁性部２３の各々は、垂直磁気異方性を有し、図２に示すように、ドット状の単一の記録セルをなすように設けられている。図２に表れている磁性部２３の直径は、例えば１０〜３０ｎｍである。このような磁性部２３は、例えば硬磁性材料よりなる。磁性部２３のための硬磁性材料としては、例えば、ＣｏＰｔ、ＣｏＰｔＣｒ、またはＳｍＣｏを採用することができる。磁性部２３のための磁性材料は、磁性部２１のための磁性材料と、同じであってもよいし、異なってもよい。また、磁性部２３の厚さ（図３の矢印Ｈ方向の長さ）は、例えば３０〜５０ｎｍである。ユーザデータ領域Ｓ２においては、各磁性部２３が所定方向に磁化されて、磁気ディスクＸ１の周方向Ｄ１に連なる磁性部２３において所定のユーザデータが書き換え可能に記録されている。
【００２９】
非磁性部２４は、例えばＳｉＮ、Ｃ、ＳｉＯ２などの非磁性材料よりなる。非磁性部２４の存在により、例えば磁性部２３間の磁気的相互作用が充分に抑制されて、各磁性部２３について充分に高い磁気的孤立度が確保されている。本実施形態では、非磁性部２４は、記録層２の第１面２ａ側において、磁性部２１，２３よりも退避しており且つ非磁性部２２よりも退避している。非磁性部２４の厚さ（図３の矢印Ｈ方向の長さ）は、本実施形態では磁性部２１，２３の厚さ及び非磁性部２２の厚さより小さく、例えば２０〜４０ｎｍである。
【００３０】
軟磁性層３は、磁気ディスクＸ１への書込み時等に保護膜４に対向する記録用の磁気ヘッドからの磁束を再び当該ヘッドに環流させる磁路を効率よく形成するためのものである。このような軟磁性層３は、高透磁率を有して大きな飽和磁化を有するとともに小さな保磁力を有する軟磁性材料よりなる。書込み時には、記録用磁気ヘッドによる記録磁界の印加によって、ユーザデータ領域Ｓ２の各磁性部２３が所定方向に磁化されるところ、軟磁性層３が存在することにより、磁性部２３を磁化反転させるのに必要な実効的な記録磁界を低減させることが可能となる。軟磁性層３のための軟磁性材料としては、例えば、ＦｅＣ、ＦｅＮｉ、ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＣ、またはＦｅＣｏ−ＡｌＯを採用することができる。
【００３１】
保護膜４は、記録層２や軟磁性層３を外界から物理的および化学的に保護するための部位であり、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ２、またはダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）よりなる。保護膜４の厚さは、例えば１〜５ｎｍである。
【００３２】
保護膜４の露出面は、磁気ディスクＸ１の記録面５をなす。記録面５は、記録層２の第１面２ａに追従した凹凸形状を有する。具体的には、記録面５は、サーボ領域Ｓ１にて頂面５ａを含み且つ凹部５ｂをなし、ユーザデータ領域Ｓ２にて頂面５ｃを含み且つ凹部５ｄをなす。記録層２においては、サーボ領域Ｓ１の非磁性部２２は、上述のように、記録層２の第１面２ａ側にてサーボ領域Ｓ１の磁性部２１よりも退避している。そして、ユーザデータ領域Ｓ２の非磁性部２４は、記録層２の第１面２ａ側にて、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３よりも退避し、且つ、サーボ領域Ｓ１の非磁性部２２よりも退避している。そのため、ユーザデータ領域Ｓ２における記録面５の凹部５ｄは、サーボ領域Ｓ１における記録面５の凹部５ｂよりも、深い。すなわち、凹部５ｄの底面は、凹部５ｂの底面よりも、記録面５の頂面レベル（記録層２の厚さ方向における頂面５ａ，５ｂの位置）から退避している。
【００３３】
以上のようなディスク基板１、記録層２、軟磁性層３、および保護膜４を含む磁気ディスクＸ１の積層構造中には、必要に応じて他の層が含まれてもよい。また、磁気ディスクＸ１は、記録層２、軟磁性層３、および保護膜４を含む積層構造をディスク基板１の片面または両面に有する。
【００３４】
磁気ディスクＸ１に対する書込みを行うに際しては、図４や図５に示すように記録用の磁気ヘッドたる記録ヘッド６を伴うスライダ７を記録面５に対向させつつ、磁気ディスクＸ１をその回転中心Ａ（図１に示す）まわりに所定速度で回転させる。図４は、記録ヘッド６を伴うスライダ７が、記録層２のサーボ領域Ｓ１に対向している状態を表す。図４（ｂ）は図４（ａ）の部分拡大図である。図５は、記録ヘッド６を伴うスライダ７が、記録層２のユーザデータ領域Ｓ２に対向している状態を表す。図５（ｂ）は図５（ａ）の部分拡大図である。
【００３５】
回転する磁気ディスクＸ１の記録面５とスライダ７の間には、空気流が生じ、記録ヘッド６を伴うスライダ７は記録面５から浮上する。スライダ７にて記録面５に対向する側の面は、回転する磁気ディスクＸ１の記録面５とスライダ７の間に、スライダ７を記録面５から離そうとする正圧とスライダ７を記録面５に引き付けようとする負圧とを生ずるための凹凸（図４，５にて省略）を有する。図６は、スライダ７の一平面図であり、スライダ７において記録面５に対向する側の面（ＡＢＳ；Air Bearing Surface）の一例を表す。図６では、ＡＢＳにおける凸部について、斜線ハッチングを付して表す。
【００３６】
回転する磁気ディスクＸ１の記録面５とスライダ７の間に生ずる正圧および負圧のバランスに基づき、記録ヘッド６のヘッド浮上量が定まる。そして、磁気ディスクＸ１の回転速度が例えば一定である場合、スライダ７と記録面５との間に形成される空間体積が一定に維持される距離、記録ヘッド６を伴うスライダ７は記録面５から浮上する傾向にある。そのため、磁気ディスクＸ１の回転速度が例えば一定である場合、サーボ領域Ｓ１での記録ヘッド６の図４（ｂ）に示す浮上量ｄ１（記録面５の頂面レベルからの距離）より、ユーザデータ領域Ｓ２での記録ヘッド６の図５（ｂ）に示す浮上量ｄ２は、小さい。ユーザデータ領域Ｓ２にスライダ７が対向するときには、記録面５における深い凹部５ｄが、記録面５とスライダ７の間の空間体積の一部をなすからである。ユーザデータ領域Ｓ２にスライダ７が対向するときに深い凹部５ｄが記録面―スライダ間の空間体積の一部をなすため、ユーザデータ領域対向時の記録ヘッド６と記録面５の最短距離は、サーボ領域対向時の記録ヘッド６と記録面５の最短距離より短いのである。或は、サーボ領域Ｓ１におけるよりも、ユーザデータ領域Ｓ２における方が、記録面５の頂面レベルから記録面５の平均レベルが退避しているので、記録面５の頂面レベルと記録ヘッド６の距離は小さくなる、と捉えることもできる。記録面５の平均レベルとは、記録層２の厚さ方向における、記録面５の少なくとも一領域の平均位置である。図４（ｂ）には、サーボ領域Ｓ１における記録面５の平均レベル５’を破線で示す。図５（ｂ）には、ユーザデータ領域Ｓ２における記録面５の平均レベル５”を破線で示す。
【００３７】
ユーザデータ領域Ｓ２における記録ヘッド６の浮上量ｄ２が小さいほど、ユーザデータ領域Ｓ２における磁性部２３に対し、記録ヘッド６の発する記録磁界によって磁気記録しやすい。すなわち、ユーザデータ領域Ｓ２における記録ヘッド６の浮上量ｄ２が小さいほど、磁性部２３の書換え性は高い。また、サーボ領域Ｓ１における記録ヘッド６の浮上量ｄ１が大きいほど、サーボ領域Ｓ１における磁性部２１は、記録ヘッド６からの漏れ磁界（記録磁界等）によっては磁化反転しにくい。すなわち、サーボ領域Ｓ１における記録ヘッド６の浮上量ｄ１が大きいほど、磁性部２１の磁化反転は抑制される。
【００３８】
以上のように、スライダ７に伴う記録ヘッド６の浮上量がサーボ領域Ｓ１よりもユーザデータ領域Ｓ２で小さい磁気ディスクＸ１は、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３について高い書換え性を実現しつつ、サーボ領域Ｓ１の磁性部２１の磁化反転を抑制するのに適する。
【００３９】
磁気ディスクＸ１において、記録面５は、上述のように、サーボ領域Ｓ１にて凹部５ｂをなす（凹部５ｂは、ユーザデータ領域Ｓ２における凹部５ｄより浅い）。この凹部５ｂの深さを調節することにより、サーボ領域対向時の記録ヘッド６の上述の浮上量ｄ１を調整することが可能であり、ユーザデータ領域対向時の記録ヘッド６の上述の浮上量ｄ２と当該浮上量ｄ１との差を調整することが可能である。
【００４０】
図７から図１１は、磁気ディスクＸ１の製造方法を表す。本方法においては、まず、図７（ａ）に示すように、ディスク基板１上に、軟磁性層３、磁性膜２’、およびレジスト膜８を順次形成する。軟磁性層３の形成においては、例えばスパッタリング法により、軟磁性層３に関して上述した軟磁性材料をディスク基板１上に成膜する。磁性膜２’の形成においては、例えばスパッタリング法により、磁性部２１，２３に関して上述した磁性材料を軟磁性層３上に成膜する。レジスト膜８の形成においては、熱硬化型レジスト材料または紫外線硬化型レジスト材料をスピンコーティング法によって磁性膜２’上に成膜する。
【００４１】
次に、図７（ｂ）および図８（ａ）に示すように、スタンパ９を使用してインプリント工程を行う。スタンパ９は、製造すべき磁気ディスクＸ１におけるサーボ領域Ｓ１に対応する領域Ｓ３とユーザデータ領域Ｓ２に対応する領域Ｓ４とを含む。また、スタンパ９は、転写面９Ａを有し、転写面９Ａ側に複数の凹部９ａを有する（即ち、転写面９Ａは凹凸形状を伴う）。領域Ｓ３における複数の凹部９ａの開口形状は、磁気ディスクＸ１における記録層２のサーボ領域Ｓ１に含まれる複数の磁性部２１に対応したパターンを有する。領域Ｓ４における複数の凹部９ａの開口形状は、磁気ディスクＸ１における記録層２のユーザデータ領域Ｓ２に含まれる複数の磁性部２３に対応したパターンを有する。レジスト膜８として紫外線硬化型レジスト材料よりなるものを採用する場合、スタンパ９としては、紫外線が透過可能なものを使用する。スタンパ９は、例えば石英基板に対して凹部９ａを形成することによって作製することができる。
【００４２】
本インプリント工程では、このようなスタンパ９の転写面９Ａをレジスト膜８に押し付ける。レジスト膜８が熱硬化型レジスト材料よりなる場合、スタンパ９をレジスト膜８に押し付けた状態で加熱してレジスト膜８を硬化させる。レジスト膜８が紫外線硬化型レジスト材料よりなる場合、スタンパ９をレジスト膜８に押し付けた状態でレジスト膜８に対して紫外線を照射してレジスト膜８を硬化させる。このようなインプリント工程によって、転写面９Ａの凹凸形状がレジスト膜８に転写されて、レジストマスク８Ａが形成される。レジストマスク８Ａは、スタンパ９の凹部９ａに対応した凸部８ａを有する。
【００４３】
また、本インプリント工程では、図８（ａ）に示すように、スタンパ９は磁性膜２’に至らず、磁性膜２’とスタンパ９との間にはレジスト材料が残存するのが好ましい。スタンパ９が磁性膜２’に至ると、形成されるレジストマスク８Ａと磁性膜２’との接触面積が低下するなどしてレジストマスク８Ａが磁性膜２’から剥離しやすくなってしまう。そのような剥離が生じないように、スタンパ９と磁性膜２’との間にレジスト材料が残されるのが好ましいのである。
【００４４】
磁気ディスクＸ１の製造においては、スタンパ９を使用して行う上述のインプリント工程の後、図８（ｂ）に示すように、スタンパ９をレジストマスク８Ａから取り外す。
【００４５】
次に、図９（ａ）に示すように、凸部８ａを有するレジストマスク８Ａをマスクとして利用して、レジストマスク８Ａの側から磁性膜２’に対して異方性ドライエッチングを施すことにより、上述の磁性部２１，２３をパターン形成する。磁性部２１は、ディスク基板１上ないし軟磁性層３上において、記録層２のサーボ領域Ｓ１に対応した第１領域に形成される。磁性部２３は、ディスク基板１上ないし軟磁性層３上において、記録層２のユーザデータ領域Ｓ２に対応した第２領域に形成される。異方性ドライエッチングとしては、ＤＲＩＥ（Deep Reactive Ion Etching）を採用することができる。ＤＲＩＥでは、ＳＦ６ガスを用いて行うエッチングとＣ４Ｆ８ガスを用いて行う側壁保護とを交互に繰り返すＢｏｓｃｈプロセスにおいて、良好な異方性エッチング加工を行うことができる。後出のＤＲＩＥについても、このようなＢｏｓｃｈプロセスを採用することができる。この後、例えば所定の剥離液を作用させることによって、レジストマスク８Ａを除去する。
【００４６】
次に、図９（ｂ）に示すように非磁性膜２”を形成する。具体的には、磁性部２１，２３間の隙間を充填しつつ磁性部２１，２３を覆うように、非磁性部２２，２４に関して上述した非磁性材料を堆積させる。
【００４７】
次に、図９（ｃ）に示すように、非磁性膜２”上にレジスト膜１０を形成する。レジスト膜１０の形成においては、熱硬化型レジスト材料または紫外線硬化型レジスト材料をスピンコーティング法によって非磁性膜２”上に成膜する。
【００４８】
次に、図１０（ａ）および図１０（ｂ）に示すように、スタンパ１１を使用してインプリント工程を行う。スタンパ１１は、製造すべき磁気ディスクＸ１におけるサーボ領域Ｓ１に対応する領域Ｓ５とユーザデータ領域Ｓ２に対応する領域Ｓ６とを含む。また、スタンパ１１は、転写面１１Ａを有し、この転写面１１Ａ側において、領域Ｓ５の表面は領域Ｓ６の表面よりも退避している。レジスト膜１０として紫外線硬化型レジスト材料よりなるものを採用する場合、スタンパ１１としては、紫外線が透過可能なものを使用する。スタンパ１１は、例えば石英基板に対して領域Ｓ５の退避形状を形成することによって作製することができる。
【００４９】
本インプリント工程では、このようなスタンパ１１の転写面１１Ａをレジスト膜１０に押し付ける。レジスト膜１０が熱硬化型レジスト材料よりなる場合、スタンパ１１をレジスト膜１０に押し付けた状態で加熱してレジスト膜１０を硬化させる。レジスト膜１０が紫外線硬化型レジスト材料よりなる場合、スタンパ１１をレジスト膜１０に押し付けた状態でレジスト膜１０に対して紫外線を照射してレジスト膜１０を硬化させる。このようなインプリント工程によって、転写面１１Ａの凹凸形状がレジスト膜１０に転写されて、レジストマスク１０Ａが形成される。レジストマスク１０Ａは、部分１０ａおよび部分１０ｂを有する。部分１０ａは、磁気ディスクＸ１の記録層２のサーボ領域Ｓ１に対応するパターン形状を有する。部分１０ｂは、記録層２のユーザデータ領域Ｓ２に対応するパターン形状を有し、部分１０ａより薄い。
【００５０】
磁気ディスクＸ１の製造においては、スタンパ１１を使用して行う上述のインプリント工程の後、スタンパ１１をレジストマスク１０Ａから取り外す。その後、図１０（ｃ）に示すように、部分１０ｂを除去する。例えば、プラズマエッチングによって部分１０ｂを除去することができる。
【００５１】
次に、図１１（ａ）に示すように、レジストマスク１０Ａの部分１０ａをマスクとして利用して、レジストマスク１０Ａの側から非磁性膜２”に対して異方性ドライエッチングを施す。異方性ドライエッチングとしては、ＤＲＩＥを採用することができる。
【００５２】
次に、図１１（ｂ）に示すように、レジストマスク１０Ａないし部分１０ａを除去する。例えば所定の剥離液を作用させることによって、レジストマスク１０Ａを除去することができる。
【００５３】
次に、図１１（ｃ）に示すように、非磁性膜２”に対して異方性ドライエッチングを施して、上述の非磁性部２２，２４を形成する。本工程にて、記録層２が形成されることとなる。異方性ドライエッチングとしては、ＤＲＩＥを採用することができる。
【００５４】
次に、図１１（ｄ）に示すように保護膜４を形成する。保護膜４の形成においては、例えばスパッタリング法により、保護膜４に関して上述した材料を記録層２上に成膜する。以上のようにして、上述の磁気ディスクＸ１を適切に製造することができる。
【００５５】
本方法においては、磁性部２１，２３をパターニングする際に必要なマスク（所定の凸部８ａを有するレジストマスク８Ａ）の形成にあたり、スタンパ９を使用して行うインプリント法を採用するため、電子ビーム描画装置を使用する必要はない。すなわち、磁気ディスクＸ１ごとの製造過程において、長時間にわたる電子ビーム描画装置による露光処理を行う必要はない。したがって、本方法は、磁気ディスクＸ１を効率よく製造するのに適し、磁気ディスクＸ１の量産化を図りやすい。
【００５６】
図１２は、本発明の第２の実施形態に係る磁気ディスクＸ２を表す。図１２は、磁気ディスクＸ２の部分拡大平面図であり、第１の実施形態に係る上述の磁気ディスクＸ１にとっての図３に相当する。
【００５７】
磁気ディスクＸ２は、ディスク基板１、記録層２、軟磁性層３、および保護膜４’を含む積層構造を有する、情報記録と情報再生とを実行可能なＢＰＭである。磁気ディスクＸ２は、保護膜４に代えて保護膜４’を備える点において、磁気ディスクＸ１と異なる。
【００５８】
保護膜４’は、記録層２や軟磁性層３を外界から物理的および化学的に保護するための部位であり、部分４ａおよび部分４ｂを含む。部分４ａは、記録層２のサーボ領域Ｓ１を覆い、部分４ｂより厚い。部分４ａの厚さは、部分４ｂより厚い限りにおいて、例えば２〜１０ｎｍである。部分４ｂは、記録層２のユーザデータ領域Ｓ２を覆う。部分４ｂの厚さは、例えば１〜５ｎｍである。このような保護膜４’は、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ２、またはダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）よりなる。
【００５９】
保護膜４’の露出面は、磁気ディスクＸ２の記録面５をなす。磁気ディスクＸ２の記録面５は、磁気ディスクＸ１の記録面５と同様に、サーボ領域Ｓ１にて頂面５ａを含み且つ凹部５ｂをなし、ユーザデータ領域Ｓ２にて頂面５ｃを含み且つ凹部５ｄをなす。磁気ディスクＸ２の記録面５の凹部５ｄは、磁気ディスクＸ１の記録面５の凹部５ｄと同様に、サーボ領域Ｓ１における記録面５の凹部５ｂよりも、深い。
【００６０】
保護膜４’以外の磁気ディスクＸ２の構成は、保護膜４以外の磁気ディスクＸ１の構成と同じである。ディスク基板１、記録層２、軟磁性層３、および保護膜４’を含む磁気ディスクＸ２の積層構造中には、必要に応じて他の層が含まれてもよい。また、磁気ディスクＸ２は、記録層２、軟磁性層３、および保護膜４’を含む積層構造をディスク基板１の片面または両面に有する。
【００６１】
磁気ディスクＸ２に対する書込み時には、磁気ディスクＸ１に対する書込みについて図４および図５を参照して上述したのと同様に、記録ヘッドを伴うスライダ（図示略）を記録面５に対向させつつ、磁気ディスクＸ２をその回転中心まわりに所定速度で回転させる。磁気ディスクＸ２は、磁気ディスクＸ１と同様に、ユーザデータ領域Ｓ２における記録面５に深い凹部５ｄを有する。そのため、磁気ディスクＸ１に対する書込み関して上述したのと同様の理由で、磁気ディスクＸ２の回転速度が例えば一定である場合には、サーボ領域Ｓ１での記録ヘッドの浮上量より、ユーザデータ領域Ｓ２での記録ヘッドの浮上量は小さい。したがって、磁気ディスクＸ２は、磁気ディスクＸ１に関して上述したのと同様の理由で、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３について高い書換え性を実現しつつ、サーボ領域Ｓ１の磁性部２１の磁化反転を抑制するのに適する。
【００６２】
磁気ディスクＸ２においては、保護膜４’の部分４ｂが薄いほど、記録時に記録ヘッドによって印加される記録磁界の、記録層２のユーザデータ領域Ｓ２における実効的な強度は、大きい傾向にある。また、磁気ディスクＸ２においては、保護膜４’の部分４ａが厚いほど、記録ヘッドからの漏れ磁界（記録磁界等）の、記録層２のサーボ領域Ｓ１における実効的な強度は、小さい傾向にある。保護膜４’において記録層２のサーボ領域Ｓ１を覆う部分４ａがユーザデータ領域Ｓ２を覆う部分４ｂよりも厚いという構成は、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３について高い書換え性を実現しつつサーボ領域Ｓ１の磁性部２１の磁化反転を抑制するのに資する。
【００６３】
図１３から図１４は、磁気ディスクＸ２の製造方法を表す。本方法においては、まず、図７から図１１を参照して上述した過程を経て磁気ディスクＸ１を製造した後、図１３（ａ）に示すように、磁気ディスクＸ１の保護膜４上にレジスト膜１２を形成する。レジスト膜１２は例えばスピンオンガラス（ＳＯＧ）よりなる。レジスト膜１２の形成においては、例えば、所定のガラス材料をスピンコーティング法によって磁気ディスクＸ１の保護膜４上に成膜する。
【００６４】
次に、図１３（ｂ）および図１３（ｃ）に示すように、スタンパ１３を使用してインプリント工程を行う。スタンパ１３は、製造すべき磁気ディスクＸ２におけるサーボ領域Ｓ１に対応する領域Ｓ７とユーザデータ領域Ｓ２に対応する領域Ｓ８とを含む。また、スタンパ１３は、転写面１３Ａを有し、この転写面１３Ａ側において、領域Ｓ７の表面は領域Ｓ８の表面よりも退避している。
【００６５】
本インプリント工程では、このようなスタンパ１３の転写面１３Ａをレジスト膜１２に押し付ける。レジスト膜１２のための材料としてＳＯＧを採用する場合、スタンパ１３をレジスト膜１２に押し付けた状態で加熱してレジスト膜１２を硬化させる。このようなインプリント工程によって、転写面１３Ａの凹凸形状がレジスト膜１２に転写されて、レジストマスク１２Ａが形成される。レジストマスク１２Ａは、部分１２ａおよび部分１２ｂを有する。部分１２ａは、磁気ディスクＸ２の記録層２のサーボ領域Ｓ１に対応するパターン形状を有する。部分１２ｂは、記録層２のユーザデータ領域Ｓ２に対応するパターン形状を有し、部分１２ａより薄い。
【００６６】
磁気ディスクＸ２の製造においては、スタンパ１３を使用して行う上述のインプリント工程の後、スタンパ１３をレジストマスク１２Ａから取り外す。その後、図１４（ａ）に示すように、部分１２ｂを除去する。例えば、レジストマスク１２Ａに対してＤＲＩＥを施すことによって、部分１２ａを残存させつつ薄い部分１２ｂを除去することができる。
【００６７】
次に、図１４（ｂ）に示すように、レジストマスク１２Ａないし部分１２ａをマスクとして利用して、保護膜４に対してエッチング処理を施す。エッチング手法としては、例えばプラズマエッチングを採用することができる。これにより、記録層２のユーザデータ領域Ｓ２上にある保護膜４を除去する。
【００６８】
次に、図１４（ｃ）に示すように、レジストマスク１２Ａないし部分１２ａを除去する。除去手法としては、例えばＤＲＩＥを採用することができる。
【００６９】
次に、図１４（ｄ）に示すように保護膜４’を形成する。例えば、記録層２上および残存する保護膜４上にわたり、保護膜４’に関して上述した材料をスパッタリング法によって成膜することにより、保護膜４’を形成することができる。以上のようにして、上述の磁気ディスクＸ２を適切に製造することができる。
【００７０】
図１５から図１７は、本発明の第３の実施形態に係る磁気ディスクＸ３を表す。図１５は、磁気ディスクＸ３の平面図である。図１６は、磁気ディスクＸ３の部分拡大平面図である。図１７は、図１６の線XVII−XVIIに沿った断面図である。
【００７１】
磁気ディスクＸ３は、ディスク基板１、記録層２Ａ、軟磁性層３、および保護膜４Ａ（図１５および図１６では省略）を含む積層構造を有する、情報記録と情報再生とを実行可能なＢＰＭである。磁気ディスクＸ３は、記録層２に代えて記録層２Ａを備える点、および、保護膜４に代えて保護膜４Ａを備える点において、磁気ディスクＸ１と異なる。
【００７２】
記録層２Ａは、図１７に示すように、保護膜４Ａ側の第１面２ａおよびディスク基板１側の第２面２ｂを有し、図１５に示すように、磁気ディスクＸ３の周方向Ｄ１において交互に配されたサーボ領域Ｓ１およびユーザデータ領域Ｓ２を含む。記録層２Ａのサーボ領域Ｓ１には、図１６および図１７に示すように、相互に離隔する複数の磁性部２１、および、磁性部２１間に介在する非磁性部２２が含まれる。記録層２Ａのユーザデータ領域Ｓ２には、相互に離隔する複数の磁性部２３、および、磁性部２３間に介在する非磁性部２４が含まれる。このような記録層２Ａには、サーボ領域Ｓ１およびユーザデータ領域Ｓ２にわたって延び且つ磁気ディスクＸ３の回転中心Ａを共通中心として同心円状に配された複数のトラックが設けられている。各トラックは、磁気ディスクＸ３の周方向Ｄ１に延びる。
【００７３】
サーボ領域Ｓ１における複数の磁性部２１の各々は、垂直磁気異方性を有し、図１６に示すように、磁気ディスクＸ３の径方向Ｄ２に延びる形状を有する。径方向Ｄ２において、磁性部２１は、トラック幅に相当する長さや、複数のトラックにわたる長さを有する。このような磁性部２１は、例えば硬磁性材料よりなる。磁性部２１のための硬磁性材料としては、例えば、ＣｏＰｔ、ＣｏＰｔＣｒ、またはＳｍＣｏを採用することができる。また、磁性部２１の厚さ（図１７に示す矢印Ｈ方向の長さ）は例えば３０〜５０ｎｍである。サーボ領域Ｓ１においては、磁気ディスクＸ３の周方向Ｄ１に連なる磁性部２１においてサーボ情報が保持される。
【００７４】
非磁性部２２は、例えばＳｉＮ、Ｃ、ＳｉＯ２などの非磁性材料よりなる。非磁性部２２の存在により、例えば磁性部２１間の磁気的相互作用が充分に抑制されて、各磁性部２１について充分に高い磁気的孤立度が確保されている。本実施形態では、非磁性部２２は、記録層２Ａの第１面２ａ側において、磁性部２１と面一である。
【００７５】
ユーザデータ領域Ｓ２における複数の磁性部２３の各々は、垂直磁気異方性を有し、図１６に示すように、ドット状の単一の記録セルをなすように設けられている。図１６に表れている磁性部２３の直径は、例えば１０〜３０ｎｍである。このような磁性部２３は、例えば硬磁性材料よりなる。磁性部２３のための硬磁性材料としては、例えば、ＣｏＰｔ、ＣｏＰｔＣｒ、またはＳｍＣｏを採用することができる。磁性部２３のための磁性材料は、磁性部２１のための磁性材料と、同じであってもよいし、異なってもよい。また、磁性部２３の厚さ（図１７の矢印Ｈ方向の長さ）は、例えば３０〜５０ｎｍである。ユーザデータ領域Ｓ２においては、各磁性部２３が所定方向に磁化されて、磁気ディスクＸ３の周方向Ｄ１に連なる磁性部２３において所定のユーザデータが書き換え可能に記録されている。
【００７６】
非磁性部２４は、例えばＳｉＮ、Ｃ、ＳｉＯ２などの非磁性材料よりなる。非磁性部２４の存在により、例えば磁性部２３間の磁気的相互作用が充分に抑制されて、各磁性部２３について充分に高い磁気的孤立度が確保されている。本実施形態では、非磁性部２４は、記録層２Ａの第１面２ａ側において、磁性部２１，２３および非磁性部２２よりも退避している。非磁性部２４の厚さ（図１７の矢印Ｈ方向の長さ）は、本実施形態では磁性部２１，２３の厚さ及び非磁性部２２の厚さより小さく、例えば２０〜４０ｎｍである。
【００７７】
保護膜４Ａは、記録層２Ａや軟磁性層３を外界から物理的および化学的に保護するための部位であり、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ２、またはダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）よりなる。保護膜４Ａの厚さは、例えば１〜５ｎｍである。
【００７８】
保護膜４Ａの露出面は、磁気ディスクＸ３の記録面５をなす。記録面５は、記録層２Ａの第１面２ａに追従した凹凸形状を有する。具体的には、記録面５は、ユーザデータ領域Ｓ２にて頂面５ｃを含み且つ凹部５ｄをなす。記録層２Ａにおいては、サーボ領域Ｓ１の非磁性部２２は、上述のように、記録層２Ａの第１面２ａ側にてサーボ領域Ｓ１の磁性部２１と面一である。そして、ユーザデータ領域Ｓ２の非磁性部２４は、記録層２Ａの第１面２ａ側にて、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３よりも退避し、且つ、サーボ領域Ｓ１の非磁性部２２よりも退避している。そのため、記録面５は、サーボ領域Ｓ１にて平らであり、且つ、ユーザデータ領域Ｓ２にて凹部５ｄをなす。
【００７９】
ディスク基板１および軟磁性層３の構成は、磁気ディスクＸ１に関して上述したのと同様である。
【００８０】
以上のようなディスク基板１、記録層２Ａ、軟磁性層３、および保護膜４Ａを含む磁気ディスクＸ３の積層構造中には、必要に応じて他の層が含まれてもよい。また、磁気ディスクＸ３は、記録層２Ａ、軟磁性層３、および保護膜４Ａを含む積層構造をディスク基板１の片面または両面に有する。
【００８１】
磁気ディスクＸ３に対する書込みを行うに際しては、図１８や図１９に示すように記録用の磁気ヘッドたる記録ヘッド６を伴うスライダ７を記録面５に対向させつつ、磁気ディスクＸ３をその回転中心Ａ（図１５に示す）まわりに所定速度で回転させる。図１８は、記録ヘッド６を伴うスライダ７が、記録層２Ａのサーボ領域Ｓ１に対向している状態を表す。図１８（ｂ）は図１８（ａ）の部分拡大図である。図１９は、記録ヘッド６を伴うスライダ７が、記録層２Ａのユーザデータ領域Ｓ２に対向している状態を表す。図１９（ｂ）は図１９（ａ）の部分拡大図である。
【００８２】
回転する磁気ディスクＸ３の記録面５とスライダ７の間には、空気流が生じ、記録ヘッド６を伴うスライダ７は記録面５から浮上する。スライダ７にて記録面５に対向する側の面は、回転する磁気ディスクＸ３の記録面５とスライダ７の間に、スライダ７を記録面５から離そうとする正圧とスライダ７を記録面５に引き付けようとする負圧とを生ずるための凹凸（図１８，１９にて省略）を有する。スライダ７において記録面５に対向する側の面（ＡＢＳ）の凹凸構造は、図６を参照して上述したとおりである。
【００８３】
回転する磁気ディスクＸ３の記録面５とスライダ７の間に生ずる正圧および負圧のバランスに基づき、記録ヘッド６のヘッド浮上量が定まる。そして、磁気ディスクＸ３の回転速度が例えば一定である場合、スライダ７と記録面５との間に形成される空間体積が一定に維持される距離、記録ヘッド６を伴うスライダ７は記録面５から浮上する傾向にある。そのため、磁気ディスクＸ３の回転速度が例えば一定である場合、サーボ領域Ｓ１での記録ヘッド６の図１８（ｂ）に示す浮上量ｄ１（記録面５の頂面レベルからの距離）より、ユーザデータ領域Ｓ２での記録ヘッド６の図１９（ｂ）に示す浮上量ｄ２は、小さい。ユーザデータ領域Ｓ２にスライダ７が対向するときには、記録面５における凹部５ｄが、記録面５とスライダ７の間の空間体積の一部をなすからである。ユーザデータ領域Ｓ２にスライダ７が対向するときに凹部５ｄが記録面５―スライダ７間の空間体積の一部をなすため、ユーザデータ領域対向時の記録ヘッド６と記録面５の最短距離は、サーボ領域対向時の記録ヘッド６と記録面５の最短距離より短いのである。或は、サーボ領域Ｓ１におけるよりも、ユーザデータ領域Ｓ２における方が、記録面５の頂面レベルから記録面５の平均レベルが退避しているので、記録面５の頂面レベルと記録ヘッド６の距離は小さくなる、と捉えることもできる。サーボ領域Ｓ１では、記録面５と、記録面５の頂面レベルと、記録面５の平均レベルとは、一致する。図１９（ｂ）には、ユーザデータ領域Ｓ２における記録面５の平均レベル５”を破線で示す。
【００８４】
ユーザデータ領域Ｓ２における記録ヘッド６の浮上量ｄ２が小さいほど、ユーザデータ領域Ｓ２における磁性部２３に対し、記録ヘッド６の発する記録磁界によって磁気記録しやすい。すなわち、ユーザデータ領域Ｓ２における記録ヘッド６の浮上量ｄ２が小さいほど、磁性部２３の書換え性は高い。また、サーボ領域Ｓ１における記録ヘッド６の浮上量ｄ１が大きいほど、サーボ領域Ｓ１における磁性部２１は、記録ヘッド６からの漏れ磁界（記録磁界等）によっては磁化反転しにくい。すなわち、サーボ領域Ｓ１における記録ヘッド６の浮上量ｄ１が大きいほど、磁性部２１の磁化反転は抑制される。
【００８５】
以上のように、スライダ７に伴う記録ヘッド６の浮上量がサーボ領域Ｓ１よりもユーザデータ領域Ｓ２で小さい磁気ディスクＸ３は、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３について高い書換え性を実現しつつ、サーボ領域Ｓ１の磁性部２１の磁化反転を抑制するのに適する。
【００８６】
図２０は、磁気ディスクＸ３の製造方法の一部の工程を表す。本方法においては、まず、第１の実施形態に関して図７（ａ）から図１１（ｂ）までを参照して上述した過程を経て、図２０（ａ）に示す構造体を得る。図２０（ａ）に示す構造体では、ディスク基板１上に軟磁性層３が設けられ、軟磁性層３上に磁性部２１，２３および非磁性膜２”が設けられている。
【００８７】
次に、図２０（ｂ）に示すように、非磁性膜２”に対して異方性ドライエッチングを施して、上述の非磁性部２２，２４を形成する。本工程では、磁性部２１と面一の非磁性部２２が形成された時点でエッチング処理を停止する。本工程にて、記録層２Ａが形成されることとなる。異方性ドライエッチングとしては、ＤＲＩＥを採用することができる。
【００８８】
次に、図２０（ｃ）に示すように保護膜４Ａを形成する。保護膜４Ａの形成においては、例えばスパッタリング法により、保護膜４Ａに関して上述した材料を記録層２Ａ上に成膜する。以上のようにして、上述の磁気ディスクＸ３を適切に製造することができる。
【００８９】
本方法においては、磁性部２１，２３をパターニングする際に必要なマスク（所定の凸部８ａを有する図８（ａ）に示すレジストマスク８Ａ）の形成にあたり、スタンパ９を使用して行うインプリント法を採用するため、電子ビーム描画装置を使用する必要はない。すなわち、磁気ディスクＸ３ごとの製造過程において、長時間にわたる電子ビーム描画装置による露光処理を行う必要はない。したがって、本方法は、磁気ディスクＸ３を効率よく製造するのに適し、磁気ディスクＸ３の量産化を図りやすい。
【００９０】
図２１は、本発明の第４の実施形態に係る磁気ディスクＸ４を表す。図２１は、磁気ディスクＸ４の部分拡大平面図であり、第３の実施形態に係る上述の磁気ディスクＸ３にとっての図１７に相当する。
【００９１】
磁気ディスクＸ４は、ディスク基板１、記録層２Ａ、軟磁性層３、および保護膜４Ａ’を含む積層構造を有する、情報記録と情報再生とを実行可能なＢＰＭである。磁気ディスクＸ４は、保護膜４Ａに代えて保護膜４Ａ’を備える点において、磁気ディスクＸ３と異なる。
【００９２】
保護膜４Ａ’は、記録層２Ａや軟磁性層３を外界から物理的および化学的に保護するための部位であり、部分４ａおよび部分４ｂを含む。部分４ａは、記録層２Ａのサーボ領域Ｓ１を覆い、部分４ｂより厚い。部分４ａの厚さは、部分４ｂより厚い限りにおいて、例えば２〜１０ｎｍである。部分４ｂは、記録層２Ａのユーザデータ領域Ｓ２を覆う。部分４ｂの厚さは、例えば１〜５ｎｍである。このような保護膜４Ａ’は、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ２、またはダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）よりなる。
【００９３】
保護膜４Ａ’の露出面は、磁気ディスクＸ４の記録面５をなす。磁気ディスクＸ４の記録面５は、磁気ディスクＸ３の記録面５と同様に、サーボ領域Ｓ１にて平らであり、ユーザデータ領域Ｓ２にて頂面５ｃを含み且つ凹部５ｄをなす。
【００９４】
保護膜４Ａ’以外の磁気ディスクＸ４の構成は、保護膜４Ａ以外の磁気ディスクＸ３の構成と同じである。ディスク基板１、記録層２Ａ、軟磁性層３、および保護膜４Ａ’を含む磁気ディスクＸ４の積層構造中には、必要に応じて他の層が含まれてもよい。また、磁気ディスクＸ４は、記録層２Ａ、軟磁性層３、および保護膜４Ａ’を含む積層構造をディスク基板１の片面または両面に有する。
【００９５】
磁気ディスクＸ４に対する書込み時には、磁気ディスクＸ３に対する書込みについて図１８および図１９を参照して上述したのと同様に、記録ヘッドを伴うスライダ（図示略）を記録面５に対向させつつ、磁気ディスクＸ４をその回転中心まわりに所定速度で回転させる。磁気ディスクＸ４は、磁気ディスクＸ３と同様に、ユーザデータ領域Ｓ２における記録面５に凹部５ｄを有する。そのため、磁気ディスクＸ３に対する書込み関して上述したのと同様の理由で、磁気ディスクＸ４の回転速度が例えば一定である場合には、サーボ領域Ｓ１での記録ヘッドの浮上量より、ユーザデータ領域Ｓ２での記録ヘッドの浮上量は小さい。したがって、磁気ディスクＸ４は、磁気ディスクＸ３に関して上述したのと同様の理由で、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３について高い書換え性を実現しつつ、サーボ領域Ｓ１の磁性部２１の磁化反転を抑制するのに適する。
【００９６】
磁気ディスクＸ４においては、保護膜４Ａ’の部分４ｂが薄いほど、記録時に記録ヘッド（図示略）によって印加される記録磁界の、記録層２Ａのユーザデータ領域Ｓ２における実効的な強度は、大きい傾向にある。また、磁気ディスクＸ４においては、保護膜４Ａ’の部分４ａが厚いほど、記録ヘッドからの漏れ磁界（記録磁界等）の、記録層２Ａのサーボ領域Ｓ１における実効的な強度は、小さい傾向にある。保護膜４Ａ’において記録層２Ａのサーボ領域Ｓ１を覆う部分４ａがユーザデータ領域Ｓ２を覆う部分４ｂよりも厚いという構成は、ユーザデータ領域Ｓ２の磁性部２３について高い書換え性を実現しつつサーボ領域Ｓ１の磁性部２１の磁化反転を抑制するのに資する。
【００９７】
図２２から図２３は、磁気ディスクＸ４の製造方法を表す。本方法においては、まず、上述したように磁気ディスクＸ３を製造した後、図２２（ａ）に示すように、磁気ディスクＸ３の保護膜４Ａ上にレジスト膜１２を形成する。レジスト膜１２は例えばスピンオンガラス（ＳＯＧ）よりなる。レジスト膜１２の形成においては、例えば、所定のガラス材料をスピンコーティング法によって磁気ディスクＸ３の保護膜４Ａ上に成膜する。
【００９８】
次に、図２２（ｂ）および図２２（ｃ）に示すように、スタンパ１３を使用してインプリント工程を行う。スタンパ１３は、製造すべき磁気ディスクＸ４におけるサーボ領域Ｓ１に対応する領域Ｓ７とユーザデータ領域Ｓ２に対応する領域Ｓ８とを含む。また、スタンパ１３は、転写面１３Ａを有し、この転写面１３Ａ側において、領域Ｓ７の表面は領域Ｓ８の表面よりも退避している。
【００９９】
本インプリント工程では、このようなスタンパ１３の転写面１３Ａをレジスト膜１２に押し付ける。レジスト膜１２のための材料としてＳＯＧを採用する場合、スタンパ１３をレジスト膜１２に押し付けた状態で加熱してレジスト膜１２を硬化させる。このようなインプリント工程によって、転写面１３Ａの凹凸形状がレジスト膜１２に転写されて、レジストマスク１２Ａが形成される。レジストマスク１２Ａは、部分１２ａおよび部分１２ｂを有する。部分１２ａは、磁気ディスクＸ４の記録層２Ａのサーボ領域Ｓ１に対応するパターン形状を有する。部分１２ｂは、記録層２Ａのユーザデータ領域Ｓ２に対応するパターン形状を有し、部分１２ａより薄い。
【０１００】
磁気ディスクＸ４の製造においては、スタンパ１３を使用して行う上述のインプリント工程の後、スタンパ１３をレジストマスク１２Ａから取り外す。その後、図２３（ａ）に示すように、部分１２ｂを除去する。例えば、レジストマスク１２Ａに対してＤＲＩＥを施すことによって、部分１２ａを残存させつつ薄い部分１２ｂを除去することができる。
【０１０１】
次に、図２３（ｂ）に示すように、レジストマスク１２Ａないし部分１２ａをマスクとして利用して、保護膜４Ａに対してエッチング処理を施す。エッチング手法としては、例えばプラズマエッチングを採用することができる。これにより、記録層２Ａのユーザデータ領域Ｓ２上にある保護膜４Ａを除去する。
【０１０２】
次に、図２３（ｃ）に示すように、レジストマスク１２Ａないし部分１２ａを除去する。除去手法としては、例えばＤＲＩＥを採用することができる。
【０１０３】
次に、図２３（ｄ）に示すように保護膜４Ａ’を形成する。例えば、記録層２Ａ上および残存する保護膜４Ａ上にわたり、保護膜４Ａ’に関して上述した材料をスパッタリング法によって成膜することにより、保護膜４Ａ’を形成することができる。以上のようにして、上述の磁気ディスクＸ４を適切に製造することができる。
【０１０４】
図２４は、本発明の第５の実施形態に係る磁気記録装置Ｙを表す。磁気記録装置Ｙは、複数の磁気ディスク１００と、磁気ヘッド１０１と、スピンドルモータ１０２と、スイングアーム１０３と、アクチュエータ１０４と、ディスクコントローラ１０５とを備える。
【０１０５】
複数の磁気ディスク１００は、所定の間隔を空けて配されている。各磁気ディスク１００は、上述の磁気ディスクＸ１〜Ｘ４のいずれかであり、表裏両面に記録層を有する。磁気ヘッド１０１は、磁気ディスク１００に対してデータを読み書きするためのものであり、磁気ディスク１００の記録面と対向するように各スイングアーム１０３の先端に設けられている。このような磁気ヘッド１０１には、書き込み用ないし記録用のヘッド部（図示略）と読み取り用ないし再生用のヘッド部（図示略）とが磁気ディスク１００の周方向に離隔して設けられている。スピンドルモータ１０２は、磁気ディスク１００を高速回転させる回転駆動手段である。スイングアーム１０３は、磁気ディスク１００の径方向において磁気ヘッド１０１を移動させるためのものであり、アクチュエータ１０４によって動作させられる。アクチュエータ１０４は、ボイスコイルモータなどからなる。ディスクコントローラ１０５は、磁気ヘッド１０１、スピンドルモータ１０２、およびアクチュエータ１０４を駆動制御するためのものである。このようなディスクコントローラ１０５は、例えば、ＣＰＵやメモリなどを備えたマイクロコンピュータよりなる。
【０１０６】
このような磁気記録装置Ｙにおける情報記録時には、磁気記録装置Ｙの各部が協働して、磁気ヘッド１０１の書き込み用ヘッド部によって磁気ディスク１００の記録層のユーザデータ領域にデータが書き込まれる。また、磁気記録装置Ｙにおける情報再生時には、磁気記録装置Ｙの各部が協働して、磁気ヘッド１０１の読み取り用ヘッド部によって磁気ディスク１００の記録層のユーザデータ領域からデータが読み取られる。
【図面の簡単な説明】
【０１０７】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る磁気ディスクの平面図である。
【図２】図１に示す磁気ディスクの部分拡大平面図である。
【図３】図２の線III−IIIに沿った断面図である。
【図４】第１の実施形態において、記録層のサーボ領域にスライダ（記録ヘッドを伴う）が対向している状態を表す。（ｂ）は（ａ）の部分拡大図である。
【図５】第１の実施形態において、記録層のユーザデータ領域にスライダ（記録ヘッドを伴う）が対向している状態を表す。（ｂ）は（ａ）の部分拡大図である。
【図６】スライダのＡＢＳ（Air Bearing Surface）を表す平面図である。
【図７】第１の実施形態に係る磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図８】図７の後に続く工程を表す。
【図９】図８の後に続く工程を表す。
【図１０】図９の後に続く工程を表す。
【図１１】図１０の後に続く工程を表す。
【図１２】本発明の第２の実施形態に係る磁気ディスクの部分拡大断面図である。第１の実施形態に係る磁気ディスクにとっての図３に相当する。
【図１３】図１２に示す磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図１４】図１３の後に続く工程を表す。
【図１５】本発明の第３の実施形態に係る磁気ディスクの平面図である。
【図１６】図１５に示す磁気ディスクの部分拡大平面図である。
【図１７】図１６の線XVII−XVIIに沿った断面図である。
【図１８】第３の実施形態において、記録層のサーボ領域にスライダ（記録ヘッドを伴う）が対向している状態を表す。（ｂ）は（ａ）の部分拡大図である。
【図１９】第３の実施形態において、記録層のユーザデータ領域にスライダ（記録ヘッドを伴う）が対向している状態を表す。（ｂ）は（ａ）の部分拡大図である。
【図２０】第３の実施形態に係る磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図２１】本発明の第４の実施形態に係る磁気ディスクの部分拡大断面図である。第３の実施形態に係る磁気ディスクにとっての図１７に相当する。
【図２２】図２１に示す磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図２３】図２２の後に続く工程を表す。
【図２４】本発明の第５の実施形態に係る磁気記録装置を表す。
【図２５】従来のビットパターンドメディアたる磁気ディスクの部分拡大平面図である。
【図２６】図２５の線XXVI−XXVIに沿った断面図である。
【図２７】図２５に示す磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図２８】図２７の後に続く工程を表す。
【図２９】図２８の後に続く工程を表す。
【符号の説明】
【０１０８】
Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３，Ｘ４，８０ 磁気ディスク
Ｓ１ サーボ領域
Ｓ２ ユーザデータ領域
１，８１ ディスク基板
２，２Ａ，８２ 記録層
２ａ 第１面
２ｂ 第２面
２１，２３，８２Ａ，８２Ｂ 磁性部
２２，２４，８２Ｃ 非磁性部
３ 軟磁性層
４，４’，４Ａ，４Ａ’，８３ 保護膜
４ａ，４ｂ 部分
２’ 磁性膜
２” 非磁性膜
８，１０，１２ レジスト膜
９，１１，１３ スタンパ
Ｙ 磁気記録装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面および当該第１面とは反対の第２面を有し且つサーボ領域およびユーザデータ領域を含む記録層を備え、
前記サーボ領域は、複数の第１磁性部および当該第１磁性部間に介在する第１非磁性部を含み、
前記ユーザデータ領域は、複数の第２磁性部および当該第２磁性部間に介在する第２非磁性部を含み、
前記第２非磁性部は、前記記録層の前記第１面の側において、前記第２磁性部よりも退避し且つ前記第１非磁性部よりも退避している、磁気記録媒体。
【請求項２】
前記第１非磁性部は、前記記録層の前記第１面の側において、前記第１磁性部よりも退避している、請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記第１面の側にて前記記録層を覆う保護膜を更に備え、当該保護膜において、前記記録層の前記サーボ領域を覆う領域は、前記ユーザデータ領域を覆う領域よりも厚い、請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記記録層の前記第２面の側に位置する軟磁性層を更に備える、請求項１から３のいずれか一つに記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一つに記載の磁気記録媒体を備える、磁気記録装置。
【請求項６】
第１領域および第２領域を有する基材の上に磁性材料を成膜することによって磁性材層を形成する工程と、
前記磁性材層をパターニングすることによって複数の第１磁性部を前記第１領域上に形成し且つ複数の第２磁性部を前記第２領域上に形成する工程と、
非磁性材料を前記第１磁性部間および前記第２磁性部間に堆積するように前記基材上に成膜することによって非磁性材層を形成する工程と、
前記非磁性材層に対して前記基材とは反対の側から異方性エッチング処理を施すことによって前記第１領域上に第１非磁性部を形成し且つ当該第１非磁性部および前記第２磁性部よりも前記基材側に表面が退避した第２非磁性部を前記第２領域上に形成する工程と、を含む磁気記録媒体製造方法。
【請求項７】
前記基材とは反対の側にて前記第１磁性部および前記第１非磁性部を覆う第１部分と、前記基材とは反対の側にて前記第２磁性部および前記第２非磁性部を覆い且つ前記第１部分よりも薄い第２部分とを有する、保護膜を形成する工程を更に含む、請求項６に記載の磁気記録媒体製造方法。
【請求項１】
第１面および当該第１面とは反対の第２面を有し且つサーボ領域およびユーザデータ領域を含む記録層を備え、
前記サーボ領域は、複数の第１磁性部および当該第１磁性部間に介在する第１非磁性部を含み、
前記ユーザデータ領域は、複数の第２磁性部および当該第２磁性部間に介在する第２非磁性部を含み、
前記第２非磁性部は、前記記録層の前記第１面の側において、前記第２磁性部よりも退避し且つ前記第１非磁性部よりも退避している、磁気記録媒体。
【請求項２】
前記第１非磁性部は、前記記録層の前記第１面の側において、前記第１磁性部よりも退避している、請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記第１面の側にて前記記録層を覆う保護膜を更に備え、当該保護膜において、前記記録層の前記サーボ領域を覆う領域は、前記ユーザデータ領域を覆う領域よりも厚い、請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記記録層の前記第２面の側に位置する軟磁性層を更に備える、請求項１から３のいずれか一つに記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一つに記載の磁気記録媒体を備える、磁気記録装置。
【請求項６】
第１領域および第２領域を有する基材の上に磁性材料を成膜することによって磁性材層を形成する工程と、
前記磁性材層をパターニングすることによって複数の第１磁性部を前記第１領域上に形成し且つ複数の第２磁性部を前記第２領域上に形成する工程と、
非磁性材料を前記第１磁性部間および前記第２磁性部間に堆積するように前記基材上に成膜することによって非磁性材層を形成する工程と、
前記非磁性材層に対して前記基材とは反対の側から異方性エッチング処理を施すことによって前記第１領域上に第１非磁性部を形成し且つ当該第１非磁性部および前記第２磁性部よりも前記基材側に表面が退避した第２非磁性部を前記第２領域上に形成する工程と、を含む磁気記録媒体製造方法。
【請求項７】
前記基材とは反対の側にて前記第１磁性部および前記第１非磁性部を覆う第１部分と、前記基材とは反対の側にて前記第２磁性部および前記第２非磁性部を覆い且つ前記第１部分よりも薄い第２部分とを有する、保護膜を形成する工程を更に含む、請求項６に記載の磁気記録媒体製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【公開番号】特開２０１０−１５７２８１（Ｐ２０１０−１５７２８１Ａ）
【公開日】平成２２年７月１５日（２０１０．７．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−３３４１８４（Ｐ２００８−３３４１８４）
【出願日】平成２０年１２月２６日（２００８．１２．２６）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年７月１５日（２０１０．７．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１２月２６日（２００８．１２．２６）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【Ｆターム（参考）】
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