磁気記録媒体
【課題】微粒子化された非磁性粒子を用いても良好な分散性を有し、３Ｍｒａｄ以下の放射線量であっても十分な塗膜強度を確保し得る非磁性層を備える磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性粒子および結合剤を含む非磁性層上に、磁性粒子および結合剤を含む磁性層が形成された構造を備える磁気記録媒体であって、非磁性層に含まれる結合剤が、分子中に５０〜１００ｅｑ／ｔのリン酸金属塩基、ならびに、８００〜１６００ｅｑ／ｔの不飽和炭化水素基を有するポリウレタン樹脂であり、かつ、酸成分として脂肪族ジカルボン酸を含むポリエステルポリオール（Ａ）と、芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）と、不飽和炭化水素基を有し、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量５００以下の化合物（Ｃ）とを反応させて得られたポリウレタン樹脂を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【解決手段】非磁性粒子および結合剤を含む非磁性層上に、磁性粒子および結合剤を含む磁性層が形成された構造を備える磁気記録媒体であって、非磁性層に含まれる結合剤が、分子中に５０〜１００ｅｑ／ｔのリン酸金属塩基、ならびに、８００〜１６００ｅｑ／ｔの不飽和炭化水素基を有するポリウレタン樹脂であり、かつ、酸成分として脂肪族ジカルボン酸を含むポリエステルポリオール（Ａ）と、芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）と、不飽和炭化水素基を有し、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量５００以下の化合物（Ｃ）とを反応させて得られたポリウレタン樹脂を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大容量の記憶装置の普及に伴って、磁気テープなどの磁気記録媒体の高密度化が要望されるようになってきている。このような磁気記録媒体は、通常、非磁性粒子および結合剤を含む非磁性層上に、磁性粒子および結合剤を含む磁性層が形成された構造を備える。
【０００３】
特開平１１−２１３３７９号公報（特許文献１）および特開２００５−１４９６２３号公報（特許文献２）には、当該磁気記録媒体の非磁性層の結合剤として、放射線（電子線）硬化型ポリウレタン樹脂を用いることが開示されている。これらの放射線硬化型ポリウレタン樹脂は、分子中に不飽和炭化水素基を少なくとも１個（好ましくは２〜２０個）有すると共にリン含有極性基を有するポリウレタンアクリレート樹脂である。特許文献１、２に開示されているように、この放射線硬化型ポリウレタン樹脂を含有して非磁性層を形成した場合には、３ＭＲａｄの電子線照射量で十分な硬度を得ることができる。
【特許文献１】特開平１１−２１３３７９号公報
【特許文献２】特開２００５−１４９６２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
磁気記録媒体の非磁性層は、たとえば、非磁性支持体（ベースフィルム）を走行させながら、その一面上に非磁性粒子および上述した放射線硬化型ポリウレタン樹脂を含有する塗料を塗布し、放射線を照射して塗料中の放射線硬化型ポリウレタン樹脂を硬化させることで形成される。近年では、磁気記録媒体の生産性のさらなる向上が望まれており、このためには、非磁性支持体の走行スピードをさらに高速にする必要がある。しかしながら、非磁性支持体の走行スピードが速すぎると、放射線硬化型ポリウレタン樹脂に対する照射量が３Ｍｒａｄ以下となる場合があり、特許文献１、２に開示された放射線硬化型ポリウレタン樹脂では、十分に硬化しない虞があり、その結果として、製造された磁気記録媒体の電磁変換特性が低下するという問題が生じる虞がある。
【０００５】
また、最近では、磁気記録媒体の高記録密度化が特に進んでおり、そのためには記録波長は短く、記録トラック幅は狭く、記録媒体厚は薄くして、最小記録単位も小さくする方向に向かっている。それに対応して磁性層の薄層化も進んでおり、磁性層に用いる磁性粒子としては微粒子で磁気エネルギーの大きい強磁性金属粒子や六方晶フェライト磁性粒子が使用されるようになってきている。
【０００６】
ところが磁性層を薄層化していくと、その表面平滑性は、その下に設けられた非磁性層の表面の凹凸状態に強く影響を受けることになる。したがって、磁性層の良好な表面平滑性を確保するためには、非磁性層の表面をより平滑にすることが求められる。そのため、たとえば平均長軸長が１５０ｎｍ以下の酸化鉄など、より微粒子化された非磁性粒子を用いることが検討されている。しかしながら、たとえば特許文献１に開示された放射線硬化型ポリウレタン樹脂を非磁性層の結合剤として用いた場合には、上記微粒子化された酸化鉄を非磁性粒子として適用すると、当該酸化鉄の分散性が不十分となりやすく、それに起因して非磁性層の表面平滑性が悪化し、ひいてはその上に設けられた磁性層の表面平滑性が悪化して電磁変換特性の低下を招く虞がある。
【０００７】
上述のように、近年の磁気記録媒体に対する高記録密度化の要請に伴って、磁性層の薄膜化や、磁性粒子、非磁性粒子の微粒子化を図っても磁性層の良好な表面平滑性を確保することができ、これにより高記録密度と、Ｓ／Ｎ比（ＳＮＲ）などの電磁変換特性やエラーレートなどの媒体特性とを両立させた磁気記録媒体を実現することが求められている。
【０００８】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的とするところは、微粒子化された非磁性粒子を用いても良好な分散性を有し、３Ｍｒａｄ以下の放射線量であっても十分な塗膜強度を確保し得る非磁性層を備える磁気記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性粒子および結合剤を含む非磁性層上に、磁性粒子および結合剤を含む磁性層が形成された構造を備え、非磁性層に含まれる結合剤が、分子中に５０〜１００ｅｑ／ｔのリン酸金属塩基、ならびに、８００〜１６００ｅｑ／ｔの不飽和炭化水素基を有するポリウレタン樹脂であり、かつ、酸成分として脂肪族ジカルボン酸を含むポリエステルポリオール（Ａ）と、芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）と、不飽和炭化水素基を有し、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量５００以下の化合物（Ｃ）とを反応させて得られたポリウレタン樹脂を含むことを特徴とする。
【００１０】
本発明における非磁性層に含まれる非磁性粒子は、平均長軸長が１５０ｎｍ以下の酸化鉄を含むことが、好ましい。
【００１１】
また本発明における非磁性層に含まれる結合剤は、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量８００以下の化合物（Ｄ）をさらに反応させて得られたポリウレタン樹脂であることが、好ましい。
【００１２】
また、本発明におけるポリエステルポリオール（Ａ）は、酸成分中に脂肪族ジカルボン酸を７０〜１００モル％含み、かつ、化合物（Ｃ）が不飽和炭化水素基を１分子に２〜４個含むことが、好ましい。
【００１３】
さらに本発明における磁性層の厚みは、３００ｎｍ以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、非磁性層における結合剤として用いてなるポリウレタン樹脂を、低放射線照射量で十分に硬化することができ、十分な塗膜強度を有する非磁性層を有する磁気記録媒体を実現することができる。このような本発明の磁気記録媒体は、低放射線照射量で作製できるため、その生産性が十分に高められたものである。また、本発明によれば、中心線平均粗さも十分に低く、しかも十分に低いビットエラーレートを有する磁気記録媒体を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図１は、本発明の好ましい一例の磁気記録媒体（磁気テープ）１を模式的に示す断面図である。本発明の磁気記録媒体１は、非磁性粒子および結合剤を含む非磁性層２上に、磁性粒子および結合剤を含む磁性層３が形成された構造を備える。また、本発明の磁気記録媒体１は、通常、図１に示す例のように、非磁性層２および磁性層３はベースフィルム４の一方の表面にこの順で形成されて、記録再生装置（図示せず）による各種記録データの記録再生が可能に構成されるとともに、ベースフィルム４の他方の表面にはバックコート層５が形成されてなる。なお、図１には、本発明についての理解を容易とするために、磁気記録媒体１の各層の厚みを誇張して厚く図示するとともに、各層の厚みの比を実際とは異なる比に変更して図示している。本発明の磁気記録媒体１は、非磁性層２に含まれる結合剤が、ポリエステルポリオール（Ａ）と、芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）と、不飽和炭化水素基を有し、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量５００以下の化合物（Ｃ）とを反応させて得られた特定のポリウレタン樹脂（放射線硬化型ポリウレタン樹脂）を含むことを特徴とする。
【００１６】
本発明に用いられるポリエステルポリオール（Ａ）は、通常の二塩基酸とグリコールとを重縮合して得られるものであり、酸成分として脂肪族ジカルボン酸を含む。このような脂肪族ジカルボン酸としては、たとえば、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、ドデシニルコハク酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、３−ヘキセンジカルボン酸が挙げられるが、これらに制限されるものではない。中でも、非磁性粒子の分散性の観点から、脂肪族ジカルボン酸として、アジピン酸、セバシン酸、ドデシニルコハク酸、イタコン酸から選ばれる少なくともいずれかを含むことが好ましい。
【００１７】
本発明におけるポリエステルポリオール（Ａ）は、上述した脂肪族ジカルボン酸以外に、他の酸成分を含んでいてもよい。このような他の酸成分としては、たとえばテレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などの芳香族二塩基酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、４−メチル−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２−ビス（４−カルボキシシクロヘキシル）メタン、２，２−ビス（４−カルボキシシクロヘキシル）プロパンなどの脂環族二塩基酸などが挙げられる。ただし、酸成分中に芳香族二塩基酸を３０モル％を超えて含むと、３Ｍｒａｄを下回る放射線照射量では十分に硬化されない虞があるため、芳香族二塩基酸を含む場合には、酸成分中３０モル％以下とすることが好ましい。
【００１８】
本発明におけるポリエステルポリオール（Ａ）に用いるグリコール成分としては、特に制限されるものではないが、たとえば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、２，３−ブチレングリコール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２’，２’−ジメチル−３−ヒドロキシプロパネート、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオールなどの脂肪族系グリコール、１，３−ビス（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ヒドロキシエチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ヒドロキシプロピル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ヒドロキシメトキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ヒドロキシエトキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシメトキシシクロヘキシル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、３（４），８（９）−トリシクロ［５．２．１．０2.6］デカンジメタノールなどの脂環族系グリコールが挙げられる。これらの中でも、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２’，２’−ジメチル−３−ヒドロキシプロパネート、１，６−ヘキサンジオール、１，４−ビス（ヒドロキシメチル）シクロヘキサンが好ましい。
【００１９】
またポリエステルポリオール（Ａ）の原料の一部に無水トリメリット酸、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどの三官能基以上の化合物をポリエステル樹脂の有機溶剤溶解性、塗布作業性などの特性を損なわない範囲で使用してもよい。
【００２０】
本発明における芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）としては、たとえば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、２，６−ナフタレンジイシソアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニレンジイソシアネート、４，４’−ジイソシアネートジフェニルエーテル、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−キシレンジイソシアネートなどが挙げられる。これらの中でも、非磁性粒子の分散性が特に良好であることから、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートが特に好ましい。
【００２１】
本発明に用いられる化合物（Ｃ）としては、不飽和炭化水素基を有し、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量５００以下の化合物であれば特に制限されるものではないが、たとえば、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキジプロピルメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、モノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレートなどが挙げられる。この化合物（Ｃ）は、反応して得られたポリウレタン樹脂に放射線（電子線）硬化性を付与するために配合される。なお、不飽和炭化水素基を有し、イソシアネート基と反応する官能基を有する化合物であっても、分子量が５００を超える化合物を当該化合物（Ｃ）として用いた場合には、ポリウレタン樹脂のガラス転移温度が下がり、結果として磁気記録媒体のビットエラーレートが高くなるという不具合がある。上述した中でも、優れた放射線硬化性を発揮する観点からは、化合物（Ｃ）としてモノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレートを用いることが特に好ましい。また、化合物（Ｃ）の分子量は５００以下であれば特に制限されないが、分子量５０以上であることが好ましい。
【００２２】
上述したポリエステルポリオール（Ａ）と、芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）と、化合物（Ｃ）とを反応させて得られた本発明におけるポリウレタン樹脂は、分子中に５０〜１００ｅｑ／ｔ（好ましくは５０〜８０ｅｑ／ｔ）のリン酸金属塩基を有する。ポリウレタン樹脂に含まれるリン酸金属塩基の濃度が５０ｅｑ／ｔ未満であると、作製された磁気記録媒体１の中心線平均粗さＲａが上昇してしまう不具合がある。また、ポリウレタン樹脂に含まれるリン酸金属塩基の濃度が１００ｅｑ／ｔを超えると、非磁性層を形成するための塗料中で、非磁性粒子と、未吸着のリン酸金属塩基とが相互作用を起こし、当該塗料の粘度が上昇してしまい、これによって塗工性に支障をきたし、得られた磁気記録媒体の中心線平均粗さＲａが上昇してしまう。なお、上記リン酸金属塩基の濃度は、試料０．１ｇを白金ルツボにとって５５０℃で炭化し、酸（具体的には塩酸）に溶解した後、原子吸光分析により金属（具体的にはナトリウム）の濃度を測定し、下記式にて極性基濃度として算出された値を指す（単位は樹脂重量１ｔあたりの当量数（ｅｑ／ｔ）を表す。）。
【００２３】
リン酸金属塩基濃度（ｅｑ／ｔ）＝金属濃度（ｐｐｍ）／含有する金属の原子量
本発明におけるポリウレタン樹脂にリン酸金属塩基を導入し、分子中のリン酸金属塩基の含有量を上述した範囲内とするための手段としては特に制限されないが、たとえば下記式（ｉ）〜（ｖｉｉ）で示されるリン化合物の少なくとも１種を用いることが好ましい。
【００２４】
【化１】
【００２５】
【化２】
【００２６】
【化３】
【００２７】
【化４】
【００２８】
【化５】
【００２９】
【化６】
【００３０】
【化７】
【００３１】
上記各式中、Ｘ，Ｙはヒドロキシル基などのエステル形成性官能基、Ｒ1は炭素数３〜１０の３価の炭化水素基、Ｒ2は炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、シクロアルコキシ基またはアリールオキシ基を示す。アリール基およびアリールオキシ基はハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＭ1（Ｍ1はアルカリ金属を示す）、またはアミノ基が結合したものでもよい。Ｒ3、Ｒ4は、炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、次式：−（ＣＨ2−ＯＲ5）m−で表される基（Ｒ5は炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基を示す）。ｍは１〜４の任意の数値をとることができる。Ｍはアルカリ金属原子を示し、特にＮａが好ましい。
【００３２】
上述した式（ｉ）〜（ｖｉｉ）で示したリン化合物を用いることにより、非磁性粒子（特に、後述する平均長軸長が１５０ｎｍ以下の酸化鉄）に対して良好に作用し、非磁性層２における非磁性粒子の一層の分散性の向上を図ることができる。上記中でも式（ｖｉｉ）で示したリン化合物を用いると、分散性向上の点で特に好ましい。
【００３３】
なお、上述したリン化合物を用いてポリウレタン樹脂中にリン酸塩基を導入する方法としては、ポリエステルポリオール（Ａ）に共重合する方法、鎖延長剤として直接上述したリン化合物を用いて重合する方法が挙げられる。
【００３４】
本発明におけるポリウレタン樹脂は、分子中に８００〜１６００ｅｑ／ｔ（好ましくは９００〜１５００ｅｑ／ｔ）の不飽和炭化水素基を有する。この不飽和炭化水素基は、上述した不飽和炭化水素基を有し、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量５００以下の化合物（Ｃ）に起因するものである。なお、不飽和炭化水素基は骨格ポリウレタン樹脂の主鎖に結合していてもよいし、分枝鎖に結合していてもよい。本発明におけるポリウレタン樹脂は、分子中に８００〜１６００ｅｑ／ｔの不飽和炭化水素基を有することで、３Ｍｒａｄ以下の放射線照射量でも十分に硬化させることが可能となる。
【００３５】
ポリウレタン樹脂中に含まれる不飽和炭化水素基量が８００ｅｑ／ｔ未満であると、３Ｍｒａｄ以下の放射線照射量では十分に硬化されず、また、ポリウレタン樹脂中に含まれる不飽和炭化水素基量が１６００ｅｑ／ｔを超えると、硬化歪みにより、作製された磁気記録媒体の中心線平均粗さＲａが上昇してしまう。なお、上記不飽和炭化水素基量は、たとえば、ポリウレタン樹脂の製造に用いた原料の質量から、下記式により算出された値を指す（単位は樹脂重量１ｔあたりの当量数（ｅｑ／ｔ）を表す。）。
【００３６】
不飽和炭化水素基量（ｅｑ／ｔ）＝｛（化合物（Ｃ）の質量／化合物（Ｃ）の分子量）／ポリウレタン樹脂中に仕込んだポリエステルポリオール（Ａ）の質量＋芳香族ポリポリイソシアネート（Ｂ）の質量＋化合物（Ｃ）の質量（＋後述する化合物（Ｄ）を含む場合には、さらに化合物（Ｄ）の質量）｝×化合物（Ｃ）１分子中に含まれる不飽和炭化水素基の数×１０6
本発明におけるポリウレタン樹脂は、非磁性粒子の分散性および３Ｍｒａｄ以下の放射線の照射による硬化を満足する観点からは、ポリエステルポリオール（Ａ）が酸成分中に脂肪族ジカルボン酸を７０〜１００モル％含み、かつ、化合物（Ｃ）が不飽和炭化水素基を１分子に２〜４個含むことが好ましい。なお、ポリエステルポリオール（Ａ）の酸成分中における脂肪族ジカルボン酸が７０モル％未満であると、非磁性粒子の分散性が低下し、また３Ｍｒａｄ以下の放射線の照射では十分に硬化しない傾向にある。また、化合物（Ｃ）の不飽和炭化水素基が１分子に１個である場合には、３Ｍｒａｄ以下の放射線の照射では十分に硬化しない傾向にあり、また化合物（Ｃ）の不飽和炭化水素基が１分子に４個以上である場合には、硬化収縮により非磁性層の表面平滑性が悪化し、磁性層の表面平滑性が悪化する傾向にある。
【００３７】
また本発明の磁気記録媒体１における非磁性層２に含まれる結合剤は、上述したポリエステルポリオール（Ａ）、芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）および化合物（Ｃ）に加えて、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量８００以下の化合物（Ｄ）をさらに反応させて得られたポリウレタン樹脂であってもよい。このような化合物（Ｄ）は、ポリウレタン樹脂の溶解性向上に寄与し、本発明におけるポリエステルポリオール（Ａ）、芳香族ポリイソシアナート（Ｂ）の組み合わせにおいて高い比率で共重合することが可能である。本発明における化合物（Ｄ）成分の共重合比率の増加はウレタン結合基濃度の増加につながり、ポリウレタン樹脂をより強靭なものにする。すなわち、これらの量比を調節することにより、汎用溶剤に対する高い溶解性と強靭な力学物性を併せ持ったポリウレタン樹脂が得られる。これらポリウレタン樹脂としての特性は、磁気記録媒体における非磁性層用の結合剤としての高い分散能力および磁気記録媒体の耐久性の向上に寄与するものである。なお、イソシアネート基と反応する官能基を有する化合物であっても、分子量８００を超える化合物を化合物（Ｄ）として用いた場合には、ポリウレタン樹脂のガラス転移温度が低下し、結果として磁気記録媒体のビットエラーレートが高くなるという傾向にある。また、化合物（Ｄ）の分子量は８００以下であれば特に制限されないが、分子量５０以上であることが好ましい。
【００３８】
本発明に用いられる化合物（Ｄ）としては、イソシアネート基と反応する官能基を２個以上有する分子量８００以下の化合物であれば特に制限されるものではないが、たとえば、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、２，３−ブチレングリコール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２’，２’−ジメチル−３−ヒドロキシプロパネート、２−ノルマルブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、３−エチル−１，５−ペンタンジオール、３−プロピル−１，５−ペンタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、３−オクチル−１，５−ペンタンジオール、３−フェニル−１，５−ペンタンジオール、２，５−ジメチル−３−ナトリウムスルホ−２，５−ヘキサンジオールなどのジオール化合物、１，２−プロパンジアミン、１，５−ペンタメチレンジアミン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，２−ジアミノシクロブタン、１，２−ジアミノシクロペンタン、１，２−ジアミノシクロへプタンなどのジアミン化合物が挙げられる。中でも、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２’，２’−ジメチル−３−ヒドロキシプロパネート、２−ノルマルブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオールが分散性の点で特に好ましい。また、化合物（Ｄ）は、分子量８００以下であれば、ポリエステルポリオール、ポリプロピレングリコールなどでもよい。
【００３９】
なお、化合物（Ｄ）としてイソシアネート基と反応する官能基を１分子中３個以上有する分岐状化合物を用いると後述する架橋反応において反応性の向上に有効である。このような化合物（Ｄ）として、具体的には、トリメチロールプロパン、グリセリン、トリエタノールアミン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどのポリオールまたはこれらポリオールのうち１種へのｔ−カプロラクトン付加物、プロピレンオキサイド付加物などが挙げられる。
【００４０】
化合物（Ｄ）は、本発明におけるポリウレタン樹脂のウレタン結合基濃度が４０００ｅｑ／１０6ｇを超えない範囲の共重合量で用いられることが好ましい。ウレタン結合基濃度が４０００ｅｑ／１０6ｇを超えた場合には、ポリウレタン樹脂としての力学物性をさらに向上することは可能であるものの、汎用溶剤に対する溶解性が低下し、磁気記録媒体における非磁性層用の結合剤としての高い分散性能が得られないことがある。ウレタン結合基濃度は側鎖に対する化合物（Ｄ）の共重合量、およびポリエステルポリオール（Ａ）の分子量により調節可能である。なお、上記ウレタン結合基濃度の単位は樹脂重量１ｔあたりの当量数（ｅｑ／ｔ）を表す。
【００４１】
本発明におけるポリウレタン樹脂は、分子量についは特に制限されるものではないが、数平均分子量が５０００〜１０００００の範囲内であることが好ましく、１００００〜８００００の範囲内であることがより好ましい。ポリウレタン樹脂の数平均分子量が５０００未満である場合には、得られた非磁性層の機械的強度が不足し、走行耐久性が劣る虞がある。また、ポリウレタン樹脂の数平均分子量が１０００００を超える場合には、溶液粘度が大きくなり、作業性に劣り、また非磁性粒子、研磨剤などの分散性が悪化する虞がある。なお、上述したポリウレタン樹脂の数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）（ウォーターズ社製）を用い、ポリスチレンを標準物質とし、テトラヒドロフランを溶媒として測定し、数平均分子量３００未満の低分子のピークを分析時に削除し、数平均分子量３００以上の高分子のピークをデータ処理することで得られた数値を指す。
【００４２】
上述した本発明におけるポリウレタン樹脂を得るために、ポリエステルポリオール（Ａ）、芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）および化合物（Ｃ）（必要に応じて、さらに化合物（Ｄ））を反応させる方法は、特に制限されるものではないが、原料を溶融状態で行う方法、または、溶液中で溶解して行う方法を挙げることができる。なお、反応触媒としてオクチル酸第一鉄、ジブチル錫ジラウリレート、トリエチルアミンなどを用いてもよい。また紫外線吸収剤、加水分解防止剤、酸化防止剤などをポリウレタン樹脂の製造前、製造中または製造後に添加してもよい。
【００４３】
なお、本発明における非磁性層２用の結合剤には、上述したポリウレタン樹脂のみを用いてもよいが、上述したポリウレタン樹脂と、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、他の放射線硬化型樹脂とを組み合わせて用いることができる。当該ポリウレタン樹脂と組み合わせて用いることのできる樹脂としては、たとえば、（メタ）アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル系共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン系共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、ニトロセルロース、スチレン−ブタジエン系共重合体、ポリビニルアルコール樹脂、アセタール樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカプロラクトンなどの多官能性ポリエーテル類、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、ポリブタジエンエラストマーなどを放射線硬化型に変性した樹脂類が挙げられる。これらの中でも、非磁性粒子の分散性が特に良好であることから、塩化ビニル系共重合体が好ましい。
【００４４】
本発明の磁気記録媒体１における非磁性層２は、上述したポリウレタン樹脂を結合剤として含み、この結合剤中に非磁性粒子が分散されて形成される。この非磁性層２は、磁気記録媒体１において、薄層化された磁性層３の電磁変換特性を改良して、より一層の信頼性の向上を図ることを目的として設けられたものである。本発明の磁気記録媒体１によれば、上述したポリウレタン樹脂を結合剤として用いてなることで、従来より少ない放射線照射量（３Ｍｒａｄ以下）にて当該ポリウレタン樹脂を十分に硬化することができ、十分な塗膜強度を有する非磁性層２を有する磁気記録媒体１を実現することができる。このような本発明の磁気記録媒体１は、低放射線照射量で作製できるため、その生産性が十分に高められたものである。また、本発明によれば、中心線平均粗さも十分に低く、しかも十分に低いビットエラーレートを有する磁気記録媒体１を実現することができるという利点もある。
【００４５】
非磁性層２に用いられる非磁性粒子は、磁界の中に入れたときに磁気モーメントを示さない粒子を指す。このような非磁性粒子としては、たとえば、非磁性酸化鉄（α−Ｆｅ2Ｏ3）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ3）、α−アルミナ（α−Ａｌ2Ｏ3）、硫酸バリウム（ＢａＳＯ4）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、Ｃｒ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2などの粒子、カーボンブラックが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４６】
本発明においては、非磁性層の表面平滑性を向上させる観点からは、非磁性粒子が平均長軸長が１５０ｎｍ以下（より好適には２０〜１３０ｎｍ）の酸化鉄（α−Ｆｅ2Ｏ3）を含むことが好ましい。ここで、平均長軸長とは、各酸化鉄の粒子を顕微鏡観察し、任意に選択した酸化鉄粒子４００個の平均として測定された値を指す。
【００４７】
また本発明においては、非磁性粒子として、平均長軸長が１５０ｎｍ以下の針状の酸化鉄を用いることが好ましい。ここで、針状の酸化鉄とは、アスペクト比が２以上の形状の酸化鉄を指す。特にアスペクト比３〜１５の酸化鉄を非磁性粒子として用いることが好ましい。なお、上記アスペクト比が大きいほど表面平滑性が向上された非磁性層を得ることができるが、アスペクト比が１５を超える場合には、分散時に針状の酸化鉄が折れてしまいやすくなり、所望の効果が得られにくくなる虞がある。
【００４８】
また、本発明においては、非磁性粒子として、上述した平均長軸長が１５０ｎｍ以下の針状の酸化鉄と、粒状の酸化鉄とを併用するようにしてもよい。ここで、粒状の酸化鉄とは、アスペクト比が２未満の形状の酸化鉄を指す。粒状の酸化鉄を併用することで、非磁性粒子と結合剤とを含む非磁性層を形成するための塗料のチキソ性を和らげることができ、また形成された非磁性層を硬くすることができるという利点がある。なお、粒状の酸化鉄を併用する場合、非磁性層の表面平滑性を向上させる観点からは、当該粒状の酸化鉄としては平均長軸長が２０〜１５０ｎｍの範囲内のものを用いることが好ましく、２０〜１３０ｎｍの範囲内のものを用いることがより好ましい。
【００４９】
また本発明における非磁性粒子は、上述した平均長軸長が１５０ｎｍ以下の酸化鉄と、カーボンブラックとを併用することが好ましい。カーボンブラックは、当該非磁性層２上に形成された磁性層３の表面電気抵抗を下げる役割や非磁性層２中に添加された潤滑剤（後述）を保持する役割を有し、また、磁性層３への潤滑剤の供給源としての役割、ならびに、ベースフィルム４表面の突起を埋めることで非磁性層２の表面平滑性を改善し、結果として磁性層３の表面平滑性を改善する役割を有している。
【００５０】
上述のように平均長軸長が１５０ｎｍ以下の酸化鉄と、カーボンブラックとを併用する場合、当該酸化鉄とカーボンブラックとの割合（重量比）は、９５／５〜１０／９０であることが好ましい。カーボンブラックの重量比が５未満であると、添加される潤滑剤の保持力が落ち、耐久性が悪化する虞があり、また、磁性層３の表面電気抵抗が高くなったり光透過率が高くなってしまう虞がある。また、カーボンブラックの重量比が９０を超えると、分散性が悪く、所望の表面平滑性が得られにくい傾向にある。
【００５１】
平均長軸長が１５０ｎｍ以下の酸化鉄と併用するカーボンブラックは、特に制限されるものではないが、非磁性層の表面平滑性を向上させる観点からは、平均粒径が１０〜８０ｎｍのカーボンブラックを用いることが好ましく、１０〜６０ｎｍのカーボンブラックを用いることがより好ましい。また、本発明に用いるカーボンブラックは、非磁性層を形成するための塗料の分散最適粘性の観点から、ＢＥＴ比表面積（たとえば非磁性粒子を脱気し、吸着占有面積既知分子を吸着、脱離させることで測定）が５０〜５００ｍ2／ｇであることが好ましく、６０〜２５０ｍ2／ｇであることがより好ましい。このようなカーボンブラックは、たとえば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参照して、ファーネスカーボンブラック、サーマルカーボンブラック、アセチレンブラックなどから選択して、単独あるいは混合して用いることができる。
【００５２】
また本発明における非磁性層２は、非磁性粒子として、平均粒径が０．１〜１．０μｍのα−Ａｌ2Ｏ3またはＣｒ2Ｏ3の粒子を含んでいてもよい。平均粒径が０．１〜１．０μｍのα−Ａｌ2Ｏ3またはＣｒ2Ｏ3の粒子は研磨剤として作用し、これを含むことで非磁性層２の強度を向上させることができる。
【００５３】
本発明における非磁性層２に含まれる非磁性粒子の含有率は、特に制限されるものではないが、非磁性層２全体の組成中、６５〜９０重量％の範囲内であることが好ましく、７０〜８７重量％の範囲内であることがより好ましい。非磁性粒子の含有率が６５重量％未満である場合には、非磁性粒子間に空隙が殆ど存在しないため、カレンダー加工性が悪いというような傾向にあり、また、非磁性粒子の含有率が９０重量％を超えると、非磁性粒子の表面を被覆するだけの樹脂がないため、混練性・分散性が悪くなる傾向にあるためである。
【００５４】
また、本発明における非磁性層２に含まれる非磁性粒子および結合剤の混合比率は、特に制限されるものではないが、非磁性粒子１００重量部に対し、結合剤を５〜５０重量部の割合で混合させることが好ましく、１０〜３０重量部の割合で混合させることがより好ましい。結合剤が非磁性粒子１００重量部に対し５重量部未満であると、混練性・分散性が悪くなる傾向にあり、また、結合剤が非磁性粒子１００重量部に対し５０重量部を超えると、非磁性粒子間に空隙が殆ど存在しないため、カレンダー加工性が悪いというような傾向にある。
【００５５】
本発明における非磁性層２は、上述した非磁性粒子および結合剤を含む塗料を調製し、これをベースフィルム４の一方の表面に塗布して塗膜を形成後、放射線を照射して塗膜中のポリウレタン樹脂を硬化させて、形成することができる。この非磁性層２を形成するための塗料には、上述した非磁性粒子および結合剤に有機溶剤を加えることにより調製される。用いる有機溶剤は特に制限はなく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤やトルエンなどの芳香族系溶剤などの各種溶剤の１種または２種以上を適宜選択して用いればよい。有機溶剤の添加量は、固形分（非磁性粒子など）と結合剤との合計量１００重量部に対して１００〜１９００重量部程度とすればよい。
【００５６】
非磁性層２を形成するための塗料は、本発明の効果を阻害しない範囲で、上述した非磁性粒子および結合剤の他に、所望に応じ、潤滑剤、分散剤、その他の各種添加剤が添加されていてもよい。潤滑剤としては、たとえば高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、パラフィン、脂肪酸アミドなどの適宜の公知の潤滑剤が挙げられ、また、分散剤としては、たとえば芳香族酸、高級脂肪酸、酸性基含有高分子、アミン基含有高分子などの公知の界面活性剤を挙げることができる。
【００５７】
非磁性層２中に結合剤として含まれるポリウレタン樹脂を硬化させるために用いることができる放射線としては、たとえば電子線、γ線、β線、紫外線などを挙げることができるが、塗膜への透過性が特に良好であることから、電子線が好ましい。本発明におけるポリウレタン樹脂は、上述のように３ＭＲａｄ以下の放射線照射量であっても十分に硬化できるものであるが、放射線の照射量は１〜１０Ｍｒａｄであることが好ましく、２〜７Ｍｒａｄであることがより好ましい。また、放射線の照射エネルギー（加速電圧）は１００ｋＶ以上とすることが好ましい。さらに、放射線の照射は塗布・乾燥後に巻き取る以前に行うことが好ましいが、巻き取り後に行ってもよい。
【００５８】
本発明における非磁性層２は、その厚みは特に制限されるものではないが、２．５μｍ以下であることが好ましく、０．１〜２．３μｍの範囲内であることがより好ましい。非磁性層２の厚みを２．５μｍを超えて厚くしても、性能の向上は望めず、かえって非磁性層２を形成する際に厚みが不均一となり易く、塗料を塗布する条件が厳しくなり、表面平滑性も悪くなる虞がある。
【００５９】
本発明の磁気記録媒体１において、非磁性層２上に形成される磁性層３は、磁性粒子と結合剤とを含む。ここで、磁性層３に用いられる磁性粒子は、磁界に入れたときに磁気モーメントを示す粒子を指す。このような磁性粒子としては、特に制限されるものではないが、たとえば金属合金粒子、六方晶形板状粒子などの強磁性粒子を用いることができる。
【００６０】
金属合金粒子としては、たとえば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｐｔ、Ｃｒ、Ｎｄなどの合金で形成されたものを用いることができ、中でも保磁力と飽和磁化とを両立するという観点から、ＦｅまたはＣｏの合金の粒子が好ましい。金属合金粒子は、目的に応じてＮｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｙなどの希土類元素が添加元素として添加されていてもよい。金属合金粒子は、高密度記録における粒子性ノイズを低減できることから、平均長軸長が０．０３〜０．３００μｍ、平均短軸長が１０〜４０ｎｍ、アスペクト比が１．２〜２０であることが好ましい。また、保磁力Ｈｃが１１９．４〜２３８．７ｋＡ／ｍ（１５００〜３０００Ｏｅ）、飽和磁化σｓが１１０〜１６０Ａｍ2／ｋｇ（１１０〜１６０ｅｍｕ／ｇ）の金属合金粒子を用いると、得られた磁気記録媒体の保磁力Ｈｃを１１９．４〜２７８．７ｋＡ／ｍ（１５００〜３５００Ｏｅ）の範囲内に実現することができ、好ましい。ここで、金属合金粒子の平均長軸長、平均短軸長およびアスペクト比は、たとえば各金属合金粒子を顕微鏡観察し、任意に選択した金属合金粒子４００個の平均をとることで測定された値を指し、また、金属合金粒子の保磁力Ｈｃおよび飽和磁化σｓは、たとえばＶＳＭ装置にて測定された値を指す。
【００６１】
六方晶形板状粒子としては、たとえば、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体などの材料で形成されたものを用いることができ、中でも高保磁力の観点から、バリウムフェライトで形成された六方晶形板状粒子が好ましい。六方晶形板状粒子は、目的に応じてＮｉ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｎなどの希土類元素が添加元素として添加されていてもよい。六方晶形板状粒子は、高密度記録における粒子性ノイズを低減できることから、平均板粒径が２０〜８０ｎｍ、板比が２〜７であることが好ましい。また、保磁力Ｈｃが７９．６〜３０２．４ｋＡ／ｍ（１０００〜３８００Ｏｅ）、飽和磁化σｓが５０〜７０Ａｍ2／ｋｇ（５０〜７０ｅｍｕ／ｇ）の六方晶形板状粒子を用いると、得られた磁気記録媒体の保磁力Ｈｃを７９．６〜３１８．３ｋＡ／ｍ（１０００〜４０００Ｏｅ）の範囲内に実現することができ、好ましい。ここで、六方晶形板状粒子の平均板粒径および板比はたとえば各六方晶形板状粒子を顕微鏡観察し、任意に選択した六方晶形板状粒子４００個の平均をとることで測定された値を指し、また、六方晶形板状粒子の保磁力Ｈｃおよび飽和磁化σｓは、上述した金属合金粒子の保磁力Ｈｃおよび飽和磁化σｓと同様の方法で測定された値を指す。
【００６２】
本発明における磁性層３中、磁性粒子の含有率は特に制限されるものではないが、磁性層３全体の組成中、７０〜９０重量％の範囲内であることが好ましく、７０〜８０重量％の範囲内であることがより好ましい。磁性粒子の含有率が７０重量％未満であると、得られた磁気記録媒体１において高い再生出力が得られにくくなる虞があるためであり、また、磁性粒子の含有率が９０重量％を超えると、結合剤の含有率が減少するため、得られた磁気記録媒体１の走行時に磁性層３の剥れが発生しやすくなる虞があるためである。
【００６３】
また、本発明における磁性層３に用いられる結合剤としては、従来公知の適宜の熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、他の放射線硬化型樹脂やこれらの混合物を好適に用いることができ、特に制限されるべきものではない。また、非磁性層２に用いられる結合剤として上述したポリウレタン樹脂を単独または他の樹脂と組み合わせて、磁性層３における結合剤として用いることも可能である。
【００６４】
本発明における磁性層３に含まれる磁性粒子および結合剤の混合比率は、特に制限されるものではないが、磁性粒子１００重量部に対し、結合剤を５〜４０重量部の割合で混合させることが好ましく、１０〜３０重量部の割合で混合させることがより好ましい。結合剤が磁性粒子１００重量部に対し５重量部未満であると、磁性層３の強度が低下するため、走行耐久性が悪化しやすくなる傾向にあり、また、結合剤が磁性粒子１００重量部に対し４０重量部を超えると、磁性層３に含まれる磁性粒子が少なすぎて、得られた磁気記録媒体１の電磁変換特性が低下する傾向にある。
【００６５】
本発明における磁性層３は、磁性粒子および結合剤に有機溶剤を加えて塗料を調製し、この塗料をベースフィルム４上に既に形成された非磁性層２上に塗布し、乾燥させることで形成することができる。用いる有機溶剤は特に制限はなく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤やトルエンなどの芳香族系溶剤などの各種溶剤の１種または２種以上を適宜選択して用いればよい。有機溶剤の添加量は、固形分（強磁性粒子や各種無機粒子など）と結合剤との合計量１００重量部に対して１００〜１９００重量部程度とすればよい。
【００６６】
また、磁性層３を形成するための塗料には、本発明の効果を阻害しない範囲で、磁性粒子および結合剤の他、架橋剤（硬化剤）、研磨剤、分散剤（界面活性剤）、潤滑剤などの各種添加剤を添加するようにしてもよい。これらの添加剤は、従来公知の適宜のものを用いればよく、たとえば架橋剤としては、結合剤として熱硬化型樹脂を用いる場合には、各種のポリイソシアネートが挙げられる。架橋剤を添加する場合には、結合剤１００重量部に対して１０〜３０重量部配合することが好ましい。
【００６７】
本発明の磁気記録媒体１における磁性層３の厚みは、特に制限されるものではないが、３００ｎｍ以下であることが好ましく、１０〜３００ｎｍの範囲内であることがより好ましく、２０〜３００ｎｍの範囲内であることが特に好ましい。磁性層３の厚みが３００ｎｍを超える場合には、自己減磁損失や厚み損失が大きくなる虞がある。また、磁性層３の厚みが１０ｎｍ未満である場合には、塗布の欠陥が発生し、ドロップアウトとなりやすくなる傾向にある。
【００６８】
本発明の磁気記録媒体１は、通常、上述した非磁性層２および磁性層３が、非磁性支持体であるベースフィルム４の一方の表面に形成されてなる。ベースフィルム４としては、各種可撓性材料、たとえばポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂または芳香族ポリアミド樹脂などの既知の樹脂フィルムまたはこれらの積層樹脂フィルムから適宜選定することができ、その厚みなどについても既知の範囲内であり、特に制限されるべきものではない。
【００６９】
ベースフィルム４上に非磁性層２および磁性層３を形成する方法としては、非磁性層２を形成する塗料をベースフィルム４上に塗布後、非磁性層２が湿潤状態のうちに磁性層３を形成する塗料を塗布するウエットオンウェット塗布であってもよく、また、非磁性層２を乾燥させた後に磁性層３を形成する塗料を塗布するウェットオンドライ塗布であってもよい。記録密度向上の観点からは、非磁性層２および磁性層３の両方の表面平滑性を高度に制御し得ることから、ウエットオンドライ塗布によって非磁性層２および磁性層３を形成することが好ましく、非磁性層２に結合剤として含まれるポリウレタン樹脂を放射線照射によって硬化させた後に磁性層３を塗布して形成するようにすることが特に好ましい。
【００７０】
また、図１に示す例の磁気記録媒体１では、ベースフィルム４の非磁性層２および磁性層３が形成された一方の表面とは反対側である他方の表面に、バックコート層５が形成されてなる。バックコード層５は、磁気記録媒体１のテープ走行性を向上させるとともに、ベースフィルム４の傷付き（摩耗）や磁気記録媒体１の帯電を防止する役割を果たす。
【００７１】
バックコート層５の形成には、従来公知の適宜の熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、他の放射線硬化型樹脂やこれらの混合物を好適に用いることができ、特に制限されるべきものではない。また、非磁性層２に用いられる結合剤として上述したポリウレタン樹脂を単独または他の樹脂と組み合わせて用いて、バックコート層５を形成することも可能である。
【００７２】
またバックコート層５には、帯電防止性を付与する観点からは、３０〜８０重量％のカーボンブラックを含有させることが好ましい。このようなカーボンブラックとしては、特に制限されるものではなく、非磁性層２に非磁性粒子として用いることができるカーボンブラックと同様のものを用いることができる。また、バックコート層５には、必要に応じ、各種研磨剤などの非磁性無機粒子、界面活性材などの分散剤、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコンオイルなどの潤滑剤、その他の各種添加剤を添加してもよい。
【００７３】
バックコート層５の厚みは、０．１〜１．０μｍ、好ましくは０．２〜０．９μｍである。バックコート層５の厚みが１．０μｍを超えると、媒体摺接経路との間の摩擦が大きくなり過ぎて、磁気記録媒体１の走行安定性が低下する傾向にある。また、バックコート層５の厚みが０．１μｍ未満であると、磁気記録媒体１の走行時にバックコート層５の塗膜削れが発生しやすくなる虞がある。
【００７４】
なお、図１に示した例の磁気記録媒体１は、あくまで好適な一例として示したものに過ぎず、本発明の磁気記録媒体は、図１に示した構造に限定されるものではない。たとえば、ベースフィルムと非磁性層との間に、ベースフィルム４に対する非磁性層の接着性の向上を目的として、下塗り層（易接着層）を設けるようにしてもよい。下塗り層は、たとえば易接着性塗布剤としてポリエステル樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂などを用いて形成することができる。
【００７５】
以下、実施例および比較例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の略号は、以下のとおりである。
【００７６】
・ＡＡ：アジピン酸
・ＳＡ：セバシン酸
・ＩＡ：イタコン酸
・ＴＰＡ：テレフタル酸
・ＩＰＡ：イソフタル酸
・ＥＧ：エチレングリコール
・ＨＤ：１，６−ヘキサンジオール
・ＤＭＨ：２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール
・ＮＰＧ：２，２−ジメチル−１．３−プロパンジオール
・ＨＰＮ：２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２’，２’−ジメチル−３−
ヒドロキシプロパネート
・ＭＤＩ：４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート
・ＩＰＤＩ：イソホロンジイソシアネート
・ＰＥＴＡ：モノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレート
（１分子中の二重結合３個）
・７０１Ａ：２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキジプロピルメタクリレート
（１分子中の二重結合２個：新中村化学（株）製）
・リン化合物：化学式（ｖｉｉ）
【００７７】
【化８】
【００７８】
・ＭＥＫ：メチルエチルケトン
以下に樹脂物性の測定方法について説明する。
【００７９】
（１）ポリエステルポリオール（Ａ）の水酸基価
ポリエステルポリオール５０ｇをＭＥＫ１２０ｇの混合溶剤に溶解し、ＭＤＩ７０ｇを加え、７０℃で２時間反応させた。次いで、反応液中の残存イソシアネート基濃度を滴定により定量し、水酸基価を求めた。
【００８０】
（２）数平均分子量
ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）（ウォーターズ社製）により、ポリスチレンを標準物質とし、テトラヒドロフランを溶媒として測定した。なお、数平均分子量３００未満の低分子のピークは分析時には削除し、数平均分子量３００以上の高分子のピークをデータ処理することで数平均分子量とした。
【００８１】
（３）組成分析
クロロホルムＤ溶媒中で核磁気共鳴分析計（ＮＭＲ）ジェミニー２００（ヴァリアン社製）を用いて、1Ｈ−ＮＭＲ分析を行ってその積分比より決定した。
【００８２】
（４）ガラス転移温度
厚み３０μｍでポリウレタン樹脂フィルムを作成し、４ｍｍ×１５ｍｍに切断後、動的粘弾性測定装置ＤＶＡ−２２０（アイティー計測制御株式会社製）を用いて、周波数１０Ｈｚ、測定温度範囲３０〜１８０℃、昇温速度４℃／ｍｉｎにて動的粘弾性を測定した。保存弾性率（Ｅ’）の屈折点において、ガラス転移温度以下のベースラインの延長線と屈折点以上における最大傾斜を示す接線との交点の温度をガラス転移温度とした。
【００８３】
（５）リン酸金属塩基濃度
試料０．１ｇを炭化し、酸に溶解した後、原子吸光分析により求めた。下記式により極性基濃度とした。本実施例においては、ナトリウムの濃度を測定した。
【００８４】
リン酸金属塩基濃度（ｅｑ／ｔ）＝金属濃度（ｐｐｍ）／含有する金属の原子量
（６）不飽和炭化水素量
ポリウレタン樹脂製造の際に用いた原料の質量から以下の計算式により算出した。
【００８５】
不飽和炭化水素量（ｅｑ／ｔ）＝｛（不飽和炭化水素基を有する化合物（Ｃ）の質量／不飽和炭化水素基を有する化合物（Ｃ）の分子量）／ポリウレタン樹脂中に仕込んだポリエステルポリオール（Ａ）の質量＋ポリイソシアネート（Ｂ）の質量＋不飽和炭化水素を有する化合物（Ｃ）の質量＋化合物（Ｄ）の質量｝×化合物（Ｃ）１分子中に含まれる不飽和炭化水素基の数×１０6
＜合成例１：ポリエステルポリオール（Ａ）の合成（１）＞
温度計、攪拌機、リービッヒ冷却器を具備した反応容器にアジピン酸１４２重量部、リン化合物８重量部、エチレングリコール３０重量部、１，６−ヘキサンジオール７１重量部、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールを１０４重量部、およびテトラブチルチタネート０．２重量部仕込み、１８０〜２２０℃で１８０分間加熱し、エステル化反応を行った後、反応系を２０分間で５ｍｍＨｇまで減圧し、この間２４０℃まで昇温した。さらに系内を徐々に減圧し、１０分後に０．３ｍｍＨｇ以下とし、２４０℃で重縮合反応を３０分間行った。得られたポリエステルポリオール（ポリエステルポリオール（ａ）と呼称する。）の樹脂組成（モル比）、水酸基価、リン酸金属塩基濃度を表１に示す。
【００８６】
＜合成例２，３：ポリエステルポリオール（Ａ）の合成（２），（３）＞
表１に示す樹脂組成（モル比）としたこと以外は、合成例１と同様にして、ポリエステルポリオールをそれぞれ合成した。得られた各ポリエステルポリオール（ポリエステルポリオール（ｂ），（ｃ）と呼称する。）の水酸基価、リン酸金属塩基濃度を表１に示す。
【００８７】
＜合成例４：ポリエステルポリオール（Ａ）の合成（４）＞
温度計、攪拌機、リービッヒ冷却器を具備した反応容器にアジピン酸を１２４重量部、リン化合物を６６重量部、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールを２０８重量部、およびテトラブチルチタネートを０．２重量部仕込み、１８０〜２２０℃で１８０分間加熱し、エステル化反応を行った後、反応系を５分間、５ｍｍＨｇまで減圧した。得られたポリエステルポリオール（ポリエステルポリオール（ｄ）と呼称する。）の樹脂組成（モル比）、水酸基価、リン酸金属塩基濃度を表１に示す。
【００８８】
＜合成例５：ポリエステルポリオール（Ａ）の合成（５）＞
温度計、攪拌機、リービッヒ冷却器を具備した反応容器にテレフタルジメチルエステル９７重量部、イソフタルジメチルエステル９１重量部、リン化合物を７重量部、エチレングリコール８３重量部、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールを７７重量部、およびテトラブチルチタネートを０．２重量部仕込み、１８０〜２２０℃で１８０分間加熱し、エステル交換反応を行った後、反応系を２０分間で５ｍｍＨｇまで減圧し、この間２４０℃まで昇温した。さらに系内を徐々に減圧し、１０分後に０．３ｍｍＨｇ以下とし、２４０℃で重縮合反応を３０分間行った。得られたポリエステルポリオール（ポリエステルポリオール（ｅ）と呼称する。）の樹脂組成（モル比）、水酸基価、リン酸金属塩基濃度を表１に示す。
【００８９】
【表１】
【００９０】
＜合成実施例１：ポリウレタン樹脂（Ｉ）の合成＞
温度計、攪拌機、リービッヒ冷却器を具備した反応容器にポリエステルポリオール（ａ）１００重量部、トルエン３００重量部を仕込み、溶解後、１２０℃で加熱して、共沸工程にてトルエンと共に系内の水分を溜去した（トルエン１００重量部溜去）。２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール３０重量部、モノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレート２０重量部、およびメチルエチルケトン２００重量部に溶解した。フェノチアジン０．０５重量部を加え、攪拌後、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート６５重量部を加え、触媒としてジブチルチンジラウレート０．０５重量部を添加し、４５℃で１２時間反応させ、ポリウレタン樹脂（Ｉ）を得た。ポリウレタン樹脂（Ｉ）の樹脂組成、数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９１】
＜合成実施例２：ポリウレタン樹脂（ＩＩ）の合成＞
表２に示す樹脂組成としたこと以外は合成実施例１と同様にして、ポリウレタン樹脂（ＩＩ）を合成した。ポリウレタン樹脂（ＩＩ）の数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９２】
＜合成実施例３：ポリウレタン樹脂（ＩＩＩ）の合成＞
温度計、攪拌機、リービッヒ冷却器を具備した反応容器にポリエステルポリオール（ｃ）１００重量部、リン化合物（化学式（ｖｉｉ））２．５重量部、トルエン２６３重量部を仕込み、溶解後、１２０℃で加熱して、共沸工程にてトルエンと共に系内の水分を溜去した（トルエン１００重量部溜去）。２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール２０重量部、モノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレート２０重量部、およびメチルエチルケトン１６３重量部に溶解した。フェノチアジン０．０５重量部を加え、攪拌後、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート３３重量部を加え、触媒としてジブチルチンジラウレート０．０５重量部を添加し、４５℃で１２時間反応させ、ポリウレタン樹脂（ＩＩＩ）を得た。ポリウレタン樹脂（ＩＩＩ）の樹脂組成、数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９３】
＜合成実施例４：ポリウレタン樹脂（ＩＶ）の合成＞
表２に示す樹脂組成としたこと以外は合成実施例１と同様にして、ポリウレタン樹脂（ＩＶ）を合成した。ポリウレタン樹脂（ＩＶ）の数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９４】
＜比較合成例１：ポリウレタン樹脂（Ｖ）の合成＞
表２に示す樹脂組成としたこと以外は合成実施例１と同様にして、ポリウレタン樹脂（Ｖ）を合成した。ポリウレタン樹脂（Ｖ）の数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９５】
＜比較合成例２：ポリウレタン樹脂（ＶＩ）の合成＞
表２に示す樹脂組成としたこと以外は合成実施例１と同様にして、ポリウレタン樹脂（ＶＩ）を合成した。ポリウレタン樹脂（ＶＩ）の数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９６】
＜比較合成例３：ポリウレタン樹脂（ＶＩＩ）の合成＞
表２に示す樹脂組成としたこと以外は合成実施例１と同様にして、ポリウレタン樹脂（ＶＩＩ）を合成した。ポリウレタン樹脂（ＶＩＩ）の数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９７】
＜比較合成例４：ポリウレタン樹脂（ＶＩＩＩ）の合成＞
表２に示す樹脂組成としたこと以外は合成実施例１と同様にして、ポリウレタン樹脂（ＶＩＩＩ）を合成した。ポリウレタン樹脂（ＶＩＩＩ）の数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９８】
【表２】
【００９９】
＜塩化ビニル樹脂の合成＞
温度計、攪拌機、コンデンサーを具備した反応容器にＭＲ１１０を１００重量部、メチルエチルケトン２４５重量部に溶解させ、次いでフェノチアジン、ハイドロキノンをそれぞれ下記アクリル化合物に対して２００ｐｐｍ混合した。その後、２−イソシアネートエチルメタクリレート（ＭＯＩ）５重量部、ウレタン化触媒のジ−ｎ−ブチルチンジラウレートを上記イソシアネート化合物に対して１０００ｐｐｍ混合し、反応温度６０℃で８時間攪拌を行った。得られた放射線硬化型の塩化ビニル樹脂について、測定された数平均分子量は２５０００、ガラス転移温度は６０℃であった。
【０１００】
＜実施例１＞
（非磁性層形成用の塗料の調製）
・非磁性粒子（１）：酸化鉄（α−Ｆｅ2Ｏ3）粒子（平均長軸長：１００ｎｍ、結晶子径：１２ｎｍ、アスペクト比：８） ８０．０重量部
・非磁性粒子（２）：カーボンブラック（♯９５０Ｂ、三井化学（株）製、平均粒径：１７ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：２５０ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量：７０ｍｌ／１００ｇ、ｐＨ：８） ２０．０重量部
・塩化ビニル樹脂（重合度：３００、過硫酸カリ使用硫黄含有率：０．６重量％） １２．０重量部（上述のように合成したもの）
・ポリウレタン樹脂（Ｉ）（リン酸金属塩基（＝ＰＯ2Ｎａ）：６４ｅｑ／ｔ、化合物（Ｃ）のモル％：５モル％、骨格：脂肪族骨格） １０．０重量部
・分散剤：リン酸系界面活性剤（ＲＥ６１０、東邦化学工業（株）製） ３．２重量部
・研磨剤：α−アルミナ（ＨＩＴ６０Ａ、住友化学（株）製）、平均粒径：０．１８μｍ） ５．０重量部
上記の材料を、固形分濃度が３３％（質量百分率）、溶剤比率がＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝２／２／１（質量比）となるように混合し、ニーダーで混練した後、０．８ｍｍのジルコニアビーズが充填率８０％（空隙率；５０体積％）にて充填された横型のピンミルにて分散した。その後、さらに、下記の潤滑剤を添加した。
【０１０１】
・潤滑剤：脂肪酸（ＮＡＡ１８０、日本油脂（株）製） ０．５重量部
・潤滑剤：脂肪酸アマイド（脂肪酸アマイドＳ、花王（株）製） ０．５重量部
・潤滑剤：脂肪酸エステル（ＮＩＫＫＯＯＬＢＳ、日光ケミカルズ（株）製） １．０重量部
上記添加剤を添加して、固形分濃度が２５％（質量百分率）、溶剤比率がＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝２／２／１（質量百分率）となるように希釈した後、分散を行った。得られた塗料をさらに絶対ろ過精度１．０μｍのフィルタでろ過して、非磁性層形成用の塗料を作製した。
【０１０２】
（磁性層形成用の塗料の調製）
・磁性粒子：Ｆｅ系針状強磁性粒子（Ｆｅ／Ｃｏ／Ａｌ／Ｙ＝１００／２４／５／８（原子比）、Ｈｃ：１８８ｋＡ／ｍ、σｓ：１４０ｍＡ2／ｋｇ、ＢＥＴ比表面積：５０ｍ2／ｇ、平均長軸長：０．１０μｍ） １００．０重量部
・塩化ビニル樹脂：塩化ビニル共重合体（ＭＲ１１０、日本ゼオン（株）製） １０．０重量部
・ポリウレタン樹脂：ポリエステルウレタン（ＵＲ８３００、東洋紡績（株）製） ６．０重量部
・分散剤：リン酸系界面活性剤（ＲＥ６１０、東邦化学工業（株）製） ３．０重量部
・研磨剤：α−アルミナ（ＨＩＴ６０Ａ、住友化学（株）製、平均粒径：０．１８μｍ） １０．０重量部
上記の材料を、固形分濃度が３０％（質量百分率）、溶剤比率がＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝４／４／２（質量比）となるように混合し、ニーダーで混練した後、前分散として０．８ｍｍのジルコニアビーズを充填率８０％（空隙率：５０体積％）にて充填した横型のピンミルにて分散した。
【０１０３】
その後、さらに、固形分濃度が１５％（質量百分率）、溶剤比率がＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝２２．５／２２．５／５５（質量比）となるように希釈してから、仕上げ分散を行った。得られた塗料に硬化剤（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製）４重量部を添加混合した後、さらに絶対ろ過精度０．５μｍのフィルターでろ過して、磁性層形成用の塗料を作製した。
【０１０４】
（バックコート層形成用の塗料の作製）
・カーボンブラック（ＢＰ−８００、キャボット（株）製、平均粒径：１７ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：６８ｍｌ／１００ｇ、ＢＥＴ比表面積：２１０ｍ2／ｇ） ７５．０重量部
・カーボンブラック（ＢＰ−１３０、キャボット（株）製、平均粒径：７５ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：６９ｍｌ／１００ｇ、ＢＥＴ比表面積：２５ｍ2／ｇ） １５．０重量部
・炭酸カルシウム粒子（白艶華０、白石工業（株）製、平均粒径：３０ｎｍ） １０．０重量部
・ニトロセルロース（ＢＴＨ１／２、旭化成工業（株）製） ６５．０重量部
・ポリウレタン樹脂（脂肪族ポリエステルジオール／芳香族ポリエステルジオール＝４３／５７） ３５．０重量部
上記の材料のうち有機溶剤の一部を除いた状態で、固形分濃度が３０％（質量百分率）、溶剤比率がＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン＝１／１／１（質量比）となるように混合し、ニーダーにて高粘度状態で十分に混練処理した。次いで、有機溶剤を適量添加してディゾルバにて十分に攪拌した後、上記の材料をニーダーで混練した後、前分散として０．８ｍｍのジルコニアビーズを充填率８０％（空隙率：５０体積％）にて充填した横型のピンミルにて分散した。
【０１０５】
その後、さらに、固形分濃度が１０％（質量百分率）、溶剤比率がＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝５０．０／４０．０／１０．０（質量比）となるように希釈してから、仕上げ分散を行った。得られた塗料に硬化剤（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製）１０重量部を添加混合した後、さらに絶対ろ過精度０．５μｍのフィルターでろ過して、バックコート層形成用の塗料を作製した。
【０１０６】
（非磁性層２形成工程）
６．２μｍ厚のベースフィルム４（ポリエチレンナフタレートフィルム）の一方の表面に、カレンダー加工後の厚みが２．０μｍになるように、上述した非磁性層形成用の塗料をノズルにより押出し塗布法で塗布して、乾燥した。その後、プラスチックロールと金属ロールとを組み合わせたカレンダーにて、ニップ数４回、加工温度１００℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍで加工を行い、さらに、２．０Ｍｒａｄ、加速電圧２００ｋＶにて電子線照射を行い、非磁性層２を形成した。
【０１０７】
（磁性層３形成工程）
上述したようにして形成した非磁性層２上に、上述した磁性層形成用の塗料を、加工後の厚みが０．２μｍとなるようにノズルによる押出し塗布法で塗布して、配向を行い、乾燥した。その後、プラスチックロールと金属ロールとを組み合わせたカレンダーにて、ニップ数４回、加工温度１００℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍで加工を行い、磁性層３を形成した。
【０１０８】
（バックコート層５形成工程）
上述したようにして形成されたベースフィルム４の他方の表面に、上述したバックコート層５形成用の塗料を０．７μｍの乾燥厚になるようにノズルにより押出し塗布法で塗布して、乾燥した。その後、プラスチックロールと金属ロールとを組み合わせたカレンダーにて、ニップ数４回、加工温度１００℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍで加工を行い、バックコート層５を形成した。
【０１０９】
以上のようにして得られた磁気記録テープ原反を、６０℃で４８時間熱硬化させて、１．２ｉｎｃｈ（＝１２．６５０ｍｍ）幅にスリット（裁断）し、実施例１の磁気記録媒体としてデータ用磁気テープのサンプルを作製した。
【０１１０】
＜実施例２〜４＞
非磁性層形成用の塗料の調製において、ポリウレタン樹脂（Ｉ）に代えて、上述したポリウレタン樹脂（ＩＩ），（ＩＩＩ），（ＩＶ）をそれぞれ使用した以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜４のデータ用磁気テープの各サンプルを作製した。
【０１１１】
＜比較例１＞
非磁性層形成用の塗料の調製において、ポリウレタン樹脂（Ｉ）に代えて、不飽和炭化水素量が８００ｅｑ／ｔ未満であるポリウレタン樹脂（Ｖ）を使用した以外は実施例１と同様にして、比較例１の磁気テープのサンプルを作製した。
【０１１２】
＜比較例２＞
非磁性層形成用の塗料の調製において、ポリウレタン樹脂（Ｉ）に代えて、酸成分として脂肪族ジカルボン酸を含まないポリエステルポリオールを用いたポリウレタン樹脂（ＶＩ）を使用した以外は実施例１と同様にして、比較例２の磁気テープのサンプルを作製した。
【０１１３】
＜比較例３＞
非磁性層形成用の塗料の調製において、ポリウレタン樹脂（Ｉ）に代えて、リン酸金属塩基濃度が５０ｅｑ／ｔ未満であるポリウレタン樹脂（ＶＩＩ）を使用した以外は実施例１と同様にして、比較例３の磁気テープのサンプルを作製した。
【０１１４】
＜比較例４＞
非磁性層形成用の塗料の調製において、ポリウレタン樹脂（Ｉ）に代えて、リン酸金属塩基濃度が１００ｅｑ／ｔを超え、かつ、不飽和炭化水素量が１６００ｅｑ／ｔを超えるポリウレタン樹脂（ＶＩＩＩ）を使用した以外は実施例１と同様にして、比較例４の磁気テープのサンプルを作製した。
【０１１５】
（ポリウレタン樹脂および磁気記録媒体の評価）
各ポリウレタン樹脂および磁気記録媒体のサンプルについて、次の評価を行った。結果を表３に示す。
【０１１６】
（１）評価１：架橋性評価
ポリウレタン樹脂を固形分濃度２０重量％（溶剤：ＭＥＫ）に調製し、塗布液とした。この塗布液を剥離フィルム上にアプリケーターで塗布し、室温で１２時間、９０℃で１５分間乾燥させ、厚み２０μｍの樹脂皮膜を作製した。これを架橋性評価用のサンプルとした。得られた放射線未硬化の樹脂皮膜に、２．０Ｍｒａｄの電子線を照射して、電子線照射を行った。次いで、硬化された樹脂皮膜（以下、電子線硬化型樹脂皮膜）を剥離フィルムから剥離し、約１ｃｍ×４ｃｍの大きさに切り出した。切り出した電子線硬化型樹脂皮膜の重量（これをＡ（ｇ）とする）を測定し、その後、この電子線硬化型樹脂皮膜をＭＥＫ中で５時間還流し、還流後の電子線硬化型樹脂皮膜を７０℃で２４時間乾燥させた後、重量（これをＢ（ｇ）とする）を測定した。得られた結果を用いて、上記照射量もおける電子線硬化型樹脂の架橋性を下記式により求めた。
【０１１７】
架橋性（％）＝（Ｂ／Ａ）×１００
（２）評価２：中心線平均粗さ（Ｒａ）
「ＴＡＬＹＳＴＥＰシステム」（テーラーホプソン社製）を用い、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９８２に基づいて、実施例および比較例の各サンプルについて、磁性層３表面の中心線平均粗さＲａの測定を行った。測定の条件は、フィルター０．１８〜９Ｈｚ、触針０．１×２．５μｍスタイラス、触針圧２ｍｇ、測定スピード０．０３ｍｍ／ｓｅｃ、測定長さ５００μｍとした。なお、磁性層３表面の中心線平均粗さＲａの測定は、最終的なカレンダー処理および硬化処理後に行った。
【０１１８】
（３）評価３：ビットエラーレート
カートリッジに組み込んだ実施例および比較例の各磁気テープサンプルに対して、磁気記録ヘッドで記録波長０．２５μｍの単一記録波長を記録し、信号のＰ−Ｐ値（振幅）に対して５０％以下のＰ−Ｐ値（振幅）の信号をミッシングパルスとし、４個以上連続したミッシングパルスをＬｏｎｇ Ｄｅｆｅｃｔとして検出した。基準テープとしての比較例２の１ｍあたりのＬｏｎｇ Ｄｅｆｅｃｔの個数をＮとし、各実施例および比較例の磁気テープ１ｍあたりのＬｏｎｇ Ｄｅｆｅｃｔの個数をＸとして、比較例１〜４および実施例１〜４についてのＬｏｇ10（Ｘ／Ｎ）をそれぞれビットエラーレートとして算出し、算出した各ビットエラーレートの比較を行った。なお、再生ヘッドには、磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＭＲヘッド）を用いた。
【０１１９】
【表３】
【０１２０】
表３に示す各ポリウレタン樹脂の架橋度の測定結果から、実施例１〜４で用いたポリウレタン樹脂（Ｉ）〜（ＩＶ）は２．０Ｍｒａｄという低電子線照射量でありながら、十分な架橋性（８０％以上）を備えていることが確認された。これに対して、比較例１〜４で用いたポリウレタン樹脂（Ｖ）〜（ＶＩＩＩ）では、十分な架橋性（８０％以上）にすることができないことが確認された。
【０１２１】
表３に示す中心線平均粗さＲａの測定結果、およびビットエラーレートの比較結果から、ポリウレタン樹脂（Ｉ）〜（ＩＶ）を用いた実施例１〜４の各サンプルでは、中心線平均粗さＲａを十分に低い値（４ｎｍ以下）にすることができ、磁性層３の表面を十分に平滑に形成することができることが確認された。また、中心線平均粗さＲａの悪い比較例２〜４と比較して、十分に低いビットエラーレートを実現できることが確認された。これに対して、ポリウレタン樹脂（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）を用いた比較例２〜４のサンプルでは、中心線平均粗さＲａを十分に低い値（４ｎｍ以下）にすることができないことが確認された。
【０１２２】
以上のように、各評価１〜３の結果から、ポリウレタン樹脂（Ｉ）〜（ＩＶ）を用いた実施例１〜４では、２．０Ｍｒａｄという低電子線照射量でありながら、十分な架橋性を備え、かつ中心線平均粗さＲａも十分に低く、しかも十分に低いビットエラーレートの磁気記録媒体１を作製できることが分かる。また、低放射線照射量で磁気記録媒体１を作製することができるため、その生産性を十分に高めることができる。結果、安価な磁気記録媒体１を実現することができる。
【０１２３】
今回開示された実施の形態、実施例および比較例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【０１２４】
【図１】本発明の好ましい一例の磁気記録媒体（磁気テープ）１を模式的に示す断面図である。
【符号の説明】
【０１２５】
１ 磁気記録媒体、２ 非磁性層、３ 磁性層、４ ベースフィルム、５ バックコート層。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大容量の記憶装置の普及に伴って、磁気テープなどの磁気記録媒体の高密度化が要望されるようになってきている。このような磁気記録媒体は、通常、非磁性粒子および結合剤を含む非磁性層上に、磁性粒子および結合剤を含む磁性層が形成された構造を備える。
【０００３】
特開平１１−２１３３７９号公報（特許文献１）および特開２００５−１４９６２３号公報（特許文献２）には、当該磁気記録媒体の非磁性層の結合剤として、放射線（電子線）硬化型ポリウレタン樹脂を用いることが開示されている。これらの放射線硬化型ポリウレタン樹脂は、分子中に不飽和炭化水素基を少なくとも１個（好ましくは２〜２０個）有すると共にリン含有極性基を有するポリウレタンアクリレート樹脂である。特許文献１、２に開示されているように、この放射線硬化型ポリウレタン樹脂を含有して非磁性層を形成した場合には、３ＭＲａｄの電子線照射量で十分な硬度を得ることができる。
【特許文献１】特開平１１−２１３３７９号公報
【特許文献２】特開２００５−１４９６２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
磁気記録媒体の非磁性層は、たとえば、非磁性支持体（ベースフィルム）を走行させながら、その一面上に非磁性粒子および上述した放射線硬化型ポリウレタン樹脂を含有する塗料を塗布し、放射線を照射して塗料中の放射線硬化型ポリウレタン樹脂を硬化させることで形成される。近年では、磁気記録媒体の生産性のさらなる向上が望まれており、このためには、非磁性支持体の走行スピードをさらに高速にする必要がある。しかしながら、非磁性支持体の走行スピードが速すぎると、放射線硬化型ポリウレタン樹脂に対する照射量が３Ｍｒａｄ以下となる場合があり、特許文献１、２に開示された放射線硬化型ポリウレタン樹脂では、十分に硬化しない虞があり、その結果として、製造された磁気記録媒体の電磁変換特性が低下するという問題が生じる虞がある。
【０００５】
また、最近では、磁気記録媒体の高記録密度化が特に進んでおり、そのためには記録波長は短く、記録トラック幅は狭く、記録媒体厚は薄くして、最小記録単位も小さくする方向に向かっている。それに対応して磁性層の薄層化も進んでおり、磁性層に用いる磁性粒子としては微粒子で磁気エネルギーの大きい強磁性金属粒子や六方晶フェライト磁性粒子が使用されるようになってきている。
【０００６】
ところが磁性層を薄層化していくと、その表面平滑性は、その下に設けられた非磁性層の表面の凹凸状態に強く影響を受けることになる。したがって、磁性層の良好な表面平滑性を確保するためには、非磁性層の表面をより平滑にすることが求められる。そのため、たとえば平均長軸長が１５０ｎｍ以下の酸化鉄など、より微粒子化された非磁性粒子を用いることが検討されている。しかしながら、たとえば特許文献１に開示された放射線硬化型ポリウレタン樹脂を非磁性層の結合剤として用いた場合には、上記微粒子化された酸化鉄を非磁性粒子として適用すると、当該酸化鉄の分散性が不十分となりやすく、それに起因して非磁性層の表面平滑性が悪化し、ひいてはその上に設けられた磁性層の表面平滑性が悪化して電磁変換特性の低下を招く虞がある。
【０００７】
上述のように、近年の磁気記録媒体に対する高記録密度化の要請に伴って、磁性層の薄膜化や、磁性粒子、非磁性粒子の微粒子化を図っても磁性層の良好な表面平滑性を確保することができ、これにより高記録密度と、Ｓ／Ｎ比（ＳＮＲ）などの電磁変換特性やエラーレートなどの媒体特性とを両立させた磁気記録媒体を実現することが求められている。
【０００８】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的とするところは、微粒子化された非磁性粒子を用いても良好な分散性を有し、３Ｍｒａｄ以下の放射線量であっても十分な塗膜強度を確保し得る非磁性層を備える磁気記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性粒子および結合剤を含む非磁性層上に、磁性粒子および結合剤を含む磁性層が形成された構造を備え、非磁性層に含まれる結合剤が、分子中に５０〜１００ｅｑ／ｔのリン酸金属塩基、ならびに、８００〜１６００ｅｑ／ｔの不飽和炭化水素基を有するポリウレタン樹脂であり、かつ、酸成分として脂肪族ジカルボン酸を含むポリエステルポリオール（Ａ）と、芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）と、不飽和炭化水素基を有し、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量５００以下の化合物（Ｃ）とを反応させて得られたポリウレタン樹脂を含むことを特徴とする。
【００１０】
本発明における非磁性層に含まれる非磁性粒子は、平均長軸長が１５０ｎｍ以下の酸化鉄を含むことが、好ましい。
【００１１】
また本発明における非磁性層に含まれる結合剤は、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量８００以下の化合物（Ｄ）をさらに反応させて得られたポリウレタン樹脂であることが、好ましい。
【００１２】
また、本発明におけるポリエステルポリオール（Ａ）は、酸成分中に脂肪族ジカルボン酸を７０〜１００モル％含み、かつ、化合物（Ｃ）が不飽和炭化水素基を１分子に２〜４個含むことが、好ましい。
【００１３】
さらに本発明における磁性層の厚みは、３００ｎｍ以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、非磁性層における結合剤として用いてなるポリウレタン樹脂を、低放射線照射量で十分に硬化することができ、十分な塗膜強度を有する非磁性層を有する磁気記録媒体を実現することができる。このような本発明の磁気記録媒体は、低放射線照射量で作製できるため、その生産性が十分に高められたものである。また、本発明によれば、中心線平均粗さも十分に低く、しかも十分に低いビットエラーレートを有する磁気記録媒体を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図１は、本発明の好ましい一例の磁気記録媒体（磁気テープ）１を模式的に示す断面図である。本発明の磁気記録媒体１は、非磁性粒子および結合剤を含む非磁性層２上に、磁性粒子および結合剤を含む磁性層３が形成された構造を備える。また、本発明の磁気記録媒体１は、通常、図１に示す例のように、非磁性層２および磁性層３はベースフィルム４の一方の表面にこの順で形成されて、記録再生装置（図示せず）による各種記録データの記録再生が可能に構成されるとともに、ベースフィルム４の他方の表面にはバックコート層５が形成されてなる。なお、図１には、本発明についての理解を容易とするために、磁気記録媒体１の各層の厚みを誇張して厚く図示するとともに、各層の厚みの比を実際とは異なる比に変更して図示している。本発明の磁気記録媒体１は、非磁性層２に含まれる結合剤が、ポリエステルポリオール（Ａ）と、芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）と、不飽和炭化水素基を有し、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量５００以下の化合物（Ｃ）とを反応させて得られた特定のポリウレタン樹脂（放射線硬化型ポリウレタン樹脂）を含むことを特徴とする。
【００１６】
本発明に用いられるポリエステルポリオール（Ａ）は、通常の二塩基酸とグリコールとを重縮合して得られるものであり、酸成分として脂肪族ジカルボン酸を含む。このような脂肪族ジカルボン酸としては、たとえば、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、ドデシニルコハク酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、３−ヘキセンジカルボン酸が挙げられるが、これらに制限されるものではない。中でも、非磁性粒子の分散性の観点から、脂肪族ジカルボン酸として、アジピン酸、セバシン酸、ドデシニルコハク酸、イタコン酸から選ばれる少なくともいずれかを含むことが好ましい。
【００１７】
本発明におけるポリエステルポリオール（Ａ）は、上述した脂肪族ジカルボン酸以外に、他の酸成分を含んでいてもよい。このような他の酸成分としては、たとえばテレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などの芳香族二塩基酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、４−メチル−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２−ビス（４−カルボキシシクロヘキシル）メタン、２，２−ビス（４−カルボキシシクロヘキシル）プロパンなどの脂環族二塩基酸などが挙げられる。ただし、酸成分中に芳香族二塩基酸を３０モル％を超えて含むと、３Ｍｒａｄを下回る放射線照射量では十分に硬化されない虞があるため、芳香族二塩基酸を含む場合には、酸成分中３０モル％以下とすることが好ましい。
【００１８】
本発明におけるポリエステルポリオール（Ａ）に用いるグリコール成分としては、特に制限されるものではないが、たとえば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、２，３−ブチレングリコール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２’，２’−ジメチル−３−ヒドロキシプロパネート、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオールなどの脂肪族系グリコール、１，３−ビス（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ヒドロキシエチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ヒドロキシプロピル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ヒドロキシメトキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ヒドロキシエトキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシメトキシシクロヘキシル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、３（４），８（９）−トリシクロ［５．２．１．０2.6］デカンジメタノールなどの脂環族系グリコールが挙げられる。これらの中でも、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２’，２’−ジメチル−３−ヒドロキシプロパネート、１，６−ヘキサンジオール、１，４−ビス（ヒドロキシメチル）シクロヘキサンが好ましい。
【００１９】
またポリエステルポリオール（Ａ）の原料の一部に無水トリメリット酸、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどの三官能基以上の化合物をポリエステル樹脂の有機溶剤溶解性、塗布作業性などの特性を損なわない範囲で使用してもよい。
【００２０】
本発明における芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）としては、たとえば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、２，６−ナフタレンジイシソアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニレンジイソシアネート、４，４’−ジイソシアネートジフェニルエーテル、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−キシレンジイソシアネートなどが挙げられる。これらの中でも、非磁性粒子の分散性が特に良好であることから、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートが特に好ましい。
【００２１】
本発明に用いられる化合物（Ｃ）としては、不飽和炭化水素基を有し、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量５００以下の化合物であれば特に制限されるものではないが、たとえば、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキジプロピルメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、モノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレートなどが挙げられる。この化合物（Ｃ）は、反応して得られたポリウレタン樹脂に放射線（電子線）硬化性を付与するために配合される。なお、不飽和炭化水素基を有し、イソシアネート基と反応する官能基を有する化合物であっても、分子量が５００を超える化合物を当該化合物（Ｃ）として用いた場合には、ポリウレタン樹脂のガラス転移温度が下がり、結果として磁気記録媒体のビットエラーレートが高くなるという不具合がある。上述した中でも、優れた放射線硬化性を発揮する観点からは、化合物（Ｃ）としてモノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレートを用いることが特に好ましい。また、化合物（Ｃ）の分子量は５００以下であれば特に制限されないが、分子量５０以上であることが好ましい。
【００２２】
上述したポリエステルポリオール（Ａ）と、芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）と、化合物（Ｃ）とを反応させて得られた本発明におけるポリウレタン樹脂は、分子中に５０〜１００ｅｑ／ｔ（好ましくは５０〜８０ｅｑ／ｔ）のリン酸金属塩基を有する。ポリウレタン樹脂に含まれるリン酸金属塩基の濃度が５０ｅｑ／ｔ未満であると、作製された磁気記録媒体１の中心線平均粗さＲａが上昇してしまう不具合がある。また、ポリウレタン樹脂に含まれるリン酸金属塩基の濃度が１００ｅｑ／ｔを超えると、非磁性層を形成するための塗料中で、非磁性粒子と、未吸着のリン酸金属塩基とが相互作用を起こし、当該塗料の粘度が上昇してしまい、これによって塗工性に支障をきたし、得られた磁気記録媒体の中心線平均粗さＲａが上昇してしまう。なお、上記リン酸金属塩基の濃度は、試料０．１ｇを白金ルツボにとって５５０℃で炭化し、酸（具体的には塩酸）に溶解した後、原子吸光分析により金属（具体的にはナトリウム）の濃度を測定し、下記式にて極性基濃度として算出された値を指す（単位は樹脂重量１ｔあたりの当量数（ｅｑ／ｔ）を表す。）。
【００２３】
リン酸金属塩基濃度（ｅｑ／ｔ）＝金属濃度（ｐｐｍ）／含有する金属の原子量
本発明におけるポリウレタン樹脂にリン酸金属塩基を導入し、分子中のリン酸金属塩基の含有量を上述した範囲内とするための手段としては特に制限されないが、たとえば下記式（ｉ）〜（ｖｉｉ）で示されるリン化合物の少なくとも１種を用いることが好ましい。
【００２４】
【化１】
【００２５】
【化２】
【００２６】
【化３】
【００２７】
【化４】
【００２８】
【化５】
【００２９】
【化６】
【００３０】
【化７】
【００３１】
上記各式中、Ｘ，Ｙはヒドロキシル基などのエステル形成性官能基、Ｒ1は炭素数３〜１０の３価の炭化水素基、Ｒ2は炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、シクロアルコキシ基またはアリールオキシ基を示す。アリール基およびアリールオキシ基はハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＭ1（Ｍ1はアルカリ金属を示す）、またはアミノ基が結合したものでもよい。Ｒ3、Ｒ4は、炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、次式：−（ＣＨ2−ＯＲ5）m−で表される基（Ｒ5は炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基を示す）。ｍは１〜４の任意の数値をとることができる。Ｍはアルカリ金属原子を示し、特にＮａが好ましい。
【００３２】
上述した式（ｉ）〜（ｖｉｉ）で示したリン化合物を用いることにより、非磁性粒子（特に、後述する平均長軸長が１５０ｎｍ以下の酸化鉄）に対して良好に作用し、非磁性層２における非磁性粒子の一層の分散性の向上を図ることができる。上記中でも式（ｖｉｉ）で示したリン化合物を用いると、分散性向上の点で特に好ましい。
【００３３】
なお、上述したリン化合物を用いてポリウレタン樹脂中にリン酸塩基を導入する方法としては、ポリエステルポリオール（Ａ）に共重合する方法、鎖延長剤として直接上述したリン化合物を用いて重合する方法が挙げられる。
【００３４】
本発明におけるポリウレタン樹脂は、分子中に８００〜１６００ｅｑ／ｔ（好ましくは９００〜１５００ｅｑ／ｔ）の不飽和炭化水素基を有する。この不飽和炭化水素基は、上述した不飽和炭化水素基を有し、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量５００以下の化合物（Ｃ）に起因するものである。なお、不飽和炭化水素基は骨格ポリウレタン樹脂の主鎖に結合していてもよいし、分枝鎖に結合していてもよい。本発明におけるポリウレタン樹脂は、分子中に８００〜１６００ｅｑ／ｔの不飽和炭化水素基を有することで、３Ｍｒａｄ以下の放射線照射量でも十分に硬化させることが可能となる。
【００３５】
ポリウレタン樹脂中に含まれる不飽和炭化水素基量が８００ｅｑ／ｔ未満であると、３Ｍｒａｄ以下の放射線照射量では十分に硬化されず、また、ポリウレタン樹脂中に含まれる不飽和炭化水素基量が１６００ｅｑ／ｔを超えると、硬化歪みにより、作製された磁気記録媒体の中心線平均粗さＲａが上昇してしまう。なお、上記不飽和炭化水素基量は、たとえば、ポリウレタン樹脂の製造に用いた原料の質量から、下記式により算出された値を指す（単位は樹脂重量１ｔあたりの当量数（ｅｑ／ｔ）を表す。）。
【００３６】
不飽和炭化水素基量（ｅｑ／ｔ）＝｛（化合物（Ｃ）の質量／化合物（Ｃ）の分子量）／ポリウレタン樹脂中に仕込んだポリエステルポリオール（Ａ）の質量＋芳香族ポリポリイソシアネート（Ｂ）の質量＋化合物（Ｃ）の質量（＋後述する化合物（Ｄ）を含む場合には、さらに化合物（Ｄ）の質量）｝×化合物（Ｃ）１分子中に含まれる不飽和炭化水素基の数×１０6
本発明におけるポリウレタン樹脂は、非磁性粒子の分散性および３Ｍｒａｄ以下の放射線の照射による硬化を満足する観点からは、ポリエステルポリオール（Ａ）が酸成分中に脂肪族ジカルボン酸を７０〜１００モル％含み、かつ、化合物（Ｃ）が不飽和炭化水素基を１分子に２〜４個含むことが好ましい。なお、ポリエステルポリオール（Ａ）の酸成分中における脂肪族ジカルボン酸が７０モル％未満であると、非磁性粒子の分散性が低下し、また３Ｍｒａｄ以下の放射線の照射では十分に硬化しない傾向にある。また、化合物（Ｃ）の不飽和炭化水素基が１分子に１個である場合には、３Ｍｒａｄ以下の放射線の照射では十分に硬化しない傾向にあり、また化合物（Ｃ）の不飽和炭化水素基が１分子に４個以上である場合には、硬化収縮により非磁性層の表面平滑性が悪化し、磁性層の表面平滑性が悪化する傾向にある。
【００３７】
また本発明の磁気記録媒体１における非磁性層２に含まれる結合剤は、上述したポリエステルポリオール（Ａ）、芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）および化合物（Ｃ）に加えて、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量８００以下の化合物（Ｄ）をさらに反応させて得られたポリウレタン樹脂であってもよい。このような化合物（Ｄ）は、ポリウレタン樹脂の溶解性向上に寄与し、本発明におけるポリエステルポリオール（Ａ）、芳香族ポリイソシアナート（Ｂ）の組み合わせにおいて高い比率で共重合することが可能である。本発明における化合物（Ｄ）成分の共重合比率の増加はウレタン結合基濃度の増加につながり、ポリウレタン樹脂をより強靭なものにする。すなわち、これらの量比を調節することにより、汎用溶剤に対する高い溶解性と強靭な力学物性を併せ持ったポリウレタン樹脂が得られる。これらポリウレタン樹脂としての特性は、磁気記録媒体における非磁性層用の結合剤としての高い分散能力および磁気記録媒体の耐久性の向上に寄与するものである。なお、イソシアネート基と反応する官能基を有する化合物であっても、分子量８００を超える化合物を化合物（Ｄ）として用いた場合には、ポリウレタン樹脂のガラス転移温度が低下し、結果として磁気記録媒体のビットエラーレートが高くなるという傾向にある。また、化合物（Ｄ）の分子量は８００以下であれば特に制限されないが、分子量５０以上であることが好ましい。
【００３８】
本発明に用いられる化合物（Ｄ）としては、イソシアネート基と反応する官能基を２個以上有する分子量８００以下の化合物であれば特に制限されるものではないが、たとえば、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、２，３−ブチレングリコール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２’，２’−ジメチル−３−ヒドロキシプロパネート、２−ノルマルブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、３−エチル−１，５−ペンタンジオール、３−プロピル−１，５−ペンタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、３−オクチル−１，５−ペンタンジオール、３−フェニル−１，５−ペンタンジオール、２，５−ジメチル−３−ナトリウムスルホ−２，５−ヘキサンジオールなどのジオール化合物、１，２−プロパンジアミン、１，５−ペンタメチレンジアミン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，２−ジアミノシクロブタン、１，２−ジアミノシクロペンタン、１，２−ジアミノシクロへプタンなどのジアミン化合物が挙げられる。中でも、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２’，２’−ジメチル−３−ヒドロキシプロパネート、２−ノルマルブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオールが分散性の点で特に好ましい。また、化合物（Ｄ）は、分子量８００以下であれば、ポリエステルポリオール、ポリプロピレングリコールなどでもよい。
【００３９】
なお、化合物（Ｄ）としてイソシアネート基と反応する官能基を１分子中３個以上有する分岐状化合物を用いると後述する架橋反応において反応性の向上に有効である。このような化合物（Ｄ）として、具体的には、トリメチロールプロパン、グリセリン、トリエタノールアミン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどのポリオールまたはこれらポリオールのうち１種へのｔ−カプロラクトン付加物、プロピレンオキサイド付加物などが挙げられる。
【００４０】
化合物（Ｄ）は、本発明におけるポリウレタン樹脂のウレタン結合基濃度が４０００ｅｑ／１０6ｇを超えない範囲の共重合量で用いられることが好ましい。ウレタン結合基濃度が４０００ｅｑ／１０6ｇを超えた場合には、ポリウレタン樹脂としての力学物性をさらに向上することは可能であるものの、汎用溶剤に対する溶解性が低下し、磁気記録媒体における非磁性層用の結合剤としての高い分散性能が得られないことがある。ウレタン結合基濃度は側鎖に対する化合物（Ｄ）の共重合量、およびポリエステルポリオール（Ａ）の分子量により調節可能である。なお、上記ウレタン結合基濃度の単位は樹脂重量１ｔあたりの当量数（ｅｑ／ｔ）を表す。
【００４１】
本発明におけるポリウレタン樹脂は、分子量についは特に制限されるものではないが、数平均分子量が５０００〜１０００００の範囲内であることが好ましく、１００００〜８００００の範囲内であることがより好ましい。ポリウレタン樹脂の数平均分子量が５０００未満である場合には、得られた非磁性層の機械的強度が不足し、走行耐久性が劣る虞がある。また、ポリウレタン樹脂の数平均分子量が１０００００を超える場合には、溶液粘度が大きくなり、作業性に劣り、また非磁性粒子、研磨剤などの分散性が悪化する虞がある。なお、上述したポリウレタン樹脂の数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）（ウォーターズ社製）を用い、ポリスチレンを標準物質とし、テトラヒドロフランを溶媒として測定し、数平均分子量３００未満の低分子のピークを分析時に削除し、数平均分子量３００以上の高分子のピークをデータ処理することで得られた数値を指す。
【００４２】
上述した本発明におけるポリウレタン樹脂を得るために、ポリエステルポリオール（Ａ）、芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）および化合物（Ｃ）（必要に応じて、さらに化合物（Ｄ））を反応させる方法は、特に制限されるものではないが、原料を溶融状態で行う方法、または、溶液中で溶解して行う方法を挙げることができる。なお、反応触媒としてオクチル酸第一鉄、ジブチル錫ジラウリレート、トリエチルアミンなどを用いてもよい。また紫外線吸収剤、加水分解防止剤、酸化防止剤などをポリウレタン樹脂の製造前、製造中または製造後に添加してもよい。
【００４３】
なお、本発明における非磁性層２用の結合剤には、上述したポリウレタン樹脂のみを用いてもよいが、上述したポリウレタン樹脂と、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、他の放射線硬化型樹脂とを組み合わせて用いることができる。当該ポリウレタン樹脂と組み合わせて用いることのできる樹脂としては、たとえば、（メタ）アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル系共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン系共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、ニトロセルロース、スチレン−ブタジエン系共重合体、ポリビニルアルコール樹脂、アセタール樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカプロラクトンなどの多官能性ポリエーテル類、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、ポリブタジエンエラストマーなどを放射線硬化型に変性した樹脂類が挙げられる。これらの中でも、非磁性粒子の分散性が特に良好であることから、塩化ビニル系共重合体が好ましい。
【００４４】
本発明の磁気記録媒体１における非磁性層２は、上述したポリウレタン樹脂を結合剤として含み、この結合剤中に非磁性粒子が分散されて形成される。この非磁性層２は、磁気記録媒体１において、薄層化された磁性層３の電磁変換特性を改良して、より一層の信頼性の向上を図ることを目的として設けられたものである。本発明の磁気記録媒体１によれば、上述したポリウレタン樹脂を結合剤として用いてなることで、従来より少ない放射線照射量（３Ｍｒａｄ以下）にて当該ポリウレタン樹脂を十分に硬化することができ、十分な塗膜強度を有する非磁性層２を有する磁気記録媒体１を実現することができる。このような本発明の磁気記録媒体１は、低放射線照射量で作製できるため、その生産性が十分に高められたものである。また、本発明によれば、中心線平均粗さも十分に低く、しかも十分に低いビットエラーレートを有する磁気記録媒体１を実現することができるという利点もある。
【００４５】
非磁性層２に用いられる非磁性粒子は、磁界の中に入れたときに磁気モーメントを示さない粒子を指す。このような非磁性粒子としては、たとえば、非磁性酸化鉄（α−Ｆｅ2Ｏ3）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ3）、α−アルミナ（α−Ａｌ2Ｏ3）、硫酸バリウム（ＢａＳＯ4）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、Ｃｒ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2などの粒子、カーボンブラックが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４６】
本発明においては、非磁性層の表面平滑性を向上させる観点からは、非磁性粒子が平均長軸長が１５０ｎｍ以下（より好適には２０〜１３０ｎｍ）の酸化鉄（α−Ｆｅ2Ｏ3）を含むことが好ましい。ここで、平均長軸長とは、各酸化鉄の粒子を顕微鏡観察し、任意に選択した酸化鉄粒子４００個の平均として測定された値を指す。
【００４７】
また本発明においては、非磁性粒子として、平均長軸長が１５０ｎｍ以下の針状の酸化鉄を用いることが好ましい。ここで、針状の酸化鉄とは、アスペクト比が２以上の形状の酸化鉄を指す。特にアスペクト比３〜１５の酸化鉄を非磁性粒子として用いることが好ましい。なお、上記アスペクト比が大きいほど表面平滑性が向上された非磁性層を得ることができるが、アスペクト比が１５を超える場合には、分散時に針状の酸化鉄が折れてしまいやすくなり、所望の効果が得られにくくなる虞がある。
【００４８】
また、本発明においては、非磁性粒子として、上述した平均長軸長が１５０ｎｍ以下の針状の酸化鉄と、粒状の酸化鉄とを併用するようにしてもよい。ここで、粒状の酸化鉄とは、アスペクト比が２未満の形状の酸化鉄を指す。粒状の酸化鉄を併用することで、非磁性粒子と結合剤とを含む非磁性層を形成するための塗料のチキソ性を和らげることができ、また形成された非磁性層を硬くすることができるという利点がある。なお、粒状の酸化鉄を併用する場合、非磁性層の表面平滑性を向上させる観点からは、当該粒状の酸化鉄としては平均長軸長が２０〜１５０ｎｍの範囲内のものを用いることが好ましく、２０〜１３０ｎｍの範囲内のものを用いることがより好ましい。
【００４９】
また本発明における非磁性粒子は、上述した平均長軸長が１５０ｎｍ以下の酸化鉄と、カーボンブラックとを併用することが好ましい。カーボンブラックは、当該非磁性層２上に形成された磁性層３の表面電気抵抗を下げる役割や非磁性層２中に添加された潤滑剤（後述）を保持する役割を有し、また、磁性層３への潤滑剤の供給源としての役割、ならびに、ベースフィルム４表面の突起を埋めることで非磁性層２の表面平滑性を改善し、結果として磁性層３の表面平滑性を改善する役割を有している。
【００５０】
上述のように平均長軸長が１５０ｎｍ以下の酸化鉄と、カーボンブラックとを併用する場合、当該酸化鉄とカーボンブラックとの割合（重量比）は、９５／５〜１０／９０であることが好ましい。カーボンブラックの重量比が５未満であると、添加される潤滑剤の保持力が落ち、耐久性が悪化する虞があり、また、磁性層３の表面電気抵抗が高くなったり光透過率が高くなってしまう虞がある。また、カーボンブラックの重量比が９０を超えると、分散性が悪く、所望の表面平滑性が得られにくい傾向にある。
【００５１】
平均長軸長が１５０ｎｍ以下の酸化鉄と併用するカーボンブラックは、特に制限されるものではないが、非磁性層の表面平滑性を向上させる観点からは、平均粒径が１０〜８０ｎｍのカーボンブラックを用いることが好ましく、１０〜６０ｎｍのカーボンブラックを用いることがより好ましい。また、本発明に用いるカーボンブラックは、非磁性層を形成するための塗料の分散最適粘性の観点から、ＢＥＴ比表面積（たとえば非磁性粒子を脱気し、吸着占有面積既知分子を吸着、脱離させることで測定）が５０〜５００ｍ2／ｇであることが好ましく、６０〜２５０ｍ2／ｇであることがより好ましい。このようなカーボンブラックは、たとえば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参照して、ファーネスカーボンブラック、サーマルカーボンブラック、アセチレンブラックなどから選択して、単独あるいは混合して用いることができる。
【００５２】
また本発明における非磁性層２は、非磁性粒子として、平均粒径が０．１〜１．０μｍのα−Ａｌ2Ｏ3またはＣｒ2Ｏ3の粒子を含んでいてもよい。平均粒径が０．１〜１．０μｍのα−Ａｌ2Ｏ3またはＣｒ2Ｏ3の粒子は研磨剤として作用し、これを含むことで非磁性層２の強度を向上させることができる。
【００５３】
本発明における非磁性層２に含まれる非磁性粒子の含有率は、特に制限されるものではないが、非磁性層２全体の組成中、６５〜９０重量％の範囲内であることが好ましく、７０〜８７重量％の範囲内であることがより好ましい。非磁性粒子の含有率が６５重量％未満である場合には、非磁性粒子間に空隙が殆ど存在しないため、カレンダー加工性が悪いというような傾向にあり、また、非磁性粒子の含有率が９０重量％を超えると、非磁性粒子の表面を被覆するだけの樹脂がないため、混練性・分散性が悪くなる傾向にあるためである。
【００５４】
また、本発明における非磁性層２に含まれる非磁性粒子および結合剤の混合比率は、特に制限されるものではないが、非磁性粒子１００重量部に対し、結合剤を５〜５０重量部の割合で混合させることが好ましく、１０〜３０重量部の割合で混合させることがより好ましい。結合剤が非磁性粒子１００重量部に対し５重量部未満であると、混練性・分散性が悪くなる傾向にあり、また、結合剤が非磁性粒子１００重量部に対し５０重量部を超えると、非磁性粒子間に空隙が殆ど存在しないため、カレンダー加工性が悪いというような傾向にある。
【００５５】
本発明における非磁性層２は、上述した非磁性粒子および結合剤を含む塗料を調製し、これをベースフィルム４の一方の表面に塗布して塗膜を形成後、放射線を照射して塗膜中のポリウレタン樹脂を硬化させて、形成することができる。この非磁性層２を形成するための塗料には、上述した非磁性粒子および結合剤に有機溶剤を加えることにより調製される。用いる有機溶剤は特に制限はなく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤やトルエンなどの芳香族系溶剤などの各種溶剤の１種または２種以上を適宜選択して用いればよい。有機溶剤の添加量は、固形分（非磁性粒子など）と結合剤との合計量１００重量部に対して１００〜１９００重量部程度とすればよい。
【００５６】
非磁性層２を形成するための塗料は、本発明の効果を阻害しない範囲で、上述した非磁性粒子および結合剤の他に、所望に応じ、潤滑剤、分散剤、その他の各種添加剤が添加されていてもよい。潤滑剤としては、たとえば高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、パラフィン、脂肪酸アミドなどの適宜の公知の潤滑剤が挙げられ、また、分散剤としては、たとえば芳香族酸、高級脂肪酸、酸性基含有高分子、アミン基含有高分子などの公知の界面活性剤を挙げることができる。
【００５７】
非磁性層２中に結合剤として含まれるポリウレタン樹脂を硬化させるために用いることができる放射線としては、たとえば電子線、γ線、β線、紫外線などを挙げることができるが、塗膜への透過性が特に良好であることから、電子線が好ましい。本発明におけるポリウレタン樹脂は、上述のように３ＭＲａｄ以下の放射線照射量であっても十分に硬化できるものであるが、放射線の照射量は１〜１０Ｍｒａｄであることが好ましく、２〜７Ｍｒａｄであることがより好ましい。また、放射線の照射エネルギー（加速電圧）は１００ｋＶ以上とすることが好ましい。さらに、放射線の照射は塗布・乾燥後に巻き取る以前に行うことが好ましいが、巻き取り後に行ってもよい。
【００５８】
本発明における非磁性層２は、その厚みは特に制限されるものではないが、２．５μｍ以下であることが好ましく、０．１〜２．３μｍの範囲内であることがより好ましい。非磁性層２の厚みを２．５μｍを超えて厚くしても、性能の向上は望めず、かえって非磁性層２を形成する際に厚みが不均一となり易く、塗料を塗布する条件が厳しくなり、表面平滑性も悪くなる虞がある。
【００５９】
本発明の磁気記録媒体１において、非磁性層２上に形成される磁性層３は、磁性粒子と結合剤とを含む。ここで、磁性層３に用いられる磁性粒子は、磁界に入れたときに磁気モーメントを示す粒子を指す。このような磁性粒子としては、特に制限されるものではないが、たとえば金属合金粒子、六方晶形板状粒子などの強磁性粒子を用いることができる。
【００６０】
金属合金粒子としては、たとえば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｐｔ、Ｃｒ、Ｎｄなどの合金で形成されたものを用いることができ、中でも保磁力と飽和磁化とを両立するという観点から、ＦｅまたはＣｏの合金の粒子が好ましい。金属合金粒子は、目的に応じてＮｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｙなどの希土類元素が添加元素として添加されていてもよい。金属合金粒子は、高密度記録における粒子性ノイズを低減できることから、平均長軸長が０．０３〜０．３００μｍ、平均短軸長が１０〜４０ｎｍ、アスペクト比が１．２〜２０であることが好ましい。また、保磁力Ｈｃが１１９．４〜２３８．７ｋＡ／ｍ（１５００〜３０００Ｏｅ）、飽和磁化σｓが１１０〜１６０Ａｍ2／ｋｇ（１１０〜１６０ｅｍｕ／ｇ）の金属合金粒子を用いると、得られた磁気記録媒体の保磁力Ｈｃを１１９．４〜２７８．７ｋＡ／ｍ（１５００〜３５００Ｏｅ）の範囲内に実現することができ、好ましい。ここで、金属合金粒子の平均長軸長、平均短軸長およびアスペクト比は、たとえば各金属合金粒子を顕微鏡観察し、任意に選択した金属合金粒子４００個の平均をとることで測定された値を指し、また、金属合金粒子の保磁力Ｈｃおよび飽和磁化σｓは、たとえばＶＳＭ装置にて測定された値を指す。
【００６１】
六方晶形板状粒子としては、たとえば、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体などの材料で形成されたものを用いることができ、中でも高保磁力の観点から、バリウムフェライトで形成された六方晶形板状粒子が好ましい。六方晶形板状粒子は、目的に応じてＮｉ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｎなどの希土類元素が添加元素として添加されていてもよい。六方晶形板状粒子は、高密度記録における粒子性ノイズを低減できることから、平均板粒径が２０〜８０ｎｍ、板比が２〜７であることが好ましい。また、保磁力Ｈｃが７９．６〜３０２．４ｋＡ／ｍ（１０００〜３８００Ｏｅ）、飽和磁化σｓが５０〜７０Ａｍ2／ｋｇ（５０〜７０ｅｍｕ／ｇ）の六方晶形板状粒子を用いると、得られた磁気記録媒体の保磁力Ｈｃを７９．６〜３１８．３ｋＡ／ｍ（１０００〜４０００Ｏｅ）の範囲内に実現することができ、好ましい。ここで、六方晶形板状粒子の平均板粒径および板比はたとえば各六方晶形板状粒子を顕微鏡観察し、任意に選択した六方晶形板状粒子４００個の平均をとることで測定された値を指し、また、六方晶形板状粒子の保磁力Ｈｃおよび飽和磁化σｓは、上述した金属合金粒子の保磁力Ｈｃおよび飽和磁化σｓと同様の方法で測定された値を指す。
【００６２】
本発明における磁性層３中、磁性粒子の含有率は特に制限されるものではないが、磁性層３全体の組成中、７０〜９０重量％の範囲内であることが好ましく、７０〜８０重量％の範囲内であることがより好ましい。磁性粒子の含有率が７０重量％未満であると、得られた磁気記録媒体１において高い再生出力が得られにくくなる虞があるためであり、また、磁性粒子の含有率が９０重量％を超えると、結合剤の含有率が減少するため、得られた磁気記録媒体１の走行時に磁性層３の剥れが発生しやすくなる虞があるためである。
【００６３】
また、本発明における磁性層３に用いられる結合剤としては、従来公知の適宜の熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、他の放射線硬化型樹脂やこれらの混合物を好適に用いることができ、特に制限されるべきものではない。また、非磁性層２に用いられる結合剤として上述したポリウレタン樹脂を単独または他の樹脂と組み合わせて、磁性層３における結合剤として用いることも可能である。
【００６４】
本発明における磁性層３に含まれる磁性粒子および結合剤の混合比率は、特に制限されるものではないが、磁性粒子１００重量部に対し、結合剤を５〜４０重量部の割合で混合させることが好ましく、１０〜３０重量部の割合で混合させることがより好ましい。結合剤が磁性粒子１００重量部に対し５重量部未満であると、磁性層３の強度が低下するため、走行耐久性が悪化しやすくなる傾向にあり、また、結合剤が磁性粒子１００重量部に対し４０重量部を超えると、磁性層３に含まれる磁性粒子が少なすぎて、得られた磁気記録媒体１の電磁変換特性が低下する傾向にある。
【００６５】
本発明における磁性層３は、磁性粒子および結合剤に有機溶剤を加えて塗料を調製し、この塗料をベースフィルム４上に既に形成された非磁性層２上に塗布し、乾燥させることで形成することができる。用いる有機溶剤は特に制限はなく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤やトルエンなどの芳香族系溶剤などの各種溶剤の１種または２種以上を適宜選択して用いればよい。有機溶剤の添加量は、固形分（強磁性粒子や各種無機粒子など）と結合剤との合計量１００重量部に対して１００〜１９００重量部程度とすればよい。
【００６６】
また、磁性層３を形成するための塗料には、本発明の効果を阻害しない範囲で、磁性粒子および結合剤の他、架橋剤（硬化剤）、研磨剤、分散剤（界面活性剤）、潤滑剤などの各種添加剤を添加するようにしてもよい。これらの添加剤は、従来公知の適宜のものを用いればよく、たとえば架橋剤としては、結合剤として熱硬化型樹脂を用いる場合には、各種のポリイソシアネートが挙げられる。架橋剤を添加する場合には、結合剤１００重量部に対して１０〜３０重量部配合することが好ましい。
【００６７】
本発明の磁気記録媒体１における磁性層３の厚みは、特に制限されるものではないが、３００ｎｍ以下であることが好ましく、１０〜３００ｎｍの範囲内であることがより好ましく、２０〜３００ｎｍの範囲内であることが特に好ましい。磁性層３の厚みが３００ｎｍを超える場合には、自己減磁損失や厚み損失が大きくなる虞がある。また、磁性層３の厚みが１０ｎｍ未満である場合には、塗布の欠陥が発生し、ドロップアウトとなりやすくなる傾向にある。
【００６８】
本発明の磁気記録媒体１は、通常、上述した非磁性層２および磁性層３が、非磁性支持体であるベースフィルム４の一方の表面に形成されてなる。ベースフィルム４としては、各種可撓性材料、たとえばポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂または芳香族ポリアミド樹脂などの既知の樹脂フィルムまたはこれらの積層樹脂フィルムから適宜選定することができ、その厚みなどについても既知の範囲内であり、特に制限されるべきものではない。
【００６９】
ベースフィルム４上に非磁性層２および磁性層３を形成する方法としては、非磁性層２を形成する塗料をベースフィルム４上に塗布後、非磁性層２が湿潤状態のうちに磁性層３を形成する塗料を塗布するウエットオンウェット塗布であってもよく、また、非磁性層２を乾燥させた後に磁性層３を形成する塗料を塗布するウェットオンドライ塗布であってもよい。記録密度向上の観点からは、非磁性層２および磁性層３の両方の表面平滑性を高度に制御し得ることから、ウエットオンドライ塗布によって非磁性層２および磁性層３を形成することが好ましく、非磁性層２に結合剤として含まれるポリウレタン樹脂を放射線照射によって硬化させた後に磁性層３を塗布して形成するようにすることが特に好ましい。
【００７０】
また、図１に示す例の磁気記録媒体１では、ベースフィルム４の非磁性層２および磁性層３が形成された一方の表面とは反対側である他方の表面に、バックコート層５が形成されてなる。バックコード層５は、磁気記録媒体１のテープ走行性を向上させるとともに、ベースフィルム４の傷付き（摩耗）や磁気記録媒体１の帯電を防止する役割を果たす。
【００７１】
バックコート層５の形成には、従来公知の適宜の熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、他の放射線硬化型樹脂やこれらの混合物を好適に用いることができ、特に制限されるべきものではない。また、非磁性層２に用いられる結合剤として上述したポリウレタン樹脂を単独または他の樹脂と組み合わせて用いて、バックコート層５を形成することも可能である。
【００７２】
またバックコート層５には、帯電防止性を付与する観点からは、３０〜８０重量％のカーボンブラックを含有させることが好ましい。このようなカーボンブラックとしては、特に制限されるものではなく、非磁性層２に非磁性粒子として用いることができるカーボンブラックと同様のものを用いることができる。また、バックコート層５には、必要に応じ、各種研磨剤などの非磁性無機粒子、界面活性材などの分散剤、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコンオイルなどの潤滑剤、その他の各種添加剤を添加してもよい。
【００７３】
バックコート層５の厚みは、０．１〜１．０μｍ、好ましくは０．２〜０．９μｍである。バックコート層５の厚みが１．０μｍを超えると、媒体摺接経路との間の摩擦が大きくなり過ぎて、磁気記録媒体１の走行安定性が低下する傾向にある。また、バックコート層５の厚みが０．１μｍ未満であると、磁気記録媒体１の走行時にバックコート層５の塗膜削れが発生しやすくなる虞がある。
【００７４】
なお、図１に示した例の磁気記録媒体１は、あくまで好適な一例として示したものに過ぎず、本発明の磁気記録媒体は、図１に示した構造に限定されるものではない。たとえば、ベースフィルムと非磁性層との間に、ベースフィルム４に対する非磁性層の接着性の向上を目的として、下塗り層（易接着層）を設けるようにしてもよい。下塗り層は、たとえば易接着性塗布剤としてポリエステル樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂などを用いて形成することができる。
【００７５】
以下、実施例および比較例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の略号は、以下のとおりである。
【００７６】
・ＡＡ：アジピン酸
・ＳＡ：セバシン酸
・ＩＡ：イタコン酸
・ＴＰＡ：テレフタル酸
・ＩＰＡ：イソフタル酸
・ＥＧ：エチレングリコール
・ＨＤ：１，６−ヘキサンジオール
・ＤＭＨ：２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール
・ＮＰＧ：２，２−ジメチル−１．３−プロパンジオール
・ＨＰＮ：２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２’，２’−ジメチル−３−
ヒドロキシプロパネート
・ＭＤＩ：４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート
・ＩＰＤＩ：イソホロンジイソシアネート
・ＰＥＴＡ：モノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレート
（１分子中の二重結合３個）
・７０１Ａ：２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキジプロピルメタクリレート
（１分子中の二重結合２個：新中村化学（株）製）
・リン化合物：化学式（ｖｉｉ）
【００７７】
【化８】
【００７８】
・ＭＥＫ：メチルエチルケトン
以下に樹脂物性の測定方法について説明する。
【００７９】
（１）ポリエステルポリオール（Ａ）の水酸基価
ポリエステルポリオール５０ｇをＭＥＫ１２０ｇの混合溶剤に溶解し、ＭＤＩ７０ｇを加え、７０℃で２時間反応させた。次いで、反応液中の残存イソシアネート基濃度を滴定により定量し、水酸基価を求めた。
【００８０】
（２）数平均分子量
ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）（ウォーターズ社製）により、ポリスチレンを標準物質とし、テトラヒドロフランを溶媒として測定した。なお、数平均分子量３００未満の低分子のピークは分析時には削除し、数平均分子量３００以上の高分子のピークをデータ処理することで数平均分子量とした。
【００８１】
（３）組成分析
クロロホルムＤ溶媒中で核磁気共鳴分析計（ＮＭＲ）ジェミニー２００（ヴァリアン社製）を用いて、1Ｈ−ＮＭＲ分析を行ってその積分比より決定した。
【００８２】
（４）ガラス転移温度
厚み３０μｍでポリウレタン樹脂フィルムを作成し、４ｍｍ×１５ｍｍに切断後、動的粘弾性測定装置ＤＶＡ−２２０（アイティー計測制御株式会社製）を用いて、周波数１０Ｈｚ、測定温度範囲３０〜１８０℃、昇温速度４℃／ｍｉｎにて動的粘弾性を測定した。保存弾性率（Ｅ’）の屈折点において、ガラス転移温度以下のベースラインの延長線と屈折点以上における最大傾斜を示す接線との交点の温度をガラス転移温度とした。
【００８３】
（５）リン酸金属塩基濃度
試料０．１ｇを炭化し、酸に溶解した後、原子吸光分析により求めた。下記式により極性基濃度とした。本実施例においては、ナトリウムの濃度を測定した。
【００８４】
リン酸金属塩基濃度（ｅｑ／ｔ）＝金属濃度（ｐｐｍ）／含有する金属の原子量
（６）不飽和炭化水素量
ポリウレタン樹脂製造の際に用いた原料の質量から以下の計算式により算出した。
【００８５】
不飽和炭化水素量（ｅｑ／ｔ）＝｛（不飽和炭化水素基を有する化合物（Ｃ）の質量／不飽和炭化水素基を有する化合物（Ｃ）の分子量）／ポリウレタン樹脂中に仕込んだポリエステルポリオール（Ａ）の質量＋ポリイソシアネート（Ｂ）の質量＋不飽和炭化水素を有する化合物（Ｃ）の質量＋化合物（Ｄ）の質量｝×化合物（Ｃ）１分子中に含まれる不飽和炭化水素基の数×１０6
＜合成例１：ポリエステルポリオール（Ａ）の合成（１）＞
温度計、攪拌機、リービッヒ冷却器を具備した反応容器にアジピン酸１４２重量部、リン化合物８重量部、エチレングリコール３０重量部、１，６−ヘキサンジオール７１重量部、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールを１０４重量部、およびテトラブチルチタネート０．２重量部仕込み、１８０〜２２０℃で１８０分間加熱し、エステル化反応を行った後、反応系を２０分間で５ｍｍＨｇまで減圧し、この間２４０℃まで昇温した。さらに系内を徐々に減圧し、１０分後に０．３ｍｍＨｇ以下とし、２４０℃で重縮合反応を３０分間行った。得られたポリエステルポリオール（ポリエステルポリオール（ａ）と呼称する。）の樹脂組成（モル比）、水酸基価、リン酸金属塩基濃度を表１に示す。
【００８６】
＜合成例２，３：ポリエステルポリオール（Ａ）の合成（２），（３）＞
表１に示す樹脂組成（モル比）としたこと以外は、合成例１と同様にして、ポリエステルポリオールをそれぞれ合成した。得られた各ポリエステルポリオール（ポリエステルポリオール（ｂ），（ｃ）と呼称する。）の水酸基価、リン酸金属塩基濃度を表１に示す。
【００８７】
＜合成例４：ポリエステルポリオール（Ａ）の合成（４）＞
温度計、攪拌機、リービッヒ冷却器を具備した反応容器にアジピン酸を１２４重量部、リン化合物を６６重量部、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールを２０８重量部、およびテトラブチルチタネートを０．２重量部仕込み、１８０〜２２０℃で１８０分間加熱し、エステル化反応を行った後、反応系を５分間、５ｍｍＨｇまで減圧した。得られたポリエステルポリオール（ポリエステルポリオール（ｄ）と呼称する。）の樹脂組成（モル比）、水酸基価、リン酸金属塩基濃度を表１に示す。
【００８８】
＜合成例５：ポリエステルポリオール（Ａ）の合成（５）＞
温度計、攪拌機、リービッヒ冷却器を具備した反応容器にテレフタルジメチルエステル９７重量部、イソフタルジメチルエステル９１重量部、リン化合物を７重量部、エチレングリコール８３重量部、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールを７７重量部、およびテトラブチルチタネートを０．２重量部仕込み、１８０〜２２０℃で１８０分間加熱し、エステル交換反応を行った後、反応系を２０分間で５ｍｍＨｇまで減圧し、この間２４０℃まで昇温した。さらに系内を徐々に減圧し、１０分後に０．３ｍｍＨｇ以下とし、２４０℃で重縮合反応を３０分間行った。得られたポリエステルポリオール（ポリエステルポリオール（ｅ）と呼称する。）の樹脂組成（モル比）、水酸基価、リン酸金属塩基濃度を表１に示す。
【００８９】
【表１】
【００９０】
＜合成実施例１：ポリウレタン樹脂（Ｉ）の合成＞
温度計、攪拌機、リービッヒ冷却器を具備した反応容器にポリエステルポリオール（ａ）１００重量部、トルエン３００重量部を仕込み、溶解後、１２０℃で加熱して、共沸工程にてトルエンと共に系内の水分を溜去した（トルエン１００重量部溜去）。２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール３０重量部、モノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレート２０重量部、およびメチルエチルケトン２００重量部に溶解した。フェノチアジン０．０５重量部を加え、攪拌後、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート６５重量部を加え、触媒としてジブチルチンジラウレート０．０５重量部を添加し、４５℃で１２時間反応させ、ポリウレタン樹脂（Ｉ）を得た。ポリウレタン樹脂（Ｉ）の樹脂組成、数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９１】
＜合成実施例２：ポリウレタン樹脂（ＩＩ）の合成＞
表２に示す樹脂組成としたこと以外は合成実施例１と同様にして、ポリウレタン樹脂（ＩＩ）を合成した。ポリウレタン樹脂（ＩＩ）の数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９２】
＜合成実施例３：ポリウレタン樹脂（ＩＩＩ）の合成＞
温度計、攪拌機、リービッヒ冷却器を具備した反応容器にポリエステルポリオール（ｃ）１００重量部、リン化合物（化学式（ｖｉｉ））２．５重量部、トルエン２６３重量部を仕込み、溶解後、１２０℃で加熱して、共沸工程にてトルエンと共に系内の水分を溜去した（トルエン１００重量部溜去）。２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール２０重量部、モノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレート２０重量部、およびメチルエチルケトン１６３重量部に溶解した。フェノチアジン０．０５重量部を加え、攪拌後、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート３３重量部を加え、触媒としてジブチルチンジラウレート０．０５重量部を添加し、４５℃で１２時間反応させ、ポリウレタン樹脂（ＩＩＩ）を得た。ポリウレタン樹脂（ＩＩＩ）の樹脂組成、数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９３】
＜合成実施例４：ポリウレタン樹脂（ＩＶ）の合成＞
表２に示す樹脂組成としたこと以外は合成実施例１と同様にして、ポリウレタン樹脂（ＩＶ）を合成した。ポリウレタン樹脂（ＩＶ）の数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９４】
＜比較合成例１：ポリウレタン樹脂（Ｖ）の合成＞
表２に示す樹脂組成としたこと以外は合成実施例１と同様にして、ポリウレタン樹脂（Ｖ）を合成した。ポリウレタン樹脂（Ｖ）の数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９５】
＜比較合成例２：ポリウレタン樹脂（ＶＩ）の合成＞
表２に示す樹脂組成としたこと以外は合成実施例１と同様にして、ポリウレタン樹脂（ＶＩ）を合成した。ポリウレタン樹脂（ＶＩ）の数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９６】
＜比較合成例３：ポリウレタン樹脂（ＶＩＩ）の合成＞
表２に示す樹脂組成としたこと以外は合成実施例１と同様にして、ポリウレタン樹脂（ＶＩＩ）を合成した。ポリウレタン樹脂（ＶＩＩ）の数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９７】
＜比較合成例４：ポリウレタン樹脂（ＶＩＩＩ）の合成＞
表２に示す樹脂組成としたこと以外は合成実施例１と同様にして、ポリウレタン樹脂（ＶＩＩＩ）を合成した。ポリウレタン樹脂（ＶＩＩＩ）の数平均分子量、ガラス転移温度、リン酸金属塩基濃度、不飽和炭化水素基量を表２に示す。
【００９８】
【表２】
【００９９】
＜塩化ビニル樹脂の合成＞
温度計、攪拌機、コンデンサーを具備した反応容器にＭＲ１１０を１００重量部、メチルエチルケトン２４５重量部に溶解させ、次いでフェノチアジン、ハイドロキノンをそれぞれ下記アクリル化合物に対して２００ｐｐｍ混合した。その後、２−イソシアネートエチルメタクリレート（ＭＯＩ）５重量部、ウレタン化触媒のジ−ｎ−ブチルチンジラウレートを上記イソシアネート化合物に対して１０００ｐｐｍ混合し、反応温度６０℃で８時間攪拌を行った。得られた放射線硬化型の塩化ビニル樹脂について、測定された数平均分子量は２５０００、ガラス転移温度は６０℃であった。
【０１００】
＜実施例１＞
（非磁性層形成用の塗料の調製）
・非磁性粒子（１）：酸化鉄（α−Ｆｅ2Ｏ3）粒子（平均長軸長：１００ｎｍ、結晶子径：１２ｎｍ、アスペクト比：８） ８０．０重量部
・非磁性粒子（２）：カーボンブラック（♯９５０Ｂ、三井化学（株）製、平均粒径：１７ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：２５０ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量：７０ｍｌ／１００ｇ、ｐＨ：８） ２０．０重量部
・塩化ビニル樹脂（重合度：３００、過硫酸カリ使用硫黄含有率：０．６重量％） １２．０重量部（上述のように合成したもの）
・ポリウレタン樹脂（Ｉ）（リン酸金属塩基（＝ＰＯ2Ｎａ）：６４ｅｑ／ｔ、化合物（Ｃ）のモル％：５モル％、骨格：脂肪族骨格） １０．０重量部
・分散剤：リン酸系界面活性剤（ＲＥ６１０、東邦化学工業（株）製） ３．２重量部
・研磨剤：α−アルミナ（ＨＩＴ６０Ａ、住友化学（株）製）、平均粒径：０．１８μｍ） ５．０重量部
上記の材料を、固形分濃度が３３％（質量百分率）、溶剤比率がＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝２／２／１（質量比）となるように混合し、ニーダーで混練した後、０．８ｍｍのジルコニアビーズが充填率８０％（空隙率；５０体積％）にて充填された横型のピンミルにて分散した。その後、さらに、下記の潤滑剤を添加した。
【０１０１】
・潤滑剤：脂肪酸（ＮＡＡ１８０、日本油脂（株）製） ０．５重量部
・潤滑剤：脂肪酸アマイド（脂肪酸アマイドＳ、花王（株）製） ０．５重量部
・潤滑剤：脂肪酸エステル（ＮＩＫＫＯＯＬＢＳ、日光ケミカルズ（株）製） １．０重量部
上記添加剤を添加して、固形分濃度が２５％（質量百分率）、溶剤比率がＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝２／２／１（質量百分率）となるように希釈した後、分散を行った。得られた塗料をさらに絶対ろ過精度１．０μｍのフィルタでろ過して、非磁性層形成用の塗料を作製した。
【０１０２】
（磁性層形成用の塗料の調製）
・磁性粒子：Ｆｅ系針状強磁性粒子（Ｆｅ／Ｃｏ／Ａｌ／Ｙ＝１００／２４／５／８（原子比）、Ｈｃ：１８８ｋＡ／ｍ、σｓ：１４０ｍＡ2／ｋｇ、ＢＥＴ比表面積：５０ｍ2／ｇ、平均長軸長：０．１０μｍ） １００．０重量部
・塩化ビニル樹脂：塩化ビニル共重合体（ＭＲ１１０、日本ゼオン（株）製） １０．０重量部
・ポリウレタン樹脂：ポリエステルウレタン（ＵＲ８３００、東洋紡績（株）製） ６．０重量部
・分散剤：リン酸系界面活性剤（ＲＥ６１０、東邦化学工業（株）製） ３．０重量部
・研磨剤：α−アルミナ（ＨＩＴ６０Ａ、住友化学（株）製、平均粒径：０．１８μｍ） １０．０重量部
上記の材料を、固形分濃度が３０％（質量百分率）、溶剤比率がＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝４／４／２（質量比）となるように混合し、ニーダーで混練した後、前分散として０．８ｍｍのジルコニアビーズを充填率８０％（空隙率：５０体積％）にて充填した横型のピンミルにて分散した。
【０１０３】
その後、さらに、固形分濃度が１５％（質量百分率）、溶剤比率がＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝２２．５／２２．５／５５（質量比）となるように希釈してから、仕上げ分散を行った。得られた塗料に硬化剤（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製）４重量部を添加混合した後、さらに絶対ろ過精度０．５μｍのフィルターでろ過して、磁性層形成用の塗料を作製した。
【０１０４】
（バックコート層形成用の塗料の作製）
・カーボンブラック（ＢＰ−８００、キャボット（株）製、平均粒径：１７ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：６８ｍｌ／１００ｇ、ＢＥＴ比表面積：２１０ｍ2／ｇ） ７５．０重量部
・カーボンブラック（ＢＰ−１３０、キャボット（株）製、平均粒径：７５ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：６９ｍｌ／１００ｇ、ＢＥＴ比表面積：２５ｍ2／ｇ） １５．０重量部
・炭酸カルシウム粒子（白艶華０、白石工業（株）製、平均粒径：３０ｎｍ） １０．０重量部
・ニトロセルロース（ＢＴＨ１／２、旭化成工業（株）製） ６５．０重量部
・ポリウレタン樹脂（脂肪族ポリエステルジオール／芳香族ポリエステルジオール＝４３／５７） ３５．０重量部
上記の材料のうち有機溶剤の一部を除いた状態で、固形分濃度が３０％（質量百分率）、溶剤比率がＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン＝１／１／１（質量比）となるように混合し、ニーダーにて高粘度状態で十分に混練処理した。次いで、有機溶剤を適量添加してディゾルバにて十分に攪拌した後、上記の材料をニーダーで混練した後、前分散として０．８ｍｍのジルコニアビーズを充填率８０％（空隙率：５０体積％）にて充填した横型のピンミルにて分散した。
【０１０５】
その後、さらに、固形分濃度が１０％（質量百分率）、溶剤比率がＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝５０．０／４０．０／１０．０（質量比）となるように希釈してから、仕上げ分散を行った。得られた塗料に硬化剤（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製）１０重量部を添加混合した後、さらに絶対ろ過精度０．５μｍのフィルターでろ過して、バックコート層形成用の塗料を作製した。
【０１０６】
（非磁性層２形成工程）
６．２μｍ厚のベースフィルム４（ポリエチレンナフタレートフィルム）の一方の表面に、カレンダー加工後の厚みが２．０μｍになるように、上述した非磁性層形成用の塗料をノズルにより押出し塗布法で塗布して、乾燥した。その後、プラスチックロールと金属ロールとを組み合わせたカレンダーにて、ニップ数４回、加工温度１００℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍで加工を行い、さらに、２．０Ｍｒａｄ、加速電圧２００ｋＶにて電子線照射を行い、非磁性層２を形成した。
【０１０７】
（磁性層３形成工程）
上述したようにして形成した非磁性層２上に、上述した磁性層形成用の塗料を、加工後の厚みが０．２μｍとなるようにノズルによる押出し塗布法で塗布して、配向を行い、乾燥した。その後、プラスチックロールと金属ロールとを組み合わせたカレンダーにて、ニップ数４回、加工温度１００℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍで加工を行い、磁性層３を形成した。
【０１０８】
（バックコート層５形成工程）
上述したようにして形成されたベースフィルム４の他方の表面に、上述したバックコート層５形成用の塗料を０．７μｍの乾燥厚になるようにノズルにより押出し塗布法で塗布して、乾燥した。その後、プラスチックロールと金属ロールとを組み合わせたカレンダーにて、ニップ数４回、加工温度１００℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍで加工を行い、バックコート層５を形成した。
【０１０９】
以上のようにして得られた磁気記録テープ原反を、６０℃で４８時間熱硬化させて、１．２ｉｎｃｈ（＝１２．６５０ｍｍ）幅にスリット（裁断）し、実施例１の磁気記録媒体としてデータ用磁気テープのサンプルを作製した。
【０１１０】
＜実施例２〜４＞
非磁性層形成用の塗料の調製において、ポリウレタン樹脂（Ｉ）に代えて、上述したポリウレタン樹脂（ＩＩ），（ＩＩＩ），（ＩＶ）をそれぞれ使用した以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜４のデータ用磁気テープの各サンプルを作製した。
【０１１１】
＜比較例１＞
非磁性層形成用の塗料の調製において、ポリウレタン樹脂（Ｉ）に代えて、不飽和炭化水素量が８００ｅｑ／ｔ未満であるポリウレタン樹脂（Ｖ）を使用した以外は実施例１と同様にして、比較例１の磁気テープのサンプルを作製した。
【０１１２】
＜比較例２＞
非磁性層形成用の塗料の調製において、ポリウレタン樹脂（Ｉ）に代えて、酸成分として脂肪族ジカルボン酸を含まないポリエステルポリオールを用いたポリウレタン樹脂（ＶＩ）を使用した以外は実施例１と同様にして、比較例２の磁気テープのサンプルを作製した。
【０１１３】
＜比較例３＞
非磁性層形成用の塗料の調製において、ポリウレタン樹脂（Ｉ）に代えて、リン酸金属塩基濃度が５０ｅｑ／ｔ未満であるポリウレタン樹脂（ＶＩＩ）を使用した以外は実施例１と同様にして、比較例３の磁気テープのサンプルを作製した。
【０１１４】
＜比較例４＞
非磁性層形成用の塗料の調製において、ポリウレタン樹脂（Ｉ）に代えて、リン酸金属塩基濃度が１００ｅｑ／ｔを超え、かつ、不飽和炭化水素量が１６００ｅｑ／ｔを超えるポリウレタン樹脂（ＶＩＩＩ）を使用した以外は実施例１と同様にして、比較例４の磁気テープのサンプルを作製した。
【０１１５】
（ポリウレタン樹脂および磁気記録媒体の評価）
各ポリウレタン樹脂および磁気記録媒体のサンプルについて、次の評価を行った。結果を表３に示す。
【０１１６】
（１）評価１：架橋性評価
ポリウレタン樹脂を固形分濃度２０重量％（溶剤：ＭＥＫ）に調製し、塗布液とした。この塗布液を剥離フィルム上にアプリケーターで塗布し、室温で１２時間、９０℃で１５分間乾燥させ、厚み２０μｍの樹脂皮膜を作製した。これを架橋性評価用のサンプルとした。得られた放射線未硬化の樹脂皮膜に、２．０Ｍｒａｄの電子線を照射して、電子線照射を行った。次いで、硬化された樹脂皮膜（以下、電子線硬化型樹脂皮膜）を剥離フィルムから剥離し、約１ｃｍ×４ｃｍの大きさに切り出した。切り出した電子線硬化型樹脂皮膜の重量（これをＡ（ｇ）とする）を測定し、その後、この電子線硬化型樹脂皮膜をＭＥＫ中で５時間還流し、還流後の電子線硬化型樹脂皮膜を７０℃で２４時間乾燥させた後、重量（これをＢ（ｇ）とする）を測定した。得られた結果を用いて、上記照射量もおける電子線硬化型樹脂の架橋性を下記式により求めた。
【０１１７】
架橋性（％）＝（Ｂ／Ａ）×１００
（２）評価２：中心線平均粗さ（Ｒａ）
「ＴＡＬＹＳＴＥＰシステム」（テーラーホプソン社製）を用い、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９８２に基づいて、実施例および比較例の各サンプルについて、磁性層３表面の中心線平均粗さＲａの測定を行った。測定の条件は、フィルター０．１８〜９Ｈｚ、触針０．１×２．５μｍスタイラス、触針圧２ｍｇ、測定スピード０．０３ｍｍ／ｓｅｃ、測定長さ５００μｍとした。なお、磁性層３表面の中心線平均粗さＲａの測定は、最終的なカレンダー処理および硬化処理後に行った。
【０１１８】
（３）評価３：ビットエラーレート
カートリッジに組み込んだ実施例および比較例の各磁気テープサンプルに対して、磁気記録ヘッドで記録波長０．２５μｍの単一記録波長を記録し、信号のＰ−Ｐ値（振幅）に対して５０％以下のＰ−Ｐ値（振幅）の信号をミッシングパルスとし、４個以上連続したミッシングパルスをＬｏｎｇ Ｄｅｆｅｃｔとして検出した。基準テープとしての比較例２の１ｍあたりのＬｏｎｇ Ｄｅｆｅｃｔの個数をＮとし、各実施例および比較例の磁気テープ１ｍあたりのＬｏｎｇ Ｄｅｆｅｃｔの個数をＸとして、比較例１〜４および実施例１〜４についてのＬｏｇ10（Ｘ／Ｎ）をそれぞれビットエラーレートとして算出し、算出した各ビットエラーレートの比較を行った。なお、再生ヘッドには、磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＭＲヘッド）を用いた。
【０１１９】
【表３】
【０１２０】
表３に示す各ポリウレタン樹脂の架橋度の測定結果から、実施例１〜４で用いたポリウレタン樹脂（Ｉ）〜（ＩＶ）は２．０Ｍｒａｄという低電子線照射量でありながら、十分な架橋性（８０％以上）を備えていることが確認された。これに対して、比較例１〜４で用いたポリウレタン樹脂（Ｖ）〜（ＶＩＩＩ）では、十分な架橋性（８０％以上）にすることができないことが確認された。
【０１２１】
表３に示す中心線平均粗さＲａの測定結果、およびビットエラーレートの比較結果から、ポリウレタン樹脂（Ｉ）〜（ＩＶ）を用いた実施例１〜４の各サンプルでは、中心線平均粗さＲａを十分に低い値（４ｎｍ以下）にすることができ、磁性層３の表面を十分に平滑に形成することができることが確認された。また、中心線平均粗さＲａの悪い比較例２〜４と比較して、十分に低いビットエラーレートを実現できることが確認された。これに対して、ポリウレタン樹脂（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）を用いた比較例２〜４のサンプルでは、中心線平均粗さＲａを十分に低い値（４ｎｍ以下）にすることができないことが確認された。
【０１２２】
以上のように、各評価１〜３の結果から、ポリウレタン樹脂（Ｉ）〜（ＩＶ）を用いた実施例１〜４では、２．０Ｍｒａｄという低電子線照射量でありながら、十分な架橋性を備え、かつ中心線平均粗さＲａも十分に低く、しかも十分に低いビットエラーレートの磁気記録媒体１を作製できることが分かる。また、低放射線照射量で磁気記録媒体１を作製することができるため、その生産性を十分に高めることができる。結果、安価な磁気記録媒体１を実現することができる。
【０１２３】
今回開示された実施の形態、実施例および比較例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【０１２４】
【図１】本発明の好ましい一例の磁気記録媒体（磁気テープ）１を模式的に示す断面図である。
【符号の説明】
【０１２５】
１ 磁気記録媒体、２ 非磁性層、３ 磁性層、４ ベースフィルム、５ バックコート層。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性粒子および結合剤を含む非磁性層上に、磁性粒子および結合剤を含む磁性層が形成された構造を備える磁気記録媒体であって、
非磁性層に含まれる結合剤が、分子中に５０〜１００ｅｑ／ｔのリン酸金属塩基、ならびに、８００〜１６００ｅｑ／ｔの不飽和炭化水素基を有するポリウレタン樹脂であり、かつ、酸成分として脂肪族ジカルボン酸を含むポリエステルポリオール（Ａ）と、芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）と、不飽和炭化水素基を有し、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量５００以下の化合物（Ｃ）とを反応させて得られたポリウレタン樹脂を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
非磁性層に含まれる非磁性粒子が、平均長軸長が１５０ｎｍ以下の酸化鉄を含むことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
非磁性層に含まれる結合剤が、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量８００以下の化合物（Ｄ）をさらに反応させて得られたポリウレタン樹脂であることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
ポリエステルポリオール（Ａ）が酸成分中に脂肪族ジカルボン酸を７０〜１００モル％含み、かつ、化合物（Ｃ）が不飽和炭化水素基を１分子に２〜４個含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
磁性層の厚みが３００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【請求項１】
非磁性粒子および結合剤を含む非磁性層上に、磁性粒子および結合剤を含む磁性層が形成された構造を備える磁気記録媒体であって、
非磁性層に含まれる結合剤が、分子中に５０〜１００ｅｑ／ｔのリン酸金属塩基、ならびに、８００〜１６００ｅｑ／ｔの不飽和炭化水素基を有するポリウレタン樹脂であり、かつ、酸成分として脂肪族ジカルボン酸を含むポリエステルポリオール（Ａ）と、芳香族ポリイソシアネート化合物（Ｂ）と、不飽和炭化水素基を有し、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量５００以下の化合物（Ｃ）とを反応させて得られたポリウレタン樹脂を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
非磁性層に含まれる非磁性粒子が、平均長軸長が１５０ｎｍ以下の酸化鉄を含むことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
非磁性層に含まれる結合剤が、イソシアネート基と反応する官能基を有する分子量８００以下の化合物（Ｄ）をさらに反応させて得られたポリウレタン樹脂であることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
ポリエステルポリオール（Ａ）が酸成分中に脂肪族ジカルボン酸を７０〜１００モル％含み、かつ、化合物（Ｃ）が不飽和炭化水素基を１分子に２〜４個含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
磁性層の厚みが３００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【図１】
【公開番号】特開２００８−１９２２３８（Ｐ２００８−１９２２３８Ａ）
【公開日】平成２０年８月２１日（２００８．８．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２５８２９（Ｐ２００７−２５８２９）
【出願日】平成１９年２月５日（２００７．２．５）
【出願人】（０００００３１６０）東洋紡績株式会社 (3,622)
【出願人】（０００００３０６７）ＴＤＫ株式会社 (7,238)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年８月２１日（２００８．８．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年２月５日（２００７．２．５）
【出願人】（０００００３１６０）東洋紡績株式会社 (3,622)
【出願人】（０００００３０６７）ＴＤＫ株式会社 (7,238)
【Ｆターム（参考）】
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