金属錯体の合成方法
光化学電池の増感色素として有用なルテニウム金属錯体等の金属錯体の合成プロセスにおいて、反応時間短時間化、高収率化、低設備費化を可能にする合成方法を提供する。 すなわち、金属錯体の合成過程において、マイクロ波照射処理を行い、続いてエージング処理を行う。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
本発明は、金属錯体の合成方法に関し、特に、ルテニウムを中心金属とする金属錯体を合成する方法に関する。
【背景技術】
金属錯体、例えば、ルテニウムを中心金属とする金属錯体は、光化学あるいは電気化学で利用されうる湿式太陽電池における増感色素並びに光触媒の原料として注目されている。そこで、金属錯体を、短時間で高収率に量産できる技術の開発が切望されている。現段階でこれらの金属錯体は熱伝導加熱を用い合成されるのが一般的である。
【発明の開示】
しかしながら、従来の金属錯体の合成方法は、反応時間が長く、高収率に金属錯体を得ることは困難であった。
そこで、本発明は、金属錯体、例えば、ルテニウムを中心金属とする金属錯体等を、短時間かつ高収率に合成する方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成すべく、本発明の金属錯体の合成方法は、マイクロ波を用いて行う。
例えば、本発明の第１の態様の金属錯体の合成方法は、ルテニウムを中心金属とする金属錯体の合成方法であって、原料物質と溶媒とからなる反応液に、マイクロ波を照射することを特徴とする金属錯体の合成方法である。
また、本発明の第２の態様の金属錯体の合成方法は、原料物質と溶媒とからなる反応液に、マイクロ波を照射後エージング処理を行うことを特徴とする金属錯体の合成方法である。
前記第１又は第２の態様の金属錯体の合成方法は、さらに、合成目的の金属錯体が溶解した溶液に、酸を添加し、析出した析出物を当該溶液から取り出す工程を有していてもよい。
また、合成目的の金属錯体と未反応の原料とを含む混合物を、有機溶媒に添加して、得られた溶液から、溶解していない物質を取り除く工程を有していてもよい。
また、合成目的の金属錯体と未反応の原料とを含む混合物を、含水量２０重量％以下の含水プロトン性有機溶媒に添加して、得られた溶液から、溶解していない物質を取り除く工程を有していてもよい。
また、さらに、合成目的の金属錯体が溶解した溶液に、酸を添加し、析出した析出物を当該溶液から取り出す工程と、取り出した析出物を、有機溶媒に添加して、得られた溶液から溶解していない物質を取り除く工程とを有していてもよい。
また、取り除いた物質を、原料物質として再利用するようにしてもよい。
また、前記反応の溶媒は、沸点が９０〜２００℃の範囲であってもよい。
また、前記マイクロ波の照射は、照射出力に照射時間を乗じた値が、反応液１００ｍｌに対して、４０〜１０００Ｗｈの範囲となるように行われるようにしてもよい。
また、前記エージング処理は、前記反応液を９０〜２００℃の温度範囲に保持することにより行うようにしてもよい。
また、本発明の第３の態様は、光化学電池の増感色素として使用される金属錯体の処理方法であって、前記金属錯体を、超音波により純水に分散させ後、酸を添加し析出させる工程を行うことを特徴とする金属錯体の処理方法である。
前記第３の態様は、前記工程を、純水に分散させたときの溶液の着色が実質的になくなるまで複数回繰り返して行うようにしてもよい。
前記第１〜３のいずれかの態様の金属錯体は、
一般式（１）
ＲｕＬａＬ’ｂ （１）
（上記一般式（１）においてＲｕはルテニウム原子を表し、Ｌ及びＬ’は配位子を表す。ａは２〜４の整数を表し、ｂは０又は１〜４の整数を表し、ａ＋ｂは６以下である。）で表される金属錯体であってもよい。
また、前記第１〜第３のいずれかの態様の金属錯体は、
一般式（２）あるいは（３）
ＲｕＬ２Ｌ’２ （２）
ＲｕＬ３ （３）
（上記一般式（２）および（３）においてＲｕはルテニウム原子を表し、Ｌはビピリジン系配位子を表し、Ｌ’はＬ以外の配位子を表す。また、前記ビピリジン系配位子とは、２．２’−ビピリジンまたは２．２’−ビピリジンの誘導体である。）で表される金属錯体であってもよい。
前記第１〜３のいずれかの態様の金属錯体は、
一般式（４）
ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２ （４）
（上記一般式（４）においてＲｕはルテニウム原子を表し、Ｌは２．２’−ビピリジン−４，４’−ジカルボン酸を表す。）で表される金属錯体であってもよい。
また、前記第１または第３の態様において、マイクロ波を照射する際、不活性ガス雰囲気及び遮光下にて行うようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
図１は、第１実施形態にかかる金属錯体の合成方法の処理の流れを示す図である。
図２は、第２実施形態にかかるＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成方法の処理の流れを示す図である。
図３は、第３実施形態にかかる金属錯体の合成方法の処理の流れを示す図である。
図４は、マイクロ波を用いる合成装置の概略図である。
図５は、実施例Ａ１によって得た［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏの紫外可視吸収スペクトル測定結果である。
図６は、実施例Ａ１によって得た［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏの１Ｈ ＮＭＲ測定結果である。
図７は、実施例Ａ２によって得たＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２の１Ｈ ＮＭＲ測定結果である。
図８は、比較例Ａ１によって得た［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏの紫外可視吸収スペクトル測定結果である。
図９は、比較例Ａ１によって得た［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏの１Ｈ ＮＭＲ測定結果である。
図１０は、比較例Ｃ１によって得たＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の１Ｈ ＮＭＲ測定結果である。
【発明を実施するための最良の形態】
本発明の金属錯体の合成方法では、金属源と、配位子となる化合物（「配位子化合物」ともいう。）とを溶媒に溶解もしくは分散させ、マイクロ波を照射させて金属錯体を生成させる。
例えば、ルテニウム源および配位子化合物を溶媒に溶解もしくは分散させ、マイクロ波を照射させてルテニウムを中心金属とするルテニウム錯体を生成させる。反応は、好ましくは、不活性ガス、例えば窒素、アルゴン等のバブリング下で有機溶媒中もしくは純水中で行う。また、上記反応は遮光環境下および不活性ガス雰囲気下で反応を進行させるのが好ましい。上記反応に用いるルテニウム源としては、塩化ルテニウムが好ましいがこれに限定しない。上記反応に用いる有機溶媒としては高沸点有機溶媒が好ましく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、エチレングリコール等があげられる。上記反応によって得られたルテニウムを中心金属とする金属錯体は分別、晶析後、乾燥を行う。以下に、本発明の金属錯体の合成方法を、より詳しく説明する。
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態にかかる金属錯体の合成方法の処理の流れを示すフロー図である。
図示するように、本実施形態の金属錯体の合成方法は、原料の仕込処理（Ｓ１０１０）、マイクロ波の照射処理（Ｓ１０２０）、エージング処理（Ｓ１０３０）、溶媒の留去処理（Ｓ１０４０）とを有する。
原料の仕込処理（Ｓ１０１０）では、原料が溶媒とともに反応容器に入れられる。原料は、合成目的の金属錯体の中心金属を含む化合物及び配位子となる化合物である。原料および溶媒は、合成目的の金属錯体に応じて適宜選択される。
すなわち、Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２の合成を行う場合（「ｄｃｂｐｙ」は２，２’−ビピリジン−４，４’−ジカルボン酸を意味する。）、下記式のように、ルテニウム源としてＲｕＣｌ３（ＲｕＣｌ３・３Ｈ２Ｏ）、配位子となる化合物としてｄｃｂｐｙが原料として用いられる。また、溶媒として、ＤＭＦ，ＤＭＳＯ，エチレングリコール，水等が用いられる。これらの中でも、沸点が９０〜２００℃の範囲である溶媒が好ましく用いられ、ＤＭＦがより好ましく用いられる。
また、Ｒｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２の合成を行う場合、下記式のようにルテニウム源としてＲｕＣｌ３（ＲｕＣｌ３・３Ｈ２Ｏ）、配位子としてＤＭＳＯが用いられる。
また、Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成を行う場合、下記式のようにルテニウム源としてＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２、配位子としてＮａＳＣＮが用いられる。また、溶媒として、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、エチレングリコール、水等が用いられる。これらの中でも、沸点が９０〜２００℃の範囲である溶媒が好ましく用いられ、ＤＭＦがより好ましく用いられる。なお、ＮａＳＣＮの代わりに、ＫＳＣＮ，ＮＨ４ＳＣＮ等のＳＣＮ化合物を使用してもよい。
配位子化合物の使用量は、金属源となる化合物１重量部（質量部）に対して、通常１〜５重量部、好ましくは、２〜３重量部の範囲である。
溶媒の使用量は、反応容器の容量、原料の仕込み量によって適宜選択される。
マイクロ波照射処理（Ｓ１０２０）では、仕込まれた反応液にマイクロ波が照射される。
マイクロ波は、マイクロ波出力装置から出力される。マイクロ波出力装置としては、市販のものが使用できる。用いられるマイクロ波の波長は、通常、２．４〜２．６ＧＨｚ、好ましくは２．４５ＧＨｚ付近（±３０ＭＨｚ）の範囲である。
マイクロ波の出力は、反応液の量に応じて適宜選択されるが、扱い易さの観点から、通常、３０Ｗ〜１５００Ｗ、好ましくは１００〜８００Ｗの範囲である。マイクロ波の照射は、短時間で反応液全体を均一に加熱するためになされる。出力が低すぎると加熱に時間がかかる。一方、出力が高すぎると加熱しすぎる場合があり制御が難しくなる。
マイクロ波の照射時間は、長すぎないようする。照射時間が長すぎると、反応液の温度が高くなり過ぎ、配位子が分解され、収率の低下を招く。マイクロ波の照射時間は、反応溶液の量が多い程、長くなるようにしてもよい。
例えば、マイクロ波の照射は、反応溶液１００ｍｌに対して、通常、４０〜１０００Ｗｈ、好ましくは１００〜４００Ｗｈの範囲で行われるようにする。反応溶液２００ｍｌに対して、通常、８０〜２０００Ｗｈ、好ましくは２００〜８００Ｗｈの範囲で行われるようにする。
マイクロ波の照射は、反応容器内に外から空気が入り込まないように、不活性ガスでバブリングさせながら行われるのが好ましい。不活性ガスとしては、ヘリウムガス、窒素ガス、アルゴンガス等が挙げられるが、比重の観点からアルゴンガスが好ましく用いられる。
また、反応液が沸騰すると反応容器からふきこぼれることがあるので、沸騰したらマイクロ波の照射を中止し、液温が下がったら再び照射が行われるようにしてもよい。
マイクロ波の照射がなされると、次に、エージング処理がなされる（Ｓ１０３０）。エージング処理は、反応を十分進行させて、目的物の収率の向上を図るために行われる。エージング処理は、反応液を所定の温度範囲で保持することによりなされる。例えば、還流管を用いて、反応液を還流することによりなされる。エージング温度は、マントルヒータ等で加熱することにより維持される。エージング温度は、通常、溶媒の沸点（９０〜２００℃）である。
エージング処理の時間は、反応液の量に応じて適宜選択されるが、通常０．５〜２４時間の範囲である。例えば、反応溶液１００ｍｌに対して０．５〜６時間の範囲である。
エージング処理（Ｓ１０３０）が終了すると、エバポレーター等により溶媒の留去処理がなされ（Ｓ１０４０）、目的の金属錯体が得られる。
なお、目的の金属錯体と未反応物質とを分離するために、適当な溶媒を加えて濾別する処理を行うようにしてもよい。
得られた金属錯体は、吸光度分析法，紫外吸収スペクトル法，蛍光分析，熱分析，赤外吸収スペクトル法，ＩＣＰ発光分析，Ｘ線分析法，高速液体クロマトグラフィー，核磁気共鳴分析，電気化学分析，質量分析等により構造を決定することができる。
なお、本実施形態は、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ａｕ等の遷移金属を中心金属とした金属錯体の合成にも適用できる。
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。
第２実施形態は、ＲｕＣｌ３又はＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２からＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を合成する方法である。図２は、第２の実施形態のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成方法の処理の流れを示す図である。以下に各処理ステップについて説明する。
原料の仕込み処理（Ｓ２０１０）では、ルテニウム源としてＲｕＣｌ３（ＲｕＣｌ３・３Ｈ２Ｏ）、又はＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２が、配位子化合物としてｄｃｂｐｙが、ＤＭＦ等の溶媒とともに反応容器に入れられる。
マイクロ波照射処理（Ｓ２０２０）は、上記第１実施形態のＳ１０２０の処理と同様に行われるので説明を省略する。
マイクロ波照射処理（Ｓ２０２０）が終了すると、溶媒に分散させたＮａＳＣＮが、反応液に添加される（Ｓ２０３０）。
ＮａＳＣＮの使用量は、ＲｕＣｌ３の１重量部対して、通常、３〜１０重量部、好ましくは、５〜６重量部の範囲である。
ＮａＳＣＮを分散させる溶媒としては、ＤＭＦ等のＳ２０１０で仕込んだ溶媒と同様のものを用いることができる。溶媒の使用量は、ＮａＳＣＮを分散できる量で適宜選択されるが、ＮａＳＣＮ １重量部に対して、通常０．１〜１０重量部の範囲である。
ＮａＳＣＮの添加がなされると、マイクロ波の照射が再開される（Ｓ２０４０）。マイクロ波照射処理（Ｓ２０４０）は、Ｓ２０２０の処理と同様に行われる。
マイクロ波の照射が行われると、次に、エージング処理がなされる（Ｓ２０５０）。エージング処理は、第１実施形態のエージング処理（Ｓ１０３０）と同様に行われる。すなわち、反応液を所定の温度範囲で保持することによりなされる。例えば、還流管を用いて、反応液を還流することによりなされる。エージング温度は、マントルヒータ等で加熱することにより維持される。エージング温度は、通常、溶媒の沸点（９０〜２００℃）である。エージング処理の時間は、反応液の量に応じて適宜選択されるが、通常０．５〜２４時間の範囲である。例えば、反応溶液１００ｍｌに対して０．５〜６時間の範囲である。
エージング処理（Ｓ２０５０）が終了すると、エバポレーター等により溶媒の留去処理がなされ（Ｓ１０４０）、目的の金属錯体が得られる。
なお、未反応物質と目的の金属錯体を分離するために、適当な溶媒を加えて濾別する処理を行うようにしてもよい。
以上、第２実施形態について説明した。なお、図２の処理では、マイクロ波の照射を一旦中止してＮａＳＣＮの添加が行われるようになっているが、マイクロ波の照射を中止せずに、照射しながらＮａＳＣＮが添加されるようにしてもよい。
また、ＮａＳＣＮの代わりに、ＫＳＣＮ，ＮＨ４ＳＣＮ等のＳＣＮ化合物を使用してもよい。
＜第３実施形態＞
次に第３実施形態について図３のフロー図を用いて説明する。
第３実施形態は、ルテニウム錯体の合成反応後（Ｓ３０１０）、機能向上処理（Ｓ３０２０）及び未反応の配位子等を除くための有機溶媒処理（Ｓ３０３０）がなされるようにした金属錯体の合成方法である。
機能向上処理（Ｓ３０２０）は、合成されたルテニウム錯体の増感色素としての機能を向上させるために行われる。増感色素は、単に純度が高くてもその機能（エネルギー変換効率）が高いとは限らない。そこで、本実施形態では、合成後のルテニウム錯体に増感色素としての機能を向上させる処理が行われるようにする。
なお、金属錯体の合成反応（Ｓ３０１０）は、上記第１及び第２実施形態の合成反応（Ｓ１０１０〜Ｓ１０４０、Ｓ２０１０〜Ｓ２０６０）と同様に行うことができるので説明を省略する。
本実施形態では、機能向上処理（Ｓ３０２０）の前に、再沈殿処理による精製処理を行う。再沈殿処理は、例えば、以下のようにして行う。合成反応後に溶媒を留去し（Ｓ１０４０、Ｓ２０６０）、得られた合成物を、ＮａＯＨ水溶液，ＫＯＨ水溶液等のアルカリ水溶液に溶解する。次に、撹拌しながら酸を加えて、目的のルテニウム錯体を析出させる。析出物は、沈降するので、上澄み液をデカンテーション等で取り除くことで、目的のルテニウム錯体を得ることができる。
次に機能向上処理について説明する。機能向上処理では、合成反応により得られたルテニウム錯体（再沈殿で得られた沈殿物）を、超音波を用いて純水に分散させる。そして、撹拌しながら酸を加えてｐＨを低下させ、目的のルテニウム錯体を析出させる。続いて、沈殿物と上澄み液を円心沈殿機等で分離する。上澄み液を取り除き、沈殿物を再び純水に分散させ、酸の添加を行う。この一連の操作を、複数回繰り返す。好ましくは、沈殿物を純水に分散させたときの溶媒に、着色がなくなるまで複数回（例えば５回）繰り返す。
機能向上処理に用いられる酸としては、硝酸，塩酸，硫酸等の無機酸；酢酸，トリフルオロ酢酸等の有機酸等が挙げられるが、好ましくは、硝酸，トリフルオロ酢酸である。
撹拌は、核の発生を抑制し、析出物の粒径を大きくするため、最初は高回転で行い、後半は低回転で行うようにするのが好ましい。例えば、最初の１時間は、高回転で行い、次の１時間は低回転で行うようにする。
酸の添加も、核の発生を抑制し、析出物の粒径を大きくするため、滴下ロートを用いてゆっくり行うのが好ましい。通常、ｐＨ＝４付近から析出が開始する。酸は、通常、ｐＨ＝２付近になるまで、ゆっくり滴下する。ｐＨ値は、ｐＨメータにより測定する。
次に、有機溶媒を用いた精製処理（Ｓ３０３０）について説明する。これまでの処理で得られた沈殿物には、目的物質であるルテニウム錯体のほかに、未反応の配位子化合物が含まれている。そこで、沈殿物から未反応の配位子化合物を除去する。ただし、本実施形態では、配位子化合物が合成反応に再利用されるように効率よく回収する。
かかる目的のため、有機溶媒処理では、これまでの処理で得られた沈殿物を有機溶媒に溶解させた後、濾過する。
用いられる有機溶媒としては、メタノール，エタノール，アセトン，アセトニトリル等のプロトン性溶媒を用いることができる。これらの中でも、沸点が３０〜１２０℃のプロトン性溶媒が好ましく、メタノールがさらに好ましく用いられる。これらの有機溶媒は、単独でも２種以上を混合して用いてもよい。
また、含水有機溶媒を用いてもよい。ルテニウム錯体は、無水有機溶媒には溶解しにくいが、含水有機溶媒には溶解しやすいからである。溶媒中の水の含水率は、通常、０．０００１〜２０％、好ましくは５〜１５％の範囲である。
濾過後の残渣には、未反応の配位子化合物（ｄｃｂｐｙ）が含まれている。配位子化合物は、再度合成反応の原料として用いることができる。
一方、濾液には目的のルテニウム錯体が含まれる。濾液は、溶媒を留去した後、乾燥、脱水される。乾燥、脱水は、真空凍結乾燥により行ってもよいし、ルテニウム錯体が多量の場合は、ジエチルエーテル等のエーテル類で脱水するようにしてもよい。
このようにして、増感色素としての機能が向上され、かつ精製されたルテニウム錯体が得られる。
以上、第３実施形態について説明した。
なお、第３実施形態では、機能向上処理と有機溶媒処理とが組み合わせて行われるようにしているが、いずれかの処理のみが行われるようにしてもよい。
以上、いくつかの実施例について説明したが、本発明は、その要旨の範囲内でさまざまな変形が可能である。
例えば、第３の実施形態では、ルテニウム錯体の機能向上処理及び有機溶媒処理について説明したが、他の金属錯体について第３の実施形態の処理を行うようにしてもよい。
【実施例】
次に、実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。尚、本発明は、下記実施形態になんら限定されるものではない。下記実施形態はあくまで例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
下記実施例及び比較例において用いられた試料は以下の通りである。
塩化ルテニウム３水和物：小島化学薬品（株）社製
２，２’−ビピリジン−４，４’−ジカルボン酸（ｄｃｂｐｙ）：広栄化学工業（株）社製
ＮａＳＣＮ：関東化学（株）社製
また、マイクロ波発生装置は、マイルストーンゼネラル（株）社製（商品名：マイクロシンス）を用いた。マイクロ波の照射は、図４に示すような合成装置で行った。図示するように、合成装置は、マイクロ波発生装置１、ガラス器具（ナス型フラスコ）２、ガラス製冷却管３、冷却装置４、排気装置５、マイクロ波漏洩防止壁６、転倒防止台７、ガス導入管８からなる。
超音波発生装置は、アズワン（株）社製（型式：ＵＳ−Ｄ１００、２４ｋＨｚ、１１０Ｗ）を用いた。
また、Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の増感色素としての機能は、以下のように、セルを作成し後、光を照射しエネルギー変換効率を測定することにより調べた。
（セルの作成）
まず、ＴｉＯ２多孔層を担持したＦＴＯガラス（フッ素ドープ酸化スズ導電性ガラス）を、ルテニウム錯体の溶液（３×１０−４Ｍ）に、４０℃で３０分浸漬して、色素吸着ガラス電極を作成した。
この色素吸着ガラス電極の対極として、白金蒸着ＦＴＯガラス電極を用い、電解液をＩ−／Ｉ３−系の有機電解液（ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐｙｌ−ｉｍｉｄａｚｏｌｉｕｍ ｉｏｄｉｄｅ ０．６Ｍ，ＬｉＩ ０．１Ｍ，Ｉ２ ０．０５Ｍ，ｔ−ｂｕｔｈｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ ０．５Ｍからなるｍｅｔｈｏｘｙａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ溶液）として、セルを作成した。なお、電極間は、熱融着式のポリエチレン系スペーサー（厚さ５０μｍ）で隔離した。
（エネルギー変換効率の測定）
色素吸着ガラス電極側のセル表面に、受光面積分０．６４ｃｍ２を切り抜いたマスクを装着し、キセノン灯光源（ソーラーシミュレータ：イーグルエンジニアリング（株）社製、型式：ＰＣ−Ｌ１０）を用いて１ｓｕｎ（ＡＭ １．５Ｇの擬似太陽光１００ｍｗ／ｃｍ２）の照度下で、Ｉ−Ｖ特性を計測して、エネルギー変換効率を測定した。Ｉ−Ｖ特性測定装置としては、ソースメーター（ＫＥＩＴＨＬＥＹ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ，Ｉｎｃ．社製、モデル２４００シリーズ）を用いた。
また、エネルギー変換効率η（％）は、下記式で表される。
η＝（（Ｊｓｃ・Ｖｏｃ・ＦＦ）／入射光）・１００
Ｊｓｃ：短絡光電流密度
Ｖｏｃ：開回路起電力
ＦＦ：フィルファクター、抵抗因子
＜実施例Ａ１＞
実施例Ａ１として［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏ（Ｒｕはルテニウム原子を、Ｌは２，２’−ビピリジン−４，４’−ジカルボン酸を示す）合成の手順を示す。
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中に３価に調整した塩化ルテニウム３水和物を３０ｇ／Ｌ及び２，２’−ビピリジン−４，４−ジカルボン酸を６０ｇ／Ｌとなるよう配合し、図４に示す装置を用いアルゴンガスバブリング中にてマイクロ波を１０分間照射した。反応終了後、放冷し、濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを留去してからアセトンを添加し結晶を析出させた。この結晶を再度Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解した後、０．１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液を加え、更に塩化ルテニウム３水和物に対して十分に過剰なチオシアン酸ナトリウムの飽和水溶液を加えて、アルゴンガスバブリング中にてマイクロ波を１５分間照射した。次いで、反応液を放冷し、反応生成物からＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを留去させた後に乾固させ純水に溶解させた。この溶液を１Ｎ−ＨＣｌ水溶液でｐＨ＝２前後に調整し沈殿物を得た。この沈殿物を濾別し、アセトンに溶解させた。上記のアセトン溶解溶液を濾過し、濾別後のアセトン溶解溶液中の溶媒を留去して得た結晶をジエチルエーテルで洗浄後、乾燥し［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］２Ｈ２Ｏを得た。
上記実施例１によって得た［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏの紫外可視吸収スペクトル測定結果を図５に、１Ｈ ＮＭＲ測定結果（Ｂｒｕｋｅｒ社製 ４００ＭＨｚで測定）を図６に示す。収率は、８９％であった。
＜実施例Ａ２＞
実施例Ａ２としてＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２の合成の手順を示す。
ジメチルスルホキシド中に塩化ルテニウムを２００ｇ／Ｌとなるよう溶解させ、図１に示す装置を用いアルゴンガスバブリング中にてマイクロ波を５分間照射した。反応終了後、放冷した。これを濾過し、アセトンにて洗浄し、乾燥させＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２の結晶を得た。
上記実施例２によって得たＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２の１Ｈ ＮＭＲ測定結果を図７に示す。収率は、９５％であった。
＜比較例Ａ１＞
比較例Ａ１として以下に従来法による［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏの合成の手順を示す。
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中に３価に調整した塩化ルテニウム３水和物を３ｇ／Ｌ及び２，２’−ビピリジン−４，４’−ジカルボン酸を６ｇ／Ｌとなるよう配合し、遮光したアルゴン雰囲気下にて還流しながら温度１１０〜１５０℃に保ち、５時間反応させた。反応終了後、放冷し、濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを留去してからアセトンを添加し結晶を析出させた。この結晶を再度Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解した後、遮光下で０．１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液を加え、更に塩化ルテニウム３水和物に対して十分に過剰なチオシアン酸ナトリウムの飽和水溶液を加えて、遮光したアルゴン雰囲気下にて還流しながら温度１１０〜１５０℃に保ち、６時間反応させた。次いで、反応液を放冷し、反応生成物からＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを留去させた後に乾固させ純水に溶解させた。この溶液を１Ｎ−ＨＣｌ水溶液でｐＨ＝２前後に調整し沈殿物を得た。この沈殿物を濾別し、メタノールに溶解させた。このメタノール溶解溶液を濾過し、別に準備したヒドロキシプロピル基導入架橋デキストランを充填剤とするカラムに上記のメタノール溶解溶液を通して不純物を分離し、メタノールを留去して得た結晶をジエチルエーテルで洗浄後、乾燥し［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏを得た。
上記比較例１によって得た［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏの紫外可視吸収スペクトル測定結果を図８に、１Ｈ ＮＭＲ測定結果を図９に示す。収率は、４５％であった。
＜比較例Ａ２＞
比較例Ａ２として以下に従来法によるＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２の合成の手順を示す。
ＤＭＳＯ中に塩化ルテニウムを１００ｇ／Ｌとなるよう溶解させ、マントルヒーターを用いアルゴンガスバブリング中にて、１５０℃、３０分間の撹拌過熱を行った。反応終了後、放冷した。これを濾過し、アセトンにて洗浄し、乾燥させＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２の結晶を得た。収率は、６１％であった。
表１に本発明による合成法を用いた合成と、従来法による合成における総反応時間、使用薬品量および収率を示す。
表１より、実施例Ａ１及びＡ２の方が、比較例Ａ１及びＡ２より、溶媒使用量が極端に少なく、また収率が高いことが分かる。
＜実施例Ｂ１＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２の合成
処理工程：マイクロ波合成＋エージング＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波及びエージングによる合成反応
２００ｍｌナス型フラスコに塩化ルテニウム１０ｇとｄｃｂｐｙ ２０ｇおよびＤＭＦ １００ｍｌを入れミクロスパーテルで少し撹拌した。フラスコをマイクロ波発生装置に設置し、フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った。）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を６０分照射した。
この時マイクロ波を連続照射させていると反応溶媒の沸点（１３５℃）を超え、反応液が沸騰し容器から噴きこぼれる可能性があるため、沸騰したらマイクロ波照射をやめ、液温が下がるのを待ち、再び照射を行うようにした。上記のマイクロ波照射時間６０分は、反応液にマイクロ波を照射した時間である。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っているフラスコをマントルヒーターに設置した（還流管も付けて）。マントルヒータの温度を１３５℃に設定し２時間加熱を行った（エージング）。
エージング終了後、沈殿物を含む反応液を５００ｍｌビーカーへ移しＤＭＦ ２００ｍｌおよび濃塩酸１ｍｌを添加し沈殿物をすべて溶解させた。そして、溶解液をＮｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。残渣は１Ｈ ＮＭＲの測定結果から未反応のｄｃｂｐｙであることが確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ）δ：８．４０（ｄ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ）
濾液を１Ｌナス型フラスコへ移しエバポレーターに設置し、反応溶媒を留去した（留去温度は７０℃）。
（２）有機溶媒処理（未反応ＲｕＣｌ３を取り除く工程）
溶媒留去後に得られた沈殿物を１０％含水アセトン１Ｌに溶解した。よく撹拌し、撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。
残渣を、ジエチルエーテルで洗浄しデシケーターへ移し真空乾燥を２時間行った。１Ｈ ＮＭＲの測定結果からＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２であることが確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ）δ：９．１０（ｄ，１Ｈ），８．５５（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｓ，１Ｈ），７．８０（ｄ，１Ｈ），７．３７（ｄ，１Ｈ），７．００（ｄ，１Ｈ）
収量：２４．５ｇ
収率：９０％
未反応ｄｃｂｐｙ：１．５ｇ（７．５％）
下記の実施例Ｃ１〜Ｃ７は、Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成の実施例である。
＜実施例Ｃ１＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：マイクロ波合成＋再沈殿＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波を用いた合成反応
２００ｍｌナス型フラスコに塩化ルテニウム１ｇとｄｃｂｐｙ ２ｇおよびＤＭＦ １００ｍｌを入れた。フラスコをマイクロ波発生装置に設置し、フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を１５分照射した。
次に、反応液に、ＤＭＦ １０ｍｌに分散させたＮａＳＣＮ ５．６ｇを加えた。そして、再びアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った。）
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を１５分照射した。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っているフラスコをエバポレーターに設置し、反応溶媒のＤＭＦを留去した（留去温度は７０℃）。
（２）再沈殿処理
ＤＭＦを留去した後、１Ｍ−ＮａＯＨａｑ ２０ｍｌを加えて結晶を溶解させた。
そして、溶解液を、Ｎｏ５ｃの濾紙を用いて濾過した。
濾液に、純水を加え全体を５００ｍｌに薄めた。撹拌子を液中に入れスターラーで撹拌しながら、ｐＨメーターを液中に浸漬した。滴下ロートを用い液中に１Ｍ−ＨＣｌａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝４付近から液中に沈殿物が生成した。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。このとき、最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。
撹拌終了後、円心沈殿機を用い生成物を沈降させた。デカンテーションし、沈殿物を容器から取り出し、吸引濾過器で脱水した。得られた結晶を、ヌッチェ上で純水を用い１回洗浄した。
（３）有機溶媒処理
次に、得られた沈殿物（残渣）に、１０％含水アセトン５００ｍｌを加えよく撹拌し溶解した。撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。濾紙上の残渣を１Ｈ ＮＭＲで分析したところｄｃｐｂｙと確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ）δ：８．４０（ｄ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ）
濾液は、１Ｌナス型フラスコに入れエバポレーターで溶媒を留去した（留去温度６０℃）。
溶媒留去後、結晶をジエチルエーテルに分散させた後、吸引濾過した。
濾別したら、残渣を直ちにデシケーターに移し真空乾燥を２時間行い目的のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：１．９１ｇ
収率：６７％
未反応ｄｃｂｐｙ：０．４ｇ（２０％）
＜実施例Ｃ２＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：マイクロ波合成＋再沈殿＋機能向上処理＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波を用いた合成反応
２００ｍｌナス型フラスコに塩化ルテニウム１ｇとｄｃｂｐｙ ２ｇおよびＤＭＦ １００ｍｌを入れた。フラスコをマイクロ波発生装置に設置し、フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った。）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を１５分照射した。
次に、反応液に、ＤＭＦ １０ｍｌに分散させたＮａＳＣＮ ５．６ｇを加えた。そして、再びアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った。）
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を１５分照射した。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っているフラスコをエバポレーターに設置し、反応溶媒のＤＭＦを留去した（留去温度は７０℃）。
（２）再沈殿処理
ＤＭＦを留去した後、１Ｍ−ＮａＯＨａｑ ２０ｍｌを加えて結晶を溶解させた。そして、溶解液を、Ｎｏ５ｃの濾紙を用いて濾過した。
濾液に、純水を加え全体を５００ｍｌに薄めた。撹拌子を液中に入れスターラーで撹拌しながら、ｐＨメーターを液中に浸漬した。滴下ロートを用い液中に１Ｍ−ＨＣｌａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝４付近から液中に沈殿物が生成した。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。このとき、最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。
反応終了後、円心沈殿機を用い生成物を沈降させた。デカンテーションし、沈殿物を容器から取り出した。
（３）機能向上処理
得られた沈殿物を純水５００ｍｌに超音波を用い分散させた。ｐＨメーターを液中に浸漬した。この時の分散液はｐＨ＝３．５であった。撹拌しながら滴下ロートを用い１Ｍ−ＨＣｌａｑをゆっくり滴下しｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。
最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。
溶液がほぼ無色透明になったら円心沈殿機を用い洗浄液と沈殿物を分離させ、上澄み液をデカンテーションで取り除いた。
この機能向上処理を３回繰り返した。３回目の機能向上処理で得られた沈殿物の分離は、円心沈殿機を用いず静置して沈殿物を沈降させた。そして、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。濾別後、２時間その状態で風乾した。
（４）有機溶媒処理
得られた沈殿物（残渣）に１０％含水アセトン５００ｍｌを加えた。よく撹拌した後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。この時、濾紙上の残渣を１Ｈ ＮＭＲで分析したところｄｃｐｂｙと確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ）δ：８．４０（ｄ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ）
濾液を、１Ｌナス型フラスコに入れ、エバポレーターに設置し、溶媒を留去した（留去温度６０℃）。
溶媒留去後、フラスコ内の結晶を、ミクロスパーテルで掻き出し、５０ｍｌビーカーへ入れた。そこへジエチルエーテル２０ｍｌを加え超音波で分散させた。その後撹拌子を入れスターラーで１時間撹拌した。
撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。濾別したら直ちにデシケーターに移し真空乾燥を２時間行い、目的のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：１．８５ｇ
収率：６５％
未反応ｄｃｂｐｙ：０．４ｇ（２０％）
＜実施例Ｃ３＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：マイクロ波合成＋再沈殿＋機能向上処理＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波を用いた合成反応
２００ｍｌナス型フラスコに塩化ルテニウム５ｇとｄｃｂｐｙ １０ｇおよびＤＭＦ １００ｍｌを入れミクロスパーテルで少し撹拌した。フラスコをマイクロ波発生装置に設置し、フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った。）
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を３０分照射した。
この時、マイクロ波を連続照射させていると反応溶媒の沸点（１３５℃）を超え、反応液が沸騰し容器から噴きこぼれる可能性があるため、沸騰したらマイクロ波照射をやめ、液温が下がるのを待ち、再び照射を行うようにした。上記マイクロ波照射時間の３０分は、反応液にマイクロ波を照射した時間である。
次に、反応液に、ＤＭＦ ５０ｍｌに分散させたＮａＳＣＮ ２８ｇを加えた。そして、再びアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った。）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を３０分照射した。この時も上記と同様にマイクロ波を連続照射させていると反応溶媒の沸点（１３５℃）を超え、反応液が沸騰し容器から噴きこぼれる可能性があるため、沸騰したらマイクロ波照射をやめ、液温が下がるのを待ち、再び照射を行うようにした。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っている２００ｍｌナス型フラスコをエバポレーターに設置し、反応溶媒を留去した（留去温度は７０℃）。
（２）再沈殿処理
溶媒を留去した後、１Ｍ−ＮａＯＨａｑ １００ｍｌを用いて得られた結晶を溶解した。そして、溶解液を、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用いて濾過した。
濾液に純水を加え全体を１Ｌに薄めた。撹拌子を液中に入れスターラーで撹拌しながら、ｐＨメーターを液中に浸漬した。滴下ロートを用い液中に１Ｍ−ＨＣｌａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ＰＨ＝４付近から液中に沈殿物が生成した。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。このとき、最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。
反応終了後、円心沈殿機を用い生成物を沈降させた。デカンテーションして、沈殿物を取り出した。
（３）機能向上処理
得られた沈殿物を、純水１Ｌに超音波を用い分散させた。ｐＨメーターを液中に浸漬した。この時の分散液は、ｐＨ＝３．５付近であった。撹拌しながら、滴下ロートを用い１Ｍ−ＨＣｌａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。このとき、最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。溶液がほぼ無色透明になったら、円心沈殿機を用い上澄み液と沈殿物を分離させた。上澄み液はデカンテーションで取り除いた。
この機能向上処理を３回繰り返した。３回目の洗浄工程の沈殿物の分離は、円心沈殿機を用いず、静置して沈殿物を沈降させた。Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別し、残渣を２時間その状態で風乾した。
（４）有機溶媒処理
得られた沈殿物（残渣）を１０％含水アセトン１Ｌに溶解させた。溶解液を、よく撹拌し、撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。この時、残渣を１Ｈ ＮＭＲで分析したところｄｃｐｂｙと確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ）δ：８．４０（ｄ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ）
濾液を、２Ｌナス型フラスコに入れエバポレーターに設置し溶媒を留去した。（留去温度６０℃）。
溶媒留去後、２Ｌナス型フラスコ内の結晶をミクロスパーテルで掻き出し、２００ｍｌビーカーへ入れた。そこへジエチルエーテル１００ｍｌを加え超音波で分散させた。その後、撹拌子を入れスターラーで１時間撹拌した。
撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。濾別したら直ちにデシケーターに移し真空乾燥を２時間行い、目的のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：１１．６１ｇ
収率：８１％
未反応ｄｃｂｐｙ：１．７ｇ（１７％）
＜実施例Ｃ４＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：マイクロ波合成＋エージング＋機能向上処理＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波及びエージングによる合成反応
２００ｍｌナス型フラスコに塩化ルテニウム１ｇとｄｃｂｐｙ ２ｇおよびＤＭＦ １００ｍｌを入れミクロスパーテルで少し撹拌した。フラスコを、マイクロ波発生装置に設置し、フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を１５分照射した。
次に、反応液に、ＤＭＦ １０ｍｌに分散させたＮａＳＣＮ ５．６ｇを加えた。そして、再びアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を１５分照射した。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っているフラスコをマントルヒーターに設置した。マントルヒータの温度を１３５℃に設定し２時間保持した（エージング）。
マントルヒーターでの加熱終了後、反応液が入ったフラスコをエバポレーターに設置し、反応溶媒を留去した（留去温度は７０℃）。
（２）機能向上処理
溶媒を留去した後、得られた結晶を純水５００ｍｌに分散させた。
分散液に撹拌子を入れスターラーで撹拌しながら、ｐＨメーターを液中に浸漬した。滴下ロートを用い、液中に２０％−ＣＦ３ＣＯＯＨａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝４付近から液中に沈殿物が生成した。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。このとき、最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。
撹拌終了後、円心沈殿機を用い生成物を沈降させた。分離した上澄み液はデカンテーションして取り除いた。
得られた沈殿物を、純水５００ｍｌに超音波を用い分散させた。ｐＨメーターを液中に浸漬した。この時の分散液はｐＨ＝３．５付近であった。撹拌しながら滴下ロートを用い、２０％−ＣＦ３ＣＯＯＨａｑをゆっくり滴下しｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。溶液がほぼ無色透明になったら円心沈殿機を用い、溶媒と沈殿物を分離させた。上澄み液はデカンテーションで取り除いた。この工程を３回繰り返した。
３回目のデカンテーション後、沈殿物は吸引濾過により脱水した。濾別後２時間その状態で風乾した。
（３）有機溶媒処理
得られた沈殿物を１０％含水アセトン５００ｍｌに溶解させた。よく撹拌し、撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。この時の残渣を１Ｈ ＮＭＲで分析したところｄｃｐｂｙと確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ）δ：８．４０（ｄ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ）
濾液を、１Ｌナス型フラスコに入れエバポレーターに設置し、溶媒を留去した。（留去温度６０℃）。
溶媒留去後、１Ｌナス型フラスコ内の結晶をミクロスパーテルで掻き出し、１００ｍｌビーカーへ入れた。そこへジエチルエーテル５０ｍｌを加え超音波で分散させた。その後撹拌子を入れスターラーで１時間撹拌した。
撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別し、残渣を直ちにデシケーターに移し真空乾燥を２時間行い、目的のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：２．５ｇ
収率：８８％
未反応ｄｃｂｐｙ：０．２ｇ（１０％）
＜実施例Ｃ５＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：マイクロ波合成＋エージング＋機能向上処理＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波及びエージングによる合成反応
２Ｌ丸底フラスコに塩化ルテニウム１００ｇとｄｃｂｐｙ ２００ｇおよびＤＭＦ １Ｌを入れミクロスパーテルで少し撹拌した。フラスコをマイクロ波発生装置に設置し、フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（１５分間アルゴンガスバブリングを行った）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、反応液の温度を１３５℃に維持しながら、マイクロ波（出力１００〜５００Ｗ）を６時間照射した。
次に、反応液に、ＤＭＦ ５００ｍｌに分散させたＮａＳＣＮ ５６０ｇを加えた。そして、再びアルゴンガスを充填させた（１５分間アルゴンガスバブリングを行った。）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力１００〜５００Ｗ）を６時間照射した。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っているフラスコをマントルヒーターに設置した（還流管も付けて）。マントルヒータの温度を１３５℃に設定し６時間加熱を行った（エージング）。
マントルヒーターでの加熱終了後、反応液が入ったフラスコをエバポレーターに設置し、反応溶媒を留去した（留去温度は７０℃）。
（２）機能向上処理
溶媒を留去した後、純水５Ｌを用いて、得られた結晶を分散させた。
分散液に撹拌子を入れ、スターラーで撹拌しながらｐＨメーターを液中に浸漬した。滴下ロートを用い液中に２０％−ＣＦ３ＣＯＯＨａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝４付近から液中に沈殿物が生成した。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を４時間行った。このとき、最初の２時間は高回転で撹拌を行い、後半の２時間は低回転で撹拌を行った。
撹拌終了後、円心沈殿機を用い生成物を沈降させた。分離した上澄み液はデカンテーションし取り除いた。
得られた沈殿物を純水５Ｌに超音波を用い分散させた。ｐＨメーターを液中に浸漬した。この時の分散液はｐＨ＝３．５付近であった。撹拌しながら滴下ロートを用い２０％−ＣＦ３ＣＯＯＨａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を４時間行った。このとき、最初の２時間は高回転で撹拌を行い、後半の２時間は低回転で撹拌を行った。溶液がほぼ無色透明になったら円心沈殿機を用い洗浄液と沈殿物を分離させた。上澄みの洗浄液はデカンテーションで取り除いた。この工程を３回繰り返した。
３回目のデカンテーション後、沈殿物は吸引濾過により脱水させた。濾別後２時間その状態で風乾した。
（３）有機溶媒処理
得られた沈殿物（残渣）を１０％含水アセトン５Ｌで溶解した。よく撹拌し、撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。この時の残渣を１Ｈ ＮＭＲで分析したところｄｃｐｂｙと確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ δ：８．４０（ｄ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ）
濾液を、１０Ｌナス型フラスコに入れエバポレーターに設置し、溶媒を留去した（留去温度６０℃）。
溶媒留去後、フラスコ内の結晶をミクロスパーテルで掻き出し、１Ｌビーカーへ入れた。そこへジエチルエーテル５００ｍｌを加え超音波で分散させた。その後撹拌子を入れスターラーで２時間撹拌した。
撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別し、残渣を直ちにデシケーターに移し真空乾燥を４時間行い目的のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：２６３ｇ
収率：９２％
未反応ｄｃｂｐｙ：１４ｇ（７％）
＜実施例Ｃ６＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：マイクロ波合成＋エージング＋機能向上処理＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波及びエージングによる合成反応
２００ｍｌナス型フラスコに実施例Ｂ１で得られたＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２ ２４．５ｇとＮａＳＣＮ ５０ｇおよび１５０ｍｌのＤＭＦを入れた。フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を３０分照射した。
このとき、マイクロ波を連続照射させていると反応溶媒の沸点（１３５℃）を超え、反応液が沸騰し容器から噴きこぼれる可能性があるため、沸騰したらマイクロ波照射をやめ、液温が下がるのを待ち、再び照射を行うようにした。上記マイクロ波照射時間３０分は、反応液にマイクロ波を照射した時間である。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っている２００ｍｌナス型フラスコをマントルヒーターに設置した（還流管も付けて）。マントルヒータの温度を１３５℃に設定し２時間加熱を行った（エージング）。
マントルヒーターでの加熱終了後、反応液が入った２００ｍｌナス型フラスコをエバポレーターに設置し、反応溶媒を留去した（留去温度は７０℃）。
（２）機能向上処理
溶媒を留去した後、純水１Ｌを用いて、得られた結晶を分散させた。
分散液に撹拌子を入れスターラーで撹拌しながら、ｐＨメーターを液中に浸漬した。滴下ロートを用い液中に１０倍に希釈した濃硝酸をゆっくり滴下しｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝４付近から液中に沈殿物が生成した。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。このとき、最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行うようにした。
撹拌終了後、円心沈殿機を用い生成物を沈降させた。分離した上澄み液はデカンテーションし取り除いた。
得られた沈殿物を、純水１Ｌに超音波を用いて分散させた。ｐＨメーターを液中に浸漬した。この時の分散液はｐＨ＝３．５であった。滴下ロートを用い１０倍に希釈した濃硝酸をゆっくり滴下しｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。溶液がほぼ無色透明になったら円心沈殿機を用い洗浄液と沈殿物を分離させた。上澄みの洗浄液はデカンテーションで取り除いた。この洗浄工程を３回繰り返した。
３回目のデカンテーション終了後、沈殿物は吸引濾過を用い脱水させた。濾別後、２時間その状態で風乾した。
（３）有機溶媒処理
得られた沈殿物を１０％含水メタノール１Ｌで溶解した。よく撹拌し、撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。
濾液は２Ｌナス型フラスコに入れエバポレーターに設置し、溶媒を留去した。（留去温度６０℃）。
溶媒留去後、フラスコ内の結晶をミクロスパーテルで掻き出し、２００ｍｌビーカーへ入れた。そこへジエチルエーテル１００ｍｌを加え、超音波で分散させた。その後スターラーで１時間撹拌した。
撹拌終了後、Ｎｏ５ｃの濾紙を用い濾別し、残渣を直ちにデシケーターに移し真空乾燥を２時間行い、目的のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：２４ｇ
収率：８５％
＜実施例Ｃ７＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成（配位子化合物を再利用）
処理工程：マイクロ波合成＋エージング＋機能向上処理＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波及びエージングによる合成反応
２Ｌ丸底フラスコに塩化ルテニウム１００ｇとｄｃｂｐｙ ２００ｇ（そのうち１４ｇは実施例Ｃ５で回収した配位子）およびＤＭＦ １Ｌを入れミクロスパーテルで少し撹拌した。フラスコをマイクロ波発生装置に設置し、フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（１５分間アルゴンガスバブリングを行った。）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、反応液の温度を１３５℃に維持しながら、マイクロ波（出力１００〜５００Ｗ）を６時間照射した。
反応液にＤＭＦ ５００ｍｌに分散させたＮａＳＣＮ ５６０ｇを加えた。そして、再びアルゴンガスを充填させた（１５分間アルゴンガスバブリングを行った。）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力１００〜５００Ｗ）を６時間照射した。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っているフラスコをマントルヒーターに設置した（還流管も付けて）。マントルヒータの温度を１３５℃に設定し６時間加熱を行った（エージング）。
マントルヒーターでの加熱終了後、反応液が入ったフラスコをエバポレーターに設置し、反応溶媒を留去した（留去温度は７０℃）。
（２）機能向上処理
溶媒を留去した後、純水５Ｌを用いて、得られた結晶を分散させた。
分散液に撹拌子を入れ、スターラーで撹拌しながらｐＨメーターを液中に浸漬した。滴下ロートを用い液中に２０％−ＣＦ３ＣＯＯＨａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝４付近から液中に沈殿物が生成した。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を４時間行った。このとき、最初の２時間は高回転で撹拌を行い、後半の２時間は低回転で撹拌を行った。
撹拌終了後、円心沈殿機を用い生成物を沈降させた。分離した上澄み液はデカンテーションし取り除いた。
得られた沈殿物を純水５Ｌに超音波を用い分散させた。ｐＨメーターを液中に浸漬した。この時の分散液はｐＨ＝３．５付近であった。撹拌しながら滴下ロートを用い２０％−ＣＦ３ＣＯＯＨａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を４時間行った。このとき、最初の２時間は高回転で撹拌を行い、後半の２時間は低回転で撹拌を行った。溶液がほぼ無色透明になったら円心沈殿機を用い洗浄液と沈殿物を分離させた。上澄みの洗浄液はデカンテーションで取り除いた。この工程を３回繰り返した。
３回目のデカンテーション後、沈殿物は吸引濾過により脱水させた。濾別後２時間その状態で風乾した。
（３）有機溶媒処理
得られた沈殿物（残渣）を１０％含水アセトン５Ｌで溶解した。よく撹拌し、撹拌終了後、Ｎｏ５ｃの濾紙を用い濾別した。この時の残渣を１Ｈ ＮＭＲで分析したところｄｃｐｂｙと確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ）δ：８．４０（ｄ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ）
濾液を、１０Ｌナス型フラスコに入れエバポレーターに設置し、溶媒を留去した（留去温度６０℃）。
溶媒留去後、フラスコ内の結晶をミクロスパーテルで掻き出し、１Ｌビーカーへ入れた。そこへジエチルエーテル５００ｍｌを加え超音波で分散させた。その後撹拌子を入れスターラーで２時間撹拌した。
撹拌終了後、Ｎｏ５ｃの濾紙を用い濾別し、残渣を直ちにデシケーターに移し真空乾燥を４時間行い目的のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：２６３ｇ
収率：９２％
未反応ｄｃｂｐｙ：１４ｇ（７％）
＜比較例Ｃ１＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：熱伝導加熱合成＋再沈殿処理
（１）熱伝導加熱反応よる合成
２００ｍｌナス型フラスコにＤＭＦ １００ｍｌ、塩化ルテニウム３００ｍｇ及びｄｃｂｐｙ ５７０ｍｇを入れ遮光したアルゴン雰囲気のもとで温度を１３５℃に保ち５時間反応させた。反応終了後、放冷しＤＭＦを留去してからアセトンを添加して結晶を析出させた。この結晶をろ別し、アセトン洗浄を行なった後、常温で減圧蒸留してＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２を得た。
（２）再沈殿処理
得られたＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２を２００ｍｌナス型フラスコに入れＤＭＦ １００ｍｌに溶解した後、０．１Ｎ−ＮａＯＨａｑ １０ｍｌに溶解したＮａＳＣＮ １．７ｇを加え、遮光下で１３５℃に保ちながらアルゴン雰囲気下で６時間還流しながら加熱反応させた。反応終了後、室温まで冷却しＤＭＦを留去し、乾固させた。そして、ジエチルエーテルで洗浄後、常温で真空乾燥させ、Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。図１０に１Ｈ ＮＭＲ測定結果を示す。
収量：０．４ｇ
収率：５５％
＜比較例Ｃ２＞Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：熱伝導加熱＋再沈殿処理＋カラムによる精製
（１）熱伝導加熱反応による合成
２００ｍｌナス型フラスコＤＭＦ １００ｍｌ、塩化ルテニウム３００ｍｇ及びｄｃｂｐｙ ５７０ｍｇを入れ遮光したアルゴン雰囲気のもとで温度を１３５℃に保ち５時間反応させた。反応終了後、放冷しＤＭＦを留去してからアセトンを添加して結晶を析出させた。この結晶をろ別しアセトン洗浄を行なった後、常温で減圧蒸留してＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２を得た。
（２）再沈殿処理
得られたＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２を、２００ｍｌナス型フラスコに入れ、ＤＭＦ １００ｍｌに溶解した後、０．１Ｎ−ＮａＯＨａｑ １０ｍｌに溶解したＮａＳＣＮ １．７ｇを加え、遮光下で、１３５℃に保ちながら、アルゴン雰囲気下で６時間還流しながら加熱反応させた。反応終了後、室温まで冷却しＤＭＦを留去し乾固させＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
（３）カラム分離による精製
得られたＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２をメタノールに溶解し、ろ過した。ろ液を、別に準備した「トヨパール−ＨＷ５５Ｆ・東ソー（株）製」を充填したカラムに通して、バンドの色が濃い紫色部分を採取することにより、不純物を分離した。メタノールを留去して得た結晶を、ジエチルエーテルで洗浄し、Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：０．３ｇ
収率：４５％
なお、比較例Ｃ２については、同様の条件、操作で複数回行った。その結果、ＮＭＲ測定，ＵＶ測定，ルテニウム含量，収量及び収率の値は安定していたが、変換効率は、３〜６％の幅があり、ばらつきがあった。エネルギー変換効率が６％であったものを比較例Ｃ２’とする。
＜参考例１＞
ソーラニクス社製のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２について、上記の変換効率の測定方法と同様の方法でエネルギー変換効率を測定した。
上記、実施例及び比較例における収率を下記表２にまとめた。
上記、実施例、比較例及び参考例におけるエネルギー変換効率を下記表３にまとめた。
表２及び表３から、従来の熱伝導による加熱合成（比較例Ｃ１及びＣ２）に比べ、本発明を適用した実施例Ｃ１〜Ｃ７の方が、収率が高くまた増感色素としても優れていることが分かる。
また、多くの時間と多量の溶媒が必要なカラム分離（比較例Ｃ２）と比べても、本発明を適用した実施例Ｃ１〜Ｃ７の方が、収率が高い。また、機能向上処理を行うことで、増感色素として優れたルテニウム錯体が合成されることが分かる。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【技術分野】
本発明は、金属錯体の合成方法に関し、特に、ルテニウムを中心金属とする金属錯体を合成する方法に関する。
【背景技術】
金属錯体、例えば、ルテニウムを中心金属とする金属錯体は、光化学あるいは電気化学で利用されうる湿式太陽電池における増感色素並びに光触媒の原料として注目されている。そこで、金属錯体を、短時間で高収率に量産できる技術の開発が切望されている。現段階でこれらの金属錯体は熱伝導加熱を用い合成されるのが一般的である。
【発明の開示】
しかしながら、従来の金属錯体の合成方法は、反応時間が長く、高収率に金属錯体を得ることは困難であった。
そこで、本発明は、金属錯体、例えば、ルテニウムを中心金属とする金属錯体等を、短時間かつ高収率に合成する方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成すべく、本発明の金属錯体の合成方法は、マイクロ波を用いて行う。
例えば、本発明の第１の態様の金属錯体の合成方法は、ルテニウムを中心金属とする金属錯体の合成方法であって、原料物質と溶媒とからなる反応液に、マイクロ波を照射することを特徴とする金属錯体の合成方法である。
また、本発明の第２の態様の金属錯体の合成方法は、原料物質と溶媒とからなる反応液に、マイクロ波を照射後エージング処理を行うことを特徴とする金属錯体の合成方法である。
前記第１又は第２の態様の金属錯体の合成方法は、さらに、合成目的の金属錯体が溶解した溶液に、酸を添加し、析出した析出物を当該溶液から取り出す工程を有していてもよい。
また、合成目的の金属錯体と未反応の原料とを含む混合物を、有機溶媒に添加して、得られた溶液から、溶解していない物質を取り除く工程を有していてもよい。
また、合成目的の金属錯体と未反応の原料とを含む混合物を、含水量２０重量％以下の含水プロトン性有機溶媒に添加して、得られた溶液から、溶解していない物質を取り除く工程を有していてもよい。
また、さらに、合成目的の金属錯体が溶解した溶液に、酸を添加し、析出した析出物を当該溶液から取り出す工程と、取り出した析出物を、有機溶媒に添加して、得られた溶液から溶解していない物質を取り除く工程とを有していてもよい。
また、取り除いた物質を、原料物質として再利用するようにしてもよい。
また、前記反応の溶媒は、沸点が９０〜２００℃の範囲であってもよい。
また、前記マイクロ波の照射は、照射出力に照射時間を乗じた値が、反応液１００ｍｌに対して、４０〜１０００Ｗｈの範囲となるように行われるようにしてもよい。
また、前記エージング処理は、前記反応液を９０〜２００℃の温度範囲に保持することにより行うようにしてもよい。
また、本発明の第３の態様は、光化学電池の増感色素として使用される金属錯体の処理方法であって、前記金属錯体を、超音波により純水に分散させ後、酸を添加し析出させる工程を行うことを特徴とする金属錯体の処理方法である。
前記第３の態様は、前記工程を、純水に分散させたときの溶液の着色が実質的になくなるまで複数回繰り返して行うようにしてもよい。
前記第１〜３のいずれかの態様の金属錯体は、
一般式（１）
ＲｕＬａＬ’ｂ （１）
（上記一般式（１）においてＲｕはルテニウム原子を表し、Ｌ及びＬ’は配位子を表す。ａは２〜４の整数を表し、ｂは０又は１〜４の整数を表し、ａ＋ｂは６以下である。）で表される金属錯体であってもよい。
また、前記第１〜第３のいずれかの態様の金属錯体は、
一般式（２）あるいは（３）
ＲｕＬ２Ｌ’２ （２）
ＲｕＬ３ （３）
（上記一般式（２）および（３）においてＲｕはルテニウム原子を表し、Ｌはビピリジン系配位子を表し、Ｌ’はＬ以外の配位子を表す。また、前記ビピリジン系配位子とは、２．２’−ビピリジンまたは２．２’−ビピリジンの誘導体である。）で表される金属錯体であってもよい。
前記第１〜３のいずれかの態様の金属錯体は、
一般式（４）
ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２ （４）
（上記一般式（４）においてＲｕはルテニウム原子を表し、Ｌは２．２’−ビピリジン−４，４’−ジカルボン酸を表す。）で表される金属錯体であってもよい。
また、前記第１または第３の態様において、マイクロ波を照射する際、不活性ガス雰囲気及び遮光下にて行うようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
図１は、第１実施形態にかかる金属錯体の合成方法の処理の流れを示す図である。
図２は、第２実施形態にかかるＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成方法の処理の流れを示す図である。
図３は、第３実施形態にかかる金属錯体の合成方法の処理の流れを示す図である。
図４は、マイクロ波を用いる合成装置の概略図である。
図５は、実施例Ａ１によって得た［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏの紫外可視吸収スペクトル測定結果である。
図６は、実施例Ａ１によって得た［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏの１Ｈ ＮＭＲ測定結果である。
図７は、実施例Ａ２によって得たＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２の１Ｈ ＮＭＲ測定結果である。
図８は、比較例Ａ１によって得た［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏの紫外可視吸収スペクトル測定結果である。
図９は、比較例Ａ１によって得た［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏの１Ｈ ＮＭＲ測定結果である。
図１０は、比較例Ｃ１によって得たＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の１Ｈ ＮＭＲ測定結果である。
【発明を実施するための最良の形態】
本発明の金属錯体の合成方法では、金属源と、配位子となる化合物（「配位子化合物」ともいう。）とを溶媒に溶解もしくは分散させ、マイクロ波を照射させて金属錯体を生成させる。
例えば、ルテニウム源および配位子化合物を溶媒に溶解もしくは分散させ、マイクロ波を照射させてルテニウムを中心金属とするルテニウム錯体を生成させる。反応は、好ましくは、不活性ガス、例えば窒素、アルゴン等のバブリング下で有機溶媒中もしくは純水中で行う。また、上記反応は遮光環境下および不活性ガス雰囲気下で反応を進行させるのが好ましい。上記反応に用いるルテニウム源としては、塩化ルテニウムが好ましいがこれに限定しない。上記反応に用いる有機溶媒としては高沸点有機溶媒が好ましく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、エチレングリコール等があげられる。上記反応によって得られたルテニウムを中心金属とする金属錯体は分別、晶析後、乾燥を行う。以下に、本発明の金属錯体の合成方法を、より詳しく説明する。
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態にかかる金属錯体の合成方法の処理の流れを示すフロー図である。
図示するように、本実施形態の金属錯体の合成方法は、原料の仕込処理（Ｓ１０１０）、マイクロ波の照射処理（Ｓ１０２０）、エージング処理（Ｓ１０３０）、溶媒の留去処理（Ｓ１０４０）とを有する。
原料の仕込処理（Ｓ１０１０）では、原料が溶媒とともに反応容器に入れられる。原料は、合成目的の金属錯体の中心金属を含む化合物及び配位子となる化合物である。原料および溶媒は、合成目的の金属錯体に応じて適宜選択される。
すなわち、Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２の合成を行う場合（「ｄｃｂｐｙ」は２，２’−ビピリジン−４，４’−ジカルボン酸を意味する。）、下記式のように、ルテニウム源としてＲｕＣｌ３（ＲｕＣｌ３・３Ｈ２Ｏ）、配位子となる化合物としてｄｃｂｐｙが原料として用いられる。また、溶媒として、ＤＭＦ，ＤＭＳＯ，エチレングリコール，水等が用いられる。これらの中でも、沸点が９０〜２００℃の範囲である溶媒が好ましく用いられ、ＤＭＦがより好ましく用いられる。
また、Ｒｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２の合成を行う場合、下記式のようにルテニウム源としてＲｕＣｌ３（ＲｕＣｌ３・３Ｈ２Ｏ）、配位子としてＤＭＳＯが用いられる。
また、Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成を行う場合、下記式のようにルテニウム源としてＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２、配位子としてＮａＳＣＮが用いられる。また、溶媒として、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、エチレングリコール、水等が用いられる。これらの中でも、沸点が９０〜２００℃の範囲である溶媒が好ましく用いられ、ＤＭＦがより好ましく用いられる。なお、ＮａＳＣＮの代わりに、ＫＳＣＮ，ＮＨ４ＳＣＮ等のＳＣＮ化合物を使用してもよい。
配位子化合物の使用量は、金属源となる化合物１重量部（質量部）に対して、通常１〜５重量部、好ましくは、２〜３重量部の範囲である。
溶媒の使用量は、反応容器の容量、原料の仕込み量によって適宜選択される。
マイクロ波照射処理（Ｓ１０２０）では、仕込まれた反応液にマイクロ波が照射される。
マイクロ波は、マイクロ波出力装置から出力される。マイクロ波出力装置としては、市販のものが使用できる。用いられるマイクロ波の波長は、通常、２．４〜２．６ＧＨｚ、好ましくは２．４５ＧＨｚ付近（±３０ＭＨｚ）の範囲である。
マイクロ波の出力は、反応液の量に応じて適宜選択されるが、扱い易さの観点から、通常、３０Ｗ〜１５００Ｗ、好ましくは１００〜８００Ｗの範囲である。マイクロ波の照射は、短時間で反応液全体を均一に加熱するためになされる。出力が低すぎると加熱に時間がかかる。一方、出力が高すぎると加熱しすぎる場合があり制御が難しくなる。
マイクロ波の照射時間は、長すぎないようする。照射時間が長すぎると、反応液の温度が高くなり過ぎ、配位子が分解され、収率の低下を招く。マイクロ波の照射時間は、反応溶液の量が多い程、長くなるようにしてもよい。
例えば、マイクロ波の照射は、反応溶液１００ｍｌに対して、通常、４０〜１０００Ｗｈ、好ましくは１００〜４００Ｗｈの範囲で行われるようにする。反応溶液２００ｍｌに対して、通常、８０〜２０００Ｗｈ、好ましくは２００〜８００Ｗｈの範囲で行われるようにする。
マイクロ波の照射は、反応容器内に外から空気が入り込まないように、不活性ガスでバブリングさせながら行われるのが好ましい。不活性ガスとしては、ヘリウムガス、窒素ガス、アルゴンガス等が挙げられるが、比重の観点からアルゴンガスが好ましく用いられる。
また、反応液が沸騰すると反応容器からふきこぼれることがあるので、沸騰したらマイクロ波の照射を中止し、液温が下がったら再び照射が行われるようにしてもよい。
マイクロ波の照射がなされると、次に、エージング処理がなされる（Ｓ１０３０）。エージング処理は、反応を十分進行させて、目的物の収率の向上を図るために行われる。エージング処理は、反応液を所定の温度範囲で保持することによりなされる。例えば、還流管を用いて、反応液を還流することによりなされる。エージング温度は、マントルヒータ等で加熱することにより維持される。エージング温度は、通常、溶媒の沸点（９０〜２００℃）である。
エージング処理の時間は、反応液の量に応じて適宜選択されるが、通常０．５〜２４時間の範囲である。例えば、反応溶液１００ｍｌに対して０．５〜６時間の範囲である。
エージング処理（Ｓ１０３０）が終了すると、エバポレーター等により溶媒の留去処理がなされ（Ｓ１０４０）、目的の金属錯体が得られる。
なお、目的の金属錯体と未反応物質とを分離するために、適当な溶媒を加えて濾別する処理を行うようにしてもよい。
得られた金属錯体は、吸光度分析法，紫外吸収スペクトル法，蛍光分析，熱分析，赤外吸収スペクトル法，ＩＣＰ発光分析，Ｘ線分析法，高速液体クロマトグラフィー，核磁気共鳴分析，電気化学分析，質量分析等により構造を決定することができる。
なお、本実施形態は、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ａｕ等の遷移金属を中心金属とした金属錯体の合成にも適用できる。
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。
第２実施形態は、ＲｕＣｌ３又はＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２からＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を合成する方法である。図２は、第２の実施形態のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成方法の処理の流れを示す図である。以下に各処理ステップについて説明する。
原料の仕込み処理（Ｓ２０１０）では、ルテニウム源としてＲｕＣｌ３（ＲｕＣｌ３・３Ｈ２Ｏ）、又はＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２が、配位子化合物としてｄｃｂｐｙが、ＤＭＦ等の溶媒とともに反応容器に入れられる。
マイクロ波照射処理（Ｓ２０２０）は、上記第１実施形態のＳ１０２０の処理と同様に行われるので説明を省略する。
マイクロ波照射処理（Ｓ２０２０）が終了すると、溶媒に分散させたＮａＳＣＮが、反応液に添加される（Ｓ２０３０）。
ＮａＳＣＮの使用量は、ＲｕＣｌ３の１重量部対して、通常、３〜１０重量部、好ましくは、５〜６重量部の範囲である。
ＮａＳＣＮを分散させる溶媒としては、ＤＭＦ等のＳ２０１０で仕込んだ溶媒と同様のものを用いることができる。溶媒の使用量は、ＮａＳＣＮを分散できる量で適宜選択されるが、ＮａＳＣＮ １重量部に対して、通常０．１〜１０重量部の範囲である。
ＮａＳＣＮの添加がなされると、マイクロ波の照射が再開される（Ｓ２０４０）。マイクロ波照射処理（Ｓ２０４０）は、Ｓ２０２０の処理と同様に行われる。
マイクロ波の照射が行われると、次に、エージング処理がなされる（Ｓ２０５０）。エージング処理は、第１実施形態のエージング処理（Ｓ１０３０）と同様に行われる。すなわち、反応液を所定の温度範囲で保持することによりなされる。例えば、還流管を用いて、反応液を還流することによりなされる。エージング温度は、マントルヒータ等で加熱することにより維持される。エージング温度は、通常、溶媒の沸点（９０〜２００℃）である。エージング処理の時間は、反応液の量に応じて適宜選択されるが、通常０．５〜２４時間の範囲である。例えば、反応溶液１００ｍｌに対して０．５〜６時間の範囲である。
エージング処理（Ｓ２０５０）が終了すると、エバポレーター等により溶媒の留去処理がなされ（Ｓ１０４０）、目的の金属錯体が得られる。
なお、未反応物質と目的の金属錯体を分離するために、適当な溶媒を加えて濾別する処理を行うようにしてもよい。
以上、第２実施形態について説明した。なお、図２の処理では、マイクロ波の照射を一旦中止してＮａＳＣＮの添加が行われるようになっているが、マイクロ波の照射を中止せずに、照射しながらＮａＳＣＮが添加されるようにしてもよい。
また、ＮａＳＣＮの代わりに、ＫＳＣＮ，ＮＨ４ＳＣＮ等のＳＣＮ化合物を使用してもよい。
＜第３実施形態＞
次に第３実施形態について図３のフロー図を用いて説明する。
第３実施形態は、ルテニウム錯体の合成反応後（Ｓ３０１０）、機能向上処理（Ｓ３０２０）及び未反応の配位子等を除くための有機溶媒処理（Ｓ３０３０）がなされるようにした金属錯体の合成方法である。
機能向上処理（Ｓ３０２０）は、合成されたルテニウム錯体の増感色素としての機能を向上させるために行われる。増感色素は、単に純度が高くてもその機能（エネルギー変換効率）が高いとは限らない。そこで、本実施形態では、合成後のルテニウム錯体に増感色素としての機能を向上させる処理が行われるようにする。
なお、金属錯体の合成反応（Ｓ３０１０）は、上記第１及び第２実施形態の合成反応（Ｓ１０１０〜Ｓ１０４０、Ｓ２０１０〜Ｓ２０６０）と同様に行うことができるので説明を省略する。
本実施形態では、機能向上処理（Ｓ３０２０）の前に、再沈殿処理による精製処理を行う。再沈殿処理は、例えば、以下のようにして行う。合成反応後に溶媒を留去し（Ｓ１０４０、Ｓ２０６０）、得られた合成物を、ＮａＯＨ水溶液，ＫＯＨ水溶液等のアルカリ水溶液に溶解する。次に、撹拌しながら酸を加えて、目的のルテニウム錯体を析出させる。析出物は、沈降するので、上澄み液をデカンテーション等で取り除くことで、目的のルテニウム錯体を得ることができる。
次に機能向上処理について説明する。機能向上処理では、合成反応により得られたルテニウム錯体（再沈殿で得られた沈殿物）を、超音波を用いて純水に分散させる。そして、撹拌しながら酸を加えてｐＨを低下させ、目的のルテニウム錯体を析出させる。続いて、沈殿物と上澄み液を円心沈殿機等で分離する。上澄み液を取り除き、沈殿物を再び純水に分散させ、酸の添加を行う。この一連の操作を、複数回繰り返す。好ましくは、沈殿物を純水に分散させたときの溶媒に、着色がなくなるまで複数回（例えば５回）繰り返す。
機能向上処理に用いられる酸としては、硝酸，塩酸，硫酸等の無機酸；酢酸，トリフルオロ酢酸等の有機酸等が挙げられるが、好ましくは、硝酸，トリフルオロ酢酸である。
撹拌は、核の発生を抑制し、析出物の粒径を大きくするため、最初は高回転で行い、後半は低回転で行うようにするのが好ましい。例えば、最初の１時間は、高回転で行い、次の１時間は低回転で行うようにする。
酸の添加も、核の発生を抑制し、析出物の粒径を大きくするため、滴下ロートを用いてゆっくり行うのが好ましい。通常、ｐＨ＝４付近から析出が開始する。酸は、通常、ｐＨ＝２付近になるまで、ゆっくり滴下する。ｐＨ値は、ｐＨメータにより測定する。
次に、有機溶媒を用いた精製処理（Ｓ３０３０）について説明する。これまでの処理で得られた沈殿物には、目的物質であるルテニウム錯体のほかに、未反応の配位子化合物が含まれている。そこで、沈殿物から未反応の配位子化合物を除去する。ただし、本実施形態では、配位子化合物が合成反応に再利用されるように効率よく回収する。
かかる目的のため、有機溶媒処理では、これまでの処理で得られた沈殿物を有機溶媒に溶解させた後、濾過する。
用いられる有機溶媒としては、メタノール，エタノール，アセトン，アセトニトリル等のプロトン性溶媒を用いることができる。これらの中でも、沸点が３０〜１２０℃のプロトン性溶媒が好ましく、メタノールがさらに好ましく用いられる。これらの有機溶媒は、単独でも２種以上を混合して用いてもよい。
また、含水有機溶媒を用いてもよい。ルテニウム錯体は、無水有機溶媒には溶解しにくいが、含水有機溶媒には溶解しやすいからである。溶媒中の水の含水率は、通常、０．０００１〜２０％、好ましくは５〜１５％の範囲である。
濾過後の残渣には、未反応の配位子化合物（ｄｃｂｐｙ）が含まれている。配位子化合物は、再度合成反応の原料として用いることができる。
一方、濾液には目的のルテニウム錯体が含まれる。濾液は、溶媒を留去した後、乾燥、脱水される。乾燥、脱水は、真空凍結乾燥により行ってもよいし、ルテニウム錯体が多量の場合は、ジエチルエーテル等のエーテル類で脱水するようにしてもよい。
このようにして、増感色素としての機能が向上され、かつ精製されたルテニウム錯体が得られる。
以上、第３実施形態について説明した。
なお、第３実施形態では、機能向上処理と有機溶媒処理とが組み合わせて行われるようにしているが、いずれかの処理のみが行われるようにしてもよい。
以上、いくつかの実施例について説明したが、本発明は、その要旨の範囲内でさまざまな変形が可能である。
例えば、第３の実施形態では、ルテニウム錯体の機能向上処理及び有機溶媒処理について説明したが、他の金属錯体について第３の実施形態の処理を行うようにしてもよい。
【実施例】
次に、実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。尚、本発明は、下記実施形態になんら限定されるものではない。下記実施形態はあくまで例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
下記実施例及び比較例において用いられた試料は以下の通りである。
塩化ルテニウム３水和物：小島化学薬品（株）社製
２，２’−ビピリジン−４，４’−ジカルボン酸（ｄｃｂｐｙ）：広栄化学工業（株）社製
ＮａＳＣＮ：関東化学（株）社製
また、マイクロ波発生装置は、マイルストーンゼネラル（株）社製（商品名：マイクロシンス）を用いた。マイクロ波の照射は、図４に示すような合成装置で行った。図示するように、合成装置は、マイクロ波発生装置１、ガラス器具（ナス型フラスコ）２、ガラス製冷却管３、冷却装置４、排気装置５、マイクロ波漏洩防止壁６、転倒防止台７、ガス導入管８からなる。
超音波発生装置は、アズワン（株）社製（型式：ＵＳ−Ｄ１００、２４ｋＨｚ、１１０Ｗ）を用いた。
また、Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の増感色素としての機能は、以下のように、セルを作成し後、光を照射しエネルギー変換効率を測定することにより調べた。
（セルの作成）
まず、ＴｉＯ２多孔層を担持したＦＴＯガラス（フッ素ドープ酸化スズ導電性ガラス）を、ルテニウム錯体の溶液（３×１０−４Ｍ）に、４０℃で３０分浸漬して、色素吸着ガラス電極を作成した。
この色素吸着ガラス電極の対極として、白金蒸着ＦＴＯガラス電極を用い、電解液をＩ−／Ｉ３−系の有機電解液（ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐｙｌ−ｉｍｉｄａｚｏｌｉｕｍ ｉｏｄｉｄｅ ０．６Ｍ，ＬｉＩ ０．１Ｍ，Ｉ２ ０．０５Ｍ，ｔ−ｂｕｔｈｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ ０．５Ｍからなるｍｅｔｈｏｘｙａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ溶液）として、セルを作成した。なお、電極間は、熱融着式のポリエチレン系スペーサー（厚さ５０μｍ）で隔離した。
（エネルギー変換効率の測定）
色素吸着ガラス電極側のセル表面に、受光面積分０．６４ｃｍ２を切り抜いたマスクを装着し、キセノン灯光源（ソーラーシミュレータ：イーグルエンジニアリング（株）社製、型式：ＰＣ−Ｌ１０）を用いて１ｓｕｎ（ＡＭ １．５Ｇの擬似太陽光１００ｍｗ／ｃｍ２）の照度下で、Ｉ−Ｖ特性を計測して、エネルギー変換効率を測定した。Ｉ−Ｖ特性測定装置としては、ソースメーター（ＫＥＩＴＨＬＥＹ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ，Ｉｎｃ．社製、モデル２４００シリーズ）を用いた。
また、エネルギー変換効率η（％）は、下記式で表される。
η＝（（Ｊｓｃ・Ｖｏｃ・ＦＦ）／入射光）・１００
Ｊｓｃ：短絡光電流密度
Ｖｏｃ：開回路起電力
ＦＦ：フィルファクター、抵抗因子
＜実施例Ａ１＞
実施例Ａ１として［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏ（Ｒｕはルテニウム原子を、Ｌは２，２’−ビピリジン−４，４’−ジカルボン酸を示す）合成の手順を示す。
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中に３価に調整した塩化ルテニウム３水和物を３０ｇ／Ｌ及び２，２’−ビピリジン−４，４−ジカルボン酸を６０ｇ／Ｌとなるよう配合し、図４に示す装置を用いアルゴンガスバブリング中にてマイクロ波を１０分間照射した。反応終了後、放冷し、濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを留去してからアセトンを添加し結晶を析出させた。この結晶を再度Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解した後、０．１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液を加え、更に塩化ルテニウム３水和物に対して十分に過剰なチオシアン酸ナトリウムの飽和水溶液を加えて、アルゴンガスバブリング中にてマイクロ波を１５分間照射した。次いで、反応液を放冷し、反応生成物からＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを留去させた後に乾固させ純水に溶解させた。この溶液を１Ｎ−ＨＣｌ水溶液でｐＨ＝２前後に調整し沈殿物を得た。この沈殿物を濾別し、アセトンに溶解させた。上記のアセトン溶解溶液を濾過し、濾別後のアセトン溶解溶液中の溶媒を留去して得た結晶をジエチルエーテルで洗浄後、乾燥し［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］２Ｈ２Ｏを得た。
上記実施例１によって得た［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏの紫外可視吸収スペクトル測定結果を図５に、１Ｈ ＮＭＲ測定結果（Ｂｒｕｋｅｒ社製 ４００ＭＨｚで測定）を図６に示す。収率は、８９％であった。
＜実施例Ａ２＞
実施例Ａ２としてＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２の合成の手順を示す。
ジメチルスルホキシド中に塩化ルテニウムを２００ｇ／Ｌとなるよう溶解させ、図１に示す装置を用いアルゴンガスバブリング中にてマイクロ波を５分間照射した。反応終了後、放冷した。これを濾過し、アセトンにて洗浄し、乾燥させＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２の結晶を得た。
上記実施例２によって得たＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２の１Ｈ ＮＭＲ測定結果を図７に示す。収率は、９５％であった。
＜比較例Ａ１＞
比較例Ａ１として以下に従来法による［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏの合成の手順を示す。
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中に３価に調整した塩化ルテニウム３水和物を３ｇ／Ｌ及び２，２’−ビピリジン−４，４’−ジカルボン酸を６ｇ／Ｌとなるよう配合し、遮光したアルゴン雰囲気下にて還流しながら温度１１０〜１５０℃に保ち、５時間反応させた。反応終了後、放冷し、濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを留去してからアセトンを添加し結晶を析出させた。この結晶を再度Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解した後、遮光下で０．１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液を加え、更に塩化ルテニウム３水和物に対して十分に過剰なチオシアン酸ナトリウムの飽和水溶液を加えて、遮光したアルゴン雰囲気下にて還流しながら温度１１０〜１５０℃に保ち、６時間反応させた。次いで、反応液を放冷し、反応生成物からＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを留去させた後に乾固させ純水に溶解させた。この溶液を１Ｎ−ＨＣｌ水溶液でｐＨ＝２前後に調整し沈殿物を得た。この沈殿物を濾別し、メタノールに溶解させた。このメタノール溶解溶液を濾過し、別に準備したヒドロキシプロピル基導入架橋デキストランを充填剤とするカラムに上記のメタノール溶解溶液を通して不純物を分離し、メタノールを留去して得た結晶をジエチルエーテルで洗浄後、乾燥し［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏを得た。
上記比較例１によって得た［ＲｕＬ２（ＮＣＳ）２］・２Ｈ２Ｏの紫外可視吸収スペクトル測定結果を図８に、１Ｈ ＮＭＲ測定結果を図９に示す。収率は、４５％であった。
＜比較例Ａ２＞
比較例Ａ２として以下に従来法によるＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２の合成の手順を示す。
ＤＭＳＯ中に塩化ルテニウムを１００ｇ／Ｌとなるよう溶解させ、マントルヒーターを用いアルゴンガスバブリング中にて、１５０℃、３０分間の撹拌過熱を行った。反応終了後、放冷した。これを濾過し、アセトンにて洗浄し、乾燥させＲｕ（ＤＭＳＯ）４Ｃｌ２の結晶を得た。収率は、６１％であった。
表１に本発明による合成法を用いた合成と、従来法による合成における総反応時間、使用薬品量および収率を示す。
表１より、実施例Ａ１及びＡ２の方が、比較例Ａ１及びＡ２より、溶媒使用量が極端に少なく、また収率が高いことが分かる。
＜実施例Ｂ１＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２の合成
処理工程：マイクロ波合成＋エージング＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波及びエージングによる合成反応
２００ｍｌナス型フラスコに塩化ルテニウム１０ｇとｄｃｂｐｙ ２０ｇおよびＤＭＦ １００ｍｌを入れミクロスパーテルで少し撹拌した。フラスコをマイクロ波発生装置に設置し、フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った。）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を６０分照射した。
この時マイクロ波を連続照射させていると反応溶媒の沸点（１３５℃）を超え、反応液が沸騰し容器から噴きこぼれる可能性があるため、沸騰したらマイクロ波照射をやめ、液温が下がるのを待ち、再び照射を行うようにした。上記のマイクロ波照射時間６０分は、反応液にマイクロ波を照射した時間である。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っているフラスコをマントルヒーターに設置した（還流管も付けて）。マントルヒータの温度を１３５℃に設定し２時間加熱を行った（エージング）。
エージング終了後、沈殿物を含む反応液を５００ｍｌビーカーへ移しＤＭＦ ２００ｍｌおよび濃塩酸１ｍｌを添加し沈殿物をすべて溶解させた。そして、溶解液をＮｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。残渣は１Ｈ ＮＭＲの測定結果から未反応のｄｃｂｐｙであることが確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ）δ：８．４０（ｄ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ）
濾液を１Ｌナス型フラスコへ移しエバポレーターに設置し、反応溶媒を留去した（留去温度は７０℃）。
（２）有機溶媒処理（未反応ＲｕＣｌ３を取り除く工程）
溶媒留去後に得られた沈殿物を１０％含水アセトン１Ｌに溶解した。よく撹拌し、撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。
残渣を、ジエチルエーテルで洗浄しデシケーターへ移し真空乾燥を２時間行った。１Ｈ ＮＭＲの測定結果からＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２であることが確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ）δ：９．１０（ｄ，１Ｈ），８．５５（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｓ，１Ｈ），７．８０（ｄ，１Ｈ），７．３７（ｄ，１Ｈ），７．００（ｄ，１Ｈ）
収量：２４．５ｇ
収率：９０％
未反応ｄｃｂｐｙ：１．５ｇ（７．５％）
下記の実施例Ｃ１〜Ｃ７は、Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成の実施例である。
＜実施例Ｃ１＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：マイクロ波合成＋再沈殿＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波を用いた合成反応
２００ｍｌナス型フラスコに塩化ルテニウム１ｇとｄｃｂｐｙ ２ｇおよびＤＭＦ １００ｍｌを入れた。フラスコをマイクロ波発生装置に設置し、フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を１５分照射した。
次に、反応液に、ＤＭＦ １０ｍｌに分散させたＮａＳＣＮ ５．６ｇを加えた。そして、再びアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った。）
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を１５分照射した。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っているフラスコをエバポレーターに設置し、反応溶媒のＤＭＦを留去した（留去温度は７０℃）。
（２）再沈殿処理
ＤＭＦを留去した後、１Ｍ−ＮａＯＨａｑ ２０ｍｌを加えて結晶を溶解させた。
そして、溶解液を、Ｎｏ５ｃの濾紙を用いて濾過した。
濾液に、純水を加え全体を５００ｍｌに薄めた。撹拌子を液中に入れスターラーで撹拌しながら、ｐＨメーターを液中に浸漬した。滴下ロートを用い液中に１Ｍ−ＨＣｌａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝４付近から液中に沈殿物が生成した。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。このとき、最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。
撹拌終了後、円心沈殿機を用い生成物を沈降させた。デカンテーションし、沈殿物を容器から取り出し、吸引濾過器で脱水した。得られた結晶を、ヌッチェ上で純水を用い１回洗浄した。
（３）有機溶媒処理
次に、得られた沈殿物（残渣）に、１０％含水アセトン５００ｍｌを加えよく撹拌し溶解した。撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。濾紙上の残渣を１Ｈ ＮＭＲで分析したところｄｃｐｂｙと確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ）δ：８．４０（ｄ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ）
濾液は、１Ｌナス型フラスコに入れエバポレーターで溶媒を留去した（留去温度６０℃）。
溶媒留去後、結晶をジエチルエーテルに分散させた後、吸引濾過した。
濾別したら、残渣を直ちにデシケーターに移し真空乾燥を２時間行い目的のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：１．９１ｇ
収率：６７％
未反応ｄｃｂｐｙ：０．４ｇ（２０％）
＜実施例Ｃ２＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：マイクロ波合成＋再沈殿＋機能向上処理＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波を用いた合成反応
２００ｍｌナス型フラスコに塩化ルテニウム１ｇとｄｃｂｐｙ ２ｇおよびＤＭＦ １００ｍｌを入れた。フラスコをマイクロ波発生装置に設置し、フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った。）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を１５分照射した。
次に、反応液に、ＤＭＦ １０ｍｌに分散させたＮａＳＣＮ ５．６ｇを加えた。そして、再びアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った。）
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を１５分照射した。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っているフラスコをエバポレーターに設置し、反応溶媒のＤＭＦを留去した（留去温度は７０℃）。
（２）再沈殿処理
ＤＭＦを留去した後、１Ｍ−ＮａＯＨａｑ ２０ｍｌを加えて結晶を溶解させた。そして、溶解液を、Ｎｏ５ｃの濾紙を用いて濾過した。
濾液に、純水を加え全体を５００ｍｌに薄めた。撹拌子を液中に入れスターラーで撹拌しながら、ｐＨメーターを液中に浸漬した。滴下ロートを用い液中に１Ｍ−ＨＣｌａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝４付近から液中に沈殿物が生成した。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。このとき、最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。
反応終了後、円心沈殿機を用い生成物を沈降させた。デカンテーションし、沈殿物を容器から取り出した。
（３）機能向上処理
得られた沈殿物を純水５００ｍｌに超音波を用い分散させた。ｐＨメーターを液中に浸漬した。この時の分散液はｐＨ＝３．５であった。撹拌しながら滴下ロートを用い１Ｍ−ＨＣｌａｑをゆっくり滴下しｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。
最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。
溶液がほぼ無色透明になったら円心沈殿機を用い洗浄液と沈殿物を分離させ、上澄み液をデカンテーションで取り除いた。
この機能向上処理を３回繰り返した。３回目の機能向上処理で得られた沈殿物の分離は、円心沈殿機を用いず静置して沈殿物を沈降させた。そして、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。濾別後、２時間その状態で風乾した。
（４）有機溶媒処理
得られた沈殿物（残渣）に１０％含水アセトン５００ｍｌを加えた。よく撹拌した後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。この時、濾紙上の残渣を１Ｈ ＮＭＲで分析したところｄｃｐｂｙと確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ）δ：８．４０（ｄ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ）
濾液を、１Ｌナス型フラスコに入れ、エバポレーターに設置し、溶媒を留去した（留去温度６０℃）。
溶媒留去後、フラスコ内の結晶を、ミクロスパーテルで掻き出し、５０ｍｌビーカーへ入れた。そこへジエチルエーテル２０ｍｌを加え超音波で分散させた。その後撹拌子を入れスターラーで１時間撹拌した。
撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。濾別したら直ちにデシケーターに移し真空乾燥を２時間行い、目的のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：１．８５ｇ
収率：６５％
未反応ｄｃｂｐｙ：０．４ｇ（２０％）
＜実施例Ｃ３＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：マイクロ波合成＋再沈殿＋機能向上処理＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波を用いた合成反応
２００ｍｌナス型フラスコに塩化ルテニウム５ｇとｄｃｂｐｙ １０ｇおよびＤＭＦ １００ｍｌを入れミクロスパーテルで少し撹拌した。フラスコをマイクロ波発生装置に設置し、フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った。）
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を３０分照射した。
この時、マイクロ波を連続照射させていると反応溶媒の沸点（１３５℃）を超え、反応液が沸騰し容器から噴きこぼれる可能性があるため、沸騰したらマイクロ波照射をやめ、液温が下がるのを待ち、再び照射を行うようにした。上記マイクロ波照射時間の３０分は、反応液にマイクロ波を照射した時間である。
次に、反応液に、ＤＭＦ ５０ｍｌに分散させたＮａＳＣＮ ２８ｇを加えた。そして、再びアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った。）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を３０分照射した。この時も上記と同様にマイクロ波を連続照射させていると反応溶媒の沸点（１３５℃）を超え、反応液が沸騰し容器から噴きこぼれる可能性があるため、沸騰したらマイクロ波照射をやめ、液温が下がるのを待ち、再び照射を行うようにした。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っている２００ｍｌナス型フラスコをエバポレーターに設置し、反応溶媒を留去した（留去温度は７０℃）。
（２）再沈殿処理
溶媒を留去した後、１Ｍ−ＮａＯＨａｑ １００ｍｌを用いて得られた結晶を溶解した。そして、溶解液を、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用いて濾過した。
濾液に純水を加え全体を１Ｌに薄めた。撹拌子を液中に入れスターラーで撹拌しながら、ｐＨメーターを液中に浸漬した。滴下ロートを用い液中に１Ｍ−ＨＣｌａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ＰＨ＝４付近から液中に沈殿物が生成した。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。このとき、最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。
反応終了後、円心沈殿機を用い生成物を沈降させた。デカンテーションして、沈殿物を取り出した。
（３）機能向上処理
得られた沈殿物を、純水１Ｌに超音波を用い分散させた。ｐＨメーターを液中に浸漬した。この時の分散液は、ｐＨ＝３．５付近であった。撹拌しながら、滴下ロートを用い１Ｍ−ＨＣｌａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。このとき、最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。溶液がほぼ無色透明になったら、円心沈殿機を用い上澄み液と沈殿物を分離させた。上澄み液はデカンテーションで取り除いた。
この機能向上処理を３回繰り返した。３回目の洗浄工程の沈殿物の分離は、円心沈殿機を用いず、静置して沈殿物を沈降させた。Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別し、残渣を２時間その状態で風乾した。
（４）有機溶媒処理
得られた沈殿物（残渣）を１０％含水アセトン１Ｌに溶解させた。溶解液を、よく撹拌し、撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。この時、残渣を１Ｈ ＮＭＲで分析したところｄｃｐｂｙと確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ）δ：８．４０（ｄ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ）
濾液を、２Ｌナス型フラスコに入れエバポレーターに設置し溶媒を留去した。（留去温度６０℃）。
溶媒留去後、２Ｌナス型フラスコ内の結晶をミクロスパーテルで掻き出し、２００ｍｌビーカーへ入れた。そこへジエチルエーテル１００ｍｌを加え超音波で分散させた。その後、撹拌子を入れスターラーで１時間撹拌した。
撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。濾別したら直ちにデシケーターに移し真空乾燥を２時間行い、目的のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：１１．６１ｇ
収率：８１％
未反応ｄｃｂｐｙ：１．７ｇ（１７％）
＜実施例Ｃ４＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：マイクロ波合成＋エージング＋機能向上処理＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波及びエージングによる合成反応
２００ｍｌナス型フラスコに塩化ルテニウム１ｇとｄｃｂｐｙ ２ｇおよびＤＭＦ １００ｍｌを入れミクロスパーテルで少し撹拌した。フラスコを、マイクロ波発生装置に設置し、フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を１５分照射した。
次に、反応液に、ＤＭＦ １０ｍｌに分散させたＮａＳＣＮ ５．６ｇを加えた。そして、再びアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を１５分照射した。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っているフラスコをマントルヒーターに設置した。マントルヒータの温度を１３５℃に設定し２時間保持した（エージング）。
マントルヒーターでの加熱終了後、反応液が入ったフラスコをエバポレーターに設置し、反応溶媒を留去した（留去温度は７０℃）。
（２）機能向上処理
溶媒を留去した後、得られた結晶を純水５００ｍｌに分散させた。
分散液に撹拌子を入れスターラーで撹拌しながら、ｐＨメーターを液中に浸漬した。滴下ロートを用い、液中に２０％−ＣＦ３ＣＯＯＨａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝４付近から液中に沈殿物が生成した。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。このとき、最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。
撹拌終了後、円心沈殿機を用い生成物を沈降させた。分離した上澄み液はデカンテーションして取り除いた。
得られた沈殿物を、純水５００ｍｌに超音波を用い分散させた。ｐＨメーターを液中に浸漬した。この時の分散液はｐＨ＝３．５付近であった。撹拌しながら滴下ロートを用い、２０％−ＣＦ３ＣＯＯＨａｑをゆっくり滴下しｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。溶液がほぼ無色透明になったら円心沈殿機を用い、溶媒と沈殿物を分離させた。上澄み液はデカンテーションで取り除いた。この工程を３回繰り返した。
３回目のデカンテーション後、沈殿物は吸引濾過により脱水した。濾別後２時間その状態で風乾した。
（３）有機溶媒処理
得られた沈殿物を１０％含水アセトン５００ｍｌに溶解させた。よく撹拌し、撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。この時の残渣を１Ｈ ＮＭＲで分析したところｄｃｐｂｙと確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ）δ：８．４０（ｄ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ）
濾液を、１Ｌナス型フラスコに入れエバポレーターに設置し、溶媒を留去した。（留去温度６０℃）。
溶媒留去後、１Ｌナス型フラスコ内の結晶をミクロスパーテルで掻き出し、１００ｍｌビーカーへ入れた。そこへジエチルエーテル５０ｍｌを加え超音波で分散させた。その後撹拌子を入れスターラーで１時間撹拌した。
撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別し、残渣を直ちにデシケーターに移し真空乾燥を２時間行い、目的のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：２．５ｇ
収率：８８％
未反応ｄｃｂｐｙ：０．２ｇ（１０％）
＜実施例Ｃ５＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：マイクロ波合成＋エージング＋機能向上処理＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波及びエージングによる合成反応
２Ｌ丸底フラスコに塩化ルテニウム１００ｇとｄｃｂｐｙ ２００ｇおよびＤＭＦ １Ｌを入れミクロスパーテルで少し撹拌した。フラスコをマイクロ波発生装置に設置し、フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（１５分間アルゴンガスバブリングを行った）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、反応液の温度を１３５℃に維持しながら、マイクロ波（出力１００〜５００Ｗ）を６時間照射した。
次に、反応液に、ＤＭＦ ５００ｍｌに分散させたＮａＳＣＮ ５６０ｇを加えた。そして、再びアルゴンガスを充填させた（１５分間アルゴンガスバブリングを行った。）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力１００〜５００Ｗ）を６時間照射した。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っているフラスコをマントルヒーターに設置した（還流管も付けて）。マントルヒータの温度を１３５℃に設定し６時間加熱を行った（エージング）。
マントルヒーターでの加熱終了後、反応液が入ったフラスコをエバポレーターに設置し、反応溶媒を留去した（留去温度は７０℃）。
（２）機能向上処理
溶媒を留去した後、純水５Ｌを用いて、得られた結晶を分散させた。
分散液に撹拌子を入れ、スターラーで撹拌しながらｐＨメーターを液中に浸漬した。滴下ロートを用い液中に２０％−ＣＦ３ＣＯＯＨａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝４付近から液中に沈殿物が生成した。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を４時間行った。このとき、最初の２時間は高回転で撹拌を行い、後半の２時間は低回転で撹拌を行った。
撹拌終了後、円心沈殿機を用い生成物を沈降させた。分離した上澄み液はデカンテーションし取り除いた。
得られた沈殿物を純水５Ｌに超音波を用い分散させた。ｐＨメーターを液中に浸漬した。この時の分散液はｐＨ＝３．５付近であった。撹拌しながら滴下ロートを用い２０％−ＣＦ３ＣＯＯＨａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を４時間行った。このとき、最初の２時間は高回転で撹拌を行い、後半の２時間は低回転で撹拌を行った。溶液がほぼ無色透明になったら円心沈殿機を用い洗浄液と沈殿物を分離させた。上澄みの洗浄液はデカンテーションで取り除いた。この工程を３回繰り返した。
３回目のデカンテーション後、沈殿物は吸引濾過により脱水させた。濾別後２時間その状態で風乾した。
（３）有機溶媒処理
得られた沈殿物（残渣）を１０％含水アセトン５Ｌで溶解した。よく撹拌し、撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。この時の残渣を１Ｈ ＮＭＲで分析したところｄｃｐｂｙと確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ δ：８．４０（ｄ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ）
濾液を、１０Ｌナス型フラスコに入れエバポレーターに設置し、溶媒を留去した（留去温度６０℃）。
溶媒留去後、フラスコ内の結晶をミクロスパーテルで掻き出し、１Ｌビーカーへ入れた。そこへジエチルエーテル５００ｍｌを加え超音波で分散させた。その後撹拌子を入れスターラーで２時間撹拌した。
撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別し、残渣を直ちにデシケーターに移し真空乾燥を４時間行い目的のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：２６３ｇ
収率：９２％
未反応ｄｃｂｐｙ：１４ｇ（７％）
＜実施例Ｃ６＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：マイクロ波合成＋エージング＋機能向上処理＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波及びエージングによる合成反応
２００ｍｌナス型フラスコに実施例Ｂ１で得られたＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２ ２４．５ｇとＮａＳＣＮ ５０ｇおよび１５０ｍｌのＤＭＦを入れた。フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（５分間アルゴンガスバブリングを行った）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力５００Ｗ）を３０分照射した。
このとき、マイクロ波を連続照射させていると反応溶媒の沸点（１３５℃）を超え、反応液が沸騰し容器から噴きこぼれる可能性があるため、沸騰したらマイクロ波照射をやめ、液温が下がるのを待ち、再び照射を行うようにした。上記マイクロ波照射時間３０分は、反応液にマイクロ波を照射した時間である。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っている２００ｍｌナス型フラスコをマントルヒーターに設置した（還流管も付けて）。マントルヒータの温度を１３５℃に設定し２時間加熱を行った（エージング）。
マントルヒーターでの加熱終了後、反応液が入った２００ｍｌナス型フラスコをエバポレーターに設置し、反応溶媒を留去した（留去温度は７０℃）。
（２）機能向上処理
溶媒を留去した後、純水１Ｌを用いて、得られた結晶を分散させた。
分散液に撹拌子を入れスターラーで撹拌しながら、ｐＨメーターを液中に浸漬した。滴下ロートを用い液中に１０倍に希釈した濃硝酸をゆっくり滴下しｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝４付近から液中に沈殿物が生成した。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。このとき、最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行うようにした。
撹拌終了後、円心沈殿機を用い生成物を沈降させた。分離した上澄み液はデカンテーションし取り除いた。
得られた沈殿物を、純水１Ｌに超音波を用いて分散させた。ｐＨメーターを液中に浸漬した。この時の分散液はｐＨ＝３．５であった。滴下ロートを用い１０倍に希釈した濃硝酸をゆっくり滴下しｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を２時間行った。最初の１時間は高回転で撹拌を行い、後半の１時間は低回転で撹拌を行った。溶液がほぼ無色透明になったら円心沈殿機を用い洗浄液と沈殿物を分離させた。上澄みの洗浄液はデカンテーションで取り除いた。この洗浄工程を３回繰り返した。
３回目のデカンテーション終了後、沈殿物は吸引濾過を用い脱水させた。濾別後、２時間その状態で風乾した。
（３）有機溶媒処理
得られた沈殿物を１０％含水メタノール１Ｌで溶解した。よく撹拌し、撹拌終了後、Ｎｏ．５ｃの濾紙を用い濾別した。
濾液は２Ｌナス型フラスコに入れエバポレーターに設置し、溶媒を留去した。（留去温度６０℃）。
溶媒留去後、フラスコ内の結晶をミクロスパーテルで掻き出し、２００ｍｌビーカーへ入れた。そこへジエチルエーテル１００ｍｌを加え、超音波で分散させた。その後スターラーで１時間撹拌した。
撹拌終了後、Ｎｏ５ｃの濾紙を用い濾別し、残渣を直ちにデシケーターに移し真空乾燥を２時間行い、目的のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：２４ｇ
収率：８５％
＜実施例Ｃ７＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成（配位子化合物を再利用）
処理工程：マイクロ波合成＋エージング＋機能向上処理＋有機溶剤処理
（１）マイクロ波及びエージングによる合成反応
２Ｌ丸底フラスコに塩化ルテニウム１００ｇとｄｃｂｐｙ ２００ｇ（そのうち１４ｇは実施例Ｃ５で回収した配位子）およびＤＭＦ １Ｌを入れミクロスパーテルで少し撹拌した。フラスコをマイクロ波発生装置に設置し、フラスコ内にアルゴンガスを充填させた（１５分間アルゴンガスバブリングを行った。）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、反応液の温度を１３５℃に維持しながら、マイクロ波（出力１００〜５００Ｗ）を６時間照射した。
反応液にＤＭＦ ５００ｍｌに分散させたＮａＳＣＮ ５６０ｇを加えた。そして、再びアルゴンガスを充填させた（１５分間アルゴンガスバブリングを行った。）。
アルゴンガスバブリングを継続させながら、マイクロ波（出力１００〜５００Ｗ）を６時間照射した。
マイクロ波照射終了後、反応液が入っているフラスコをマントルヒーターに設置した（還流管も付けて）。マントルヒータの温度を１３５℃に設定し６時間加熱を行った（エージング）。
マントルヒーターでの加熱終了後、反応液が入ったフラスコをエバポレーターに設置し、反応溶媒を留去した（留去温度は７０℃）。
（２）機能向上処理
溶媒を留去した後、純水５Ｌを用いて、得られた結晶を分散させた。
分散液に撹拌子を入れ、スターラーで撹拌しながらｐＨメーターを液中に浸漬した。滴下ロートを用い液中に２０％−ＣＦ３ＣＯＯＨａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝４付近から液中に沈殿物が生成した。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を４時間行った。このとき、最初の２時間は高回転で撹拌を行い、後半の２時間は低回転で撹拌を行った。
撹拌終了後、円心沈殿機を用い生成物を沈降させた。分離した上澄み液はデカンテーションし取り除いた。
得られた沈殿物を純水５Ｌに超音波を用い分散させた。ｐＨメーターを液中に浸漬した。この時の分散液はｐＨ＝３．５付近であった。撹拌しながら滴下ロートを用い２０％−ＣＦ３ＣＯＯＨａｑをゆっくり滴下し、ｐＨ＝２まで下げた。ｐＨ＝２まで下げたら、ｐＨメーターを液中から取り出し、そのまま撹拌を４時間行った。このとき、最初の２時間は高回転で撹拌を行い、後半の２時間は低回転で撹拌を行った。溶液がほぼ無色透明になったら円心沈殿機を用い洗浄液と沈殿物を分離させた。上澄みの洗浄液はデカンテーションで取り除いた。この工程を３回繰り返した。
３回目のデカンテーション後、沈殿物は吸引濾過により脱水させた。濾別後２時間その状態で風乾した。
（３）有機溶媒処理
得られた沈殿物（残渣）を１０％含水アセトン５Ｌで溶解した。よく撹拌し、撹拌終了後、Ｎｏ５ｃの濾紙を用い濾別した。この時の残渣を１Ｈ ＮＭＲで分析したところｄｃｐｂｙと確認された。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ／ＮａＯＤ）δ：８．４０（ｄ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，１Ｈ）
濾液を、１０Ｌナス型フラスコに入れエバポレーターに設置し、溶媒を留去した（留去温度６０℃）。
溶媒留去後、フラスコ内の結晶をミクロスパーテルで掻き出し、１Ｌビーカーへ入れた。そこへジエチルエーテル５００ｍｌを加え超音波で分散させた。その後撹拌子を入れスターラーで２時間撹拌した。
撹拌終了後、Ｎｏ５ｃの濾紙を用い濾別し、残渣を直ちにデシケーターに移し真空乾燥を４時間行い目的のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：２６３ｇ
収率：９２％
未反応ｄｃｂｐｙ：１４ｇ（７％）
＜比較例Ｃ１＞ Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：熱伝導加熱合成＋再沈殿処理
（１）熱伝導加熱反応よる合成
２００ｍｌナス型フラスコにＤＭＦ １００ｍｌ、塩化ルテニウム３００ｍｇ及びｄｃｂｐｙ ５７０ｍｇを入れ遮光したアルゴン雰囲気のもとで温度を１３５℃に保ち５時間反応させた。反応終了後、放冷しＤＭＦを留去してからアセトンを添加して結晶を析出させた。この結晶をろ別し、アセトン洗浄を行なった後、常温で減圧蒸留してＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２を得た。
（２）再沈殿処理
得られたＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２を２００ｍｌナス型フラスコに入れＤＭＦ １００ｍｌに溶解した後、０．１Ｎ−ＮａＯＨａｑ １０ｍｌに溶解したＮａＳＣＮ １．７ｇを加え、遮光下で１３５℃に保ちながらアルゴン雰囲気下で６時間還流しながら加熱反応させた。反応終了後、室温まで冷却しＤＭＦを留去し、乾固させた。そして、ジエチルエーテルで洗浄後、常温で真空乾燥させ、Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。図１０に１Ｈ ＮＭＲ測定結果を示す。
収量：０．４ｇ
収率：５５％
＜比較例Ｃ２＞Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２の合成
処理工程：熱伝導加熱＋再沈殿処理＋カラムによる精製
（１）熱伝導加熱反応による合成
２００ｍｌナス型フラスコＤＭＦ １００ｍｌ、塩化ルテニウム３００ｍｇ及びｄｃｂｐｙ ５７０ｍｇを入れ遮光したアルゴン雰囲気のもとで温度を１３５℃に保ち５時間反応させた。反応終了後、放冷しＤＭＦを留去してからアセトンを添加して結晶を析出させた。この結晶をろ別しアセトン洗浄を行なった後、常温で減圧蒸留してＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２を得た。
（２）再沈殿処理
得られたＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２Ｃｌ２を、２００ｍｌナス型フラスコに入れ、ＤＭＦ １００ｍｌに溶解した後、０．１Ｎ−ＮａＯＨａｑ １０ｍｌに溶解したＮａＳＣＮ １．７ｇを加え、遮光下で、１３５℃に保ちながら、アルゴン雰囲気下で６時間還流しながら加熱反応させた。反応終了後、室温まで冷却しＤＭＦを留去し乾固させＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
（３）カラム分離による精製
得られたＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２をメタノールに溶解し、ろ過した。ろ液を、別に準備した「トヨパール−ＨＷ５５Ｆ・東ソー（株）製」を充填したカラムに通して、バンドの色が濃い紫色部分を採取することにより、不純物を分離した。メタノールを留去して得た結晶を、ジエチルエーテルで洗浄し、Ｒｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：９．４５（ｄ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），９．０２（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）
収量：０．３ｇ
収率：４５％
なお、比較例Ｃ２については、同様の条件、操作で複数回行った。その結果、ＮＭＲ測定，ＵＶ測定，ルテニウム含量，収量及び収率の値は安定していたが、変換効率は、３〜６％の幅があり、ばらつきがあった。エネルギー変換効率が６％であったものを比較例Ｃ２’とする。
＜参考例１＞
ソーラニクス社製のＲｕ（ｄｃｂｐｙ）２（ＮＣＳ）２について、上記の変換効率の測定方法と同様の方法でエネルギー変換効率を測定した。
上記、実施例及び比較例における収率を下記表２にまとめた。
上記、実施例、比較例及び参考例におけるエネルギー変換効率を下記表３にまとめた。
表２及び表３から、従来の熱伝導による加熱合成（比較例Ｃ１及びＣ２）に比べ、本発明を適用した実施例Ｃ１〜Ｃ７の方が、収率が高くまた増感色素としても優れていることが分かる。
また、多くの時間と多量の溶媒が必要なカラム分離（比較例Ｃ２）と比べても、本発明を適用した実施例Ｃ１〜Ｃ７の方が、収率が高い。また、機能向上処理を行うことで、増感色素として優れたルテニウム錯体が合成されることが分かる。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ルテニウムを中心金属とする金属錯体の合成方法であって、
原料物質と溶媒とからなる反応液に、マイクロ波を照射する
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項２】
金属錯体の合成方法であって、
原料物質と溶媒とからなる反応液に、マイクロ波を照射後エージング処理を行うことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項３】
請求項１または２において、さらに、
合成目的の金属錯体が溶解した溶液に、酸を添加し、析出した析出物を当該溶液から取り出す工程を有する
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項４】
請求項１または２において、さらに、
合成目的の金属錯体と未反応の原料とを含む混合物を、有機溶媒に添加して、得られた溶液から、溶解していない物質を取り除く工程を有する
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項５】
請求項１または２において、さらに、
合成目的の金属錯体と未反応の原料とを含む混合物を、含水量２０重量％以下の含水プロトン性有機溶媒に添加して、得られた溶液から、溶解していない物質を取り除く工程を有する
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項６】
請求項１または２において、さらに、
合成目的の金属錯体が溶解した溶液に、酸を添加し、析出した析出物を当該溶液から取り出す工程と、
取り出した析出物を、有機溶媒に添加して、得られた溶液から溶解していない物質を取り除く工程とを有する
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項７】
請求項４において、
取り除いた物質を、原料物質として再利用する
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項８】
請求項１又は２において、
前記溶媒は、沸点が９０〜２００℃の範囲である
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項９】
請求項１又は２において、
前記マイクロ波の照射は、照射出力に照射時間を乗じた値が、反応液１００ｍｌに対して、４０〜１０００Ｗｈの範囲となるように行われることを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項１０】
請求項２において、
前記エージング処理は、前記反応液を９０〜２００℃の温度範囲に保持することにより行う
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項１１】
光化学電池の増感色素として使用される金属錯体の処理方法であって、
前記金属錯体を、超音波により純水に分散させ後、酸を添加し析出させる工程を行うことを特徴とする金属錯体の処理方法。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記工程を、純水に分散させたときの溶液の着色が実質的になくなるまで複数回繰り返して行うことを特徴とする金属錯体の処理方法。
【請求項１３】
請求項１又は２において、
前記金属錯体は、
一般式（１）
ＲｕＬａＬ’ｂ （１）
（上記一般式（１）においてＲｕはルテニウム原子を表し、Ｌ及びＬ’は配位子を表す。ａは２〜４の整数を表し、ｂは０又は１〜４の整数を表し、ａ＋ｂは６以下である。）で表される金属錯体である
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項１４】
請求項１または２において、
前記金属錯体は、
一般式（２）あるいは（３）
ＲｕＬ２Ｌ’２ （２）
ＲｕＬ３ （３）
（上記一般式（２）および（３）においてＲｕはルテニウム原子を表し、Ｌはビピリジン系配位子を表し、Ｌ’はＬ以外の配位子を表す。また、前記ビピリジン系配位子とは、２，２’−ビピリジンまたは２，２’−ビピリジンの誘導体である。）で表される金属錯体である
ことを特徴とする金属錯体合成方法。
【請求項１５】
請求項１または２において、
前記金属錯体は、
一般式（４）
ＲｕＬ２（ＳＣＮ）２ （４）
（上記一般式（４）においてＲｕはルテニウム原子を表し、Ｌは２，２’−ビピリジン−４，４’−ジカルボン酸を表す。）で表される金属錯体である
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項１６】
請求項１または２において、
マイクロ波を照射する際、不活性ガス雰囲気及び遮光下にて行うことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項１】
ルテニウムを中心金属とする金属錯体の合成方法であって、
原料物質と溶媒とからなる反応液に、マイクロ波を照射する
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項２】
金属錯体の合成方法であって、
原料物質と溶媒とからなる反応液に、マイクロ波を照射後エージング処理を行うことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項３】
請求項１または２において、さらに、
合成目的の金属錯体が溶解した溶液に、酸を添加し、析出した析出物を当該溶液から取り出す工程を有する
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項４】
請求項１または２において、さらに、
合成目的の金属錯体と未反応の原料とを含む混合物を、有機溶媒に添加して、得られた溶液から、溶解していない物質を取り除く工程を有する
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項５】
請求項１または２において、さらに、
合成目的の金属錯体と未反応の原料とを含む混合物を、含水量２０重量％以下の含水プロトン性有機溶媒に添加して、得られた溶液から、溶解していない物質を取り除く工程を有する
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項６】
請求項１または２において、さらに、
合成目的の金属錯体が溶解した溶液に、酸を添加し、析出した析出物を当該溶液から取り出す工程と、
取り出した析出物を、有機溶媒に添加して、得られた溶液から溶解していない物質を取り除く工程とを有する
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項７】
請求項４において、
取り除いた物質を、原料物質として再利用する
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項８】
請求項１又は２において、
前記溶媒は、沸点が９０〜２００℃の範囲である
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項９】
請求項１又は２において、
前記マイクロ波の照射は、照射出力に照射時間を乗じた値が、反応液１００ｍｌに対して、４０〜１０００Ｗｈの範囲となるように行われることを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項１０】
請求項２において、
前記エージング処理は、前記反応液を９０〜２００℃の温度範囲に保持することにより行う
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項１１】
光化学電池の増感色素として使用される金属錯体の処理方法であって、
前記金属錯体を、超音波により純水に分散させ後、酸を添加し析出させる工程を行うことを特徴とする金属錯体の処理方法。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記工程を、純水に分散させたときの溶液の着色が実質的になくなるまで複数回繰り返して行うことを特徴とする金属錯体の処理方法。
【請求項１３】
請求項１又は２において、
前記金属錯体は、
一般式（１）
ＲｕＬａＬ’ｂ （１）
（上記一般式（１）においてＲｕはルテニウム原子を表し、Ｌ及びＬ’は配位子を表す。ａは２〜４の整数を表し、ｂは０又は１〜４の整数を表し、ａ＋ｂは６以下である。）で表される金属錯体である
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項１４】
請求項１または２において、
前記金属錯体は、
一般式（２）あるいは（３）
ＲｕＬ２Ｌ’２ （２）
ＲｕＬ３ （３）
（上記一般式（２）および（３）においてＲｕはルテニウム原子を表し、Ｌはビピリジン系配位子を表し、Ｌ’はＬ以外の配位子を表す。また、前記ビピリジン系配位子とは、２，２’−ビピリジンまたは２，２’−ビピリジンの誘導体である。）で表される金属錯体である
ことを特徴とする金属錯体合成方法。
【請求項１５】
請求項１または２において、
前記金属錯体は、
一般式（４）
ＲｕＬ２（ＳＣＮ）２ （４）
（上記一般式（４）においてＲｕはルテニウム原子を表し、Ｌは２，２’−ビピリジン−４，４’−ジカルボン酸を表す。）で表される金属錯体である
ことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【請求項１６】
請求項１または２において、
マイクロ波を照射する際、不活性ガス雰囲気及び遮光下にて行うことを特徴とする金属錯体の合成方法。
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０９９１２８
【国際公開日】平成１６年１１月１８日（２００４．１１．１８）
【発行日】平成１８年７月１３日（２００６．７．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−５０５９９７（Ｐ２００５−５０５９９７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００４／００６１３３
【国際出願日】平成１６年４月２８日（２００４．４．２８）
【出願人】（３９３０１７１８８）小島化学薬品株式会社 (13)
【Ｆターム（参考）】
【国際公開日】平成１６年１１月１８日（２００４．１１．１８）
【発行日】平成１８年７月１３日（２００６．７．１３）
【国際特許分類】
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００４／００６１３３
【国際出願日】平成１６年４月２８日（２００４．４．２８）
【出願人】（３９３０１７１８８）小島化学薬品株式会社 (13)
【Ｆターム（参考）】
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