２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物
【課題】銅表面の酸化防止剤、エポキシ樹脂の硬化剤あるいは医農薬中間体として有用な２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物の提供。
【解決手段】式(I)で示される２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物。
（式中、Ｘは水素原子または塩素原子を表す。）
【解決手段】式(I)で示される２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物。
（式中、Ｘは水素原子または塩素原子を表す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
本発明に類似のイミダゾール化合物として、例えば特許文献１には、２−（２，４−ジクロロフェニルメチル）−４，５−ジフェニルイミダゾールが開示されているが、本願発明の２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物の開示はない。
【０００３】
【特許文献１】特開平７−２４３０５４号公報（第５頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、新規な２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は、前記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、化１の化学式(I)で示される新規な２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物を合成し得ることを認め、本発明を完成するに至ったものである。
【０００６】
【化１】
（式中、Ｘは水素原子または塩素原子を表す。）
【発明の効果】
【０００７】
本発明の２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物は、金属、特に銅（銅合金を含む）の表面の酸化防止剤や、エポキシ樹脂の硬化剤または硬化促進剤として、また医農薬分野の中間原料としても有用なものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物は、化２の化学式(I)で示されるものであり、
２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール、
２−（２−クロロベンジル）−４，５−ジフェニルイミダゾール、
２−（３−クロロベンジル）−４，５−ジフェニルイミダゾールおよび
２−（４−クロロベンジル）−４，５−ジフェニルイミダゾールである。
【０００９】
【化２】
（式中、Ｘは水素原子または塩素原子を表す。）
【００１０】
本発明の２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾールは、公知の方法に準拠して合成することができる。即ち、化３の反応式に示されるように、２位ハロゲン化２−フェニルアセトフェノン化合物とアリールアセトアミジン化合物とを、脱ハロゲン化水素剤の存在下、有機溶媒中で加熱反応させることにより合成することができる。
【００１１】
【化３】
（但し、式中、Ｘは前記と同様であり、Ｘ１は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。）
【００１２】
前述の反応において、アリールアセトアミジン化合物の使用量は、２位ハロゲン化２−フェニルアセトフェノン化合物に対して、０．８〜１．５倍モルが好ましく、より好ましくは０．９〜１．１倍モルの割合とすればよい。脱ハロゲン化水素剤の使用量は、２位ハロゲン化２−フェニルアセトフェノン化合物に対して、１〜１０倍当量の割合が好ましい。
【００１３】
前記の２位ハロゲン化２−フェニルアセトフェノン化合物としては、２−クロロ−２−フェニルアセトフェノン、２−ブロモ−２−フェニルアセトフェノンおよび２−ヨード−２−フェニルアセトフェノンが挙げられる。
【００１４】
これらの２位ハロゲン化２−フェニルアセトフェノン化合物は、２−フェニルアセトフェノンの２位をハロゲン化することにより合成することができる。ハロゲン化としては、塩素化またはヨウ素化も可能であるが、２−フェニルアセトフェノン１モルに対し、１モルの臭素を反応させる臭素化反応が最も簡便である。なお、２−クロロ−２−フェニルアセトフェノンおよび２−ブロモ−２−フェニルアセトフェノンは試薬としても入手可能である。
【００１５】
前記のアリールアセトアミジン化合物は、公知の方法に準拠して合成することができる。例えば、化４の反応式に示されるように、ベンジルシアニド化合物を塩化水素ガスおよびエタノール等の低級アルコールと反応させ、アリールアセトイミデート塩酸塩に変換し、更にアンモニアと反応させることによって、アリールアセトアミジン塩酸塩を合成することができる。
【００１６】
【化４】
（但し、式中のＸは前記と同様である。）
【００１７】
アリールアセトアミジン化合物として、前記の反応で得られるアリールアセトアミジン塩酸塩を使用できるが、該塩酸塩とアルカリ等を反応させることにより塩酸を除いたフリーのアリールアセトアミジン化合物を使用できることは云うまでもない。
なお、前記のアリールアセトアミジン塩酸塩に限らず、フリーのアリールアセトアミジン化合物と、従来知られた無機酸または有機酸との塩も使用可能である。
【００１８】
前記の脱ハロゲン化水素剤は公知のものを制限なく使用できる。このような脱ハロゲン化水素剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような無機アルカリ類、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機塩基類、ナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのような金属アルコキシド化合物などが挙げられる。
【００１９】
前記の反応溶媒は、２位ハロゲン化２−フェニルアセトフェノン化合物とアリールアセトアミジン化合物またはその塩を溶解することができ、かつ反応に関与しないものであれば公知のものを制限なく使用できる。このような溶媒として、例えば、イソプロピルアルコール、ｔｅｒｔ−ブタノールなどのアルコール類、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類、クロロホルム、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリルなどのニトリル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）などのアミド類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）などが挙げられ、これらの溶媒を組み合わせて使用してもよい。
【００２０】
反応温度は室温〜還流温度が好ましく、反応時間は１〜１０時間が好ましい。反応は、通常大気圧下で行えばよい。
【００２１】
以上の反応条件下で生成した２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物は、通常の後処理によって単離することができる。
例えば、反応終了後の反応混合物を水層と有機溶媒層に分配し、有機溶媒層を水洗浄後、減圧下に濃縮することにより、粗製の当該化合物が析出し、さらに再結晶操作等により精製することができる。
【実施例】
【００２２】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、フェニルアセトアミジン塩酸塩の合成例を参考例１に示す。
【００２３】
〔参考例１〕
＜フェニルアセトアミジン塩酸塩の合成＞
フェニルアセトニトリル１１７．８ｇ（１．００６ｍｏｌ）及び脱水エタノール５５．８ｇ（１．２１ｍｏｌ）からなる溶液へ、冷却下、５〜１０℃にて、塩化水素ガス４４．６ｇ（１．２２ｍｏｌ）を４時間かけて吹き込んだ。該混合物を４℃にて１日間、さらに室温に戻して２日間放置すると、白色固体としてフェニルアセトイミド酸エチル塩酸塩が得られた。該塩酸塩を砕き、氷冷下に振とうしながら、アンモニア３５．６ｇ（２．０９ｍｏｌ）及び脱水エタノール２４６ｇからなる溶液を少しずつ加えた。加え終わった後、氷冷下にて２時間、さらに室温に戻して一晩撹拌し、白色固体の不溶物をろ去後、ろ液を減圧乾固して、淡黄色アメ状のフェニルアセトアミジン塩酸塩１７２．５ｇ（１．０１１ｍｏｌ、収率１００．５％）を得た。
【００２４】
〔実施例１〕
＜２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾールの合成＞
フェニルアセトアミジン塩酸塩５６．３ｇ（０．３３ｍｏｌ）、炭酸カリウム１１８ｇ（０．８６ｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１８０ｍｌからなる懸濁液を４５〜５０℃にて３０分撹拌後、同温度にて、２−ブロモ−２−フェニルアセトフェノン９０．８ｇ（０．３３ｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌからなる溶液を１時間かけて滴下し、さらに６０℃にて５時間撹拌した。反応懸濁液を冷却後、水１２００ｍｌ及びトルエン２５０ｍｌに分配し、トルエン層を水で洗浄した後、減圧下に濃縮すると結晶が析出した。該結晶をろ取し、トルエンで洗浄した後、乾燥して、乳白色粉末状の粗製物５２ｇが得られた。該粗製物をエタノールより再結晶して、乳白色の結晶３８．４ｇ（０．１２４ｍｏｌ、収率３７．５％）を得た。
【００２５】
得られた結晶の融点、薄層クロマトグラフィーのＲｆ値、１Ｈ−ＮＭＲ及びマススペクトルデータは、以下のとおりであった。
・mp. 245−248℃
・TLC (シリカゲル，アセトン) ： Rf = 0.74
・1H-NMR
(d6-DMSO) δ： 4.03(s, 2H), 7.16−7.50(m, 15H)
・MS m/z(%) ： 310(M+, 100),
231(3), 178(2), 165(13), 154(2), 116(2), 103(5), 91(4), 77(3).
これらのスペクトルデータから、得られた化合物は、化５で示される２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾールであるものと同定した。
【００２６】
【化５】
【００２７】
〔実施例２〕
＜２−（２−クロロベンジル）−４，５−ジフェニルイミダゾールの合成＞
実施例１のフェニルアセトアミジン塩酸塩を（２−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩に代えて、実施例１の方法に準拠して合成試験を実施し、乳白色粉末状の結晶を得た。
【００２８】
得られた結晶の融点、薄層クロマトグラフィーのＲｆ値、１Ｈ−ＮＭＲ及びマススペクトルデータは、以下のとおりであった。
・mp. 188−189℃
・TLC (シリカゲル，アセトン) ： Rf = 0.70
・1H-NMR
(d6-DMSO) δ： 4.16(s, 2H), 7.22−7.47(m, 14H)
・MS m/z(%) ： 344(M+, 48),
309(100), 231(3), 218(3), 204(3), 178(2), 165(13), 153(3), 113(3), 103(3), 89(2), 77(3).
これらのスペクトルデータから、得られた化合物は、化６で示される２−（２−クロロベンジル）−４，５−ジフェニルイミダゾールであるものと同定した。
【００２９】
【化６】
【００３０】
〔実施例３〕
実施例１および２において合成したイミダゾール化合物と、これらとは別に２−フェニルイミダゾールを有効成分とする表面処理液を各々調製し、該処理液に銅を接触させることにより銅の表面に化成皮膜を形成させ、銅に対する溶融半田の濡れ時間を測定して、各々のイミダゾール化合物が作用する銅表面への酸化防止性能を評価した。この場合、濡れ時間が短い程、イミダゾール化合物の酸化防止性能が優れているものと判定される。
評価試験の詳細は、次のとおりである。
（１）表面処理液の調整
イミダゾール化合物、酸、金属塩およびハロゲン化合物を、表１記載の組成となるようにイオン交換水に溶解させた後、アンモニア水でｐＨを調整して表面処理液を調製した。
（２）表面処理方法
材質が金属銅の試験片（５ｍｍ×５０ｍｍ×０．３ｍｍの銅板）を脱脂し、次いでソフトエッチングを行い、所定温度の表面処理液に所定時間浸漬して、銅の表面に化成皮膜を形成させた後、水洗して乾燥した。
（３）濡れ時間の測定
表面処理を行った試験片を、ポストフラックス〔商品名「ＪＳ−６４ＭＳＳ」（株）弘輝製〕に浸漬して、半田濡れ性試験器（ＳＡＴ−２０００、（株）レスカ製）を使用して半田濡れ時間（秒）を測定した。使用した半田は錫−鉛系共晶半田（商品名：Ｈ６３Ａ、千住金属工業製）であり、測定条件は半田温度２４０℃，浸漬深さ２ｍｍ，浸漬スピード１６ｍｍ／秒とした。
なお、半田濡れ時間を測定した試験片は、（Ａ）表面処理直後のものと、（Ｂ）温度４０℃、湿度９０％ＲＨの恒温恒湿器に入れて９６時間放置したものと、（Ｃ）さらに（Ｂ）を２００℃で１０分間加熱したものである。
得られた試験結果は、表１に示したとおりであった。
【００３１】
【表１】
【００３２】
表１に示した試験結果によれば、本願発明の２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物を有効成分として含有する表面処理液は、銅の表面に耐湿性および耐熱性に優れた化成皮膜を形成させることができるので、銅表面の酸化防止に有用である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
本発明に類似のイミダゾール化合物として、例えば特許文献１には、２−（２，４−ジクロロフェニルメチル）−４，５−ジフェニルイミダゾールが開示されているが、本願発明の２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物の開示はない。
【０００３】
【特許文献１】特開平７−２４３０５４号公報（第５頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、新規な２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は、前記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、化１の化学式(I)で示される新規な２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物を合成し得ることを認め、本発明を完成するに至ったものである。
【０００６】
【化１】
（式中、Ｘは水素原子または塩素原子を表す。）
【発明の効果】
【０００７】
本発明の２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物は、金属、特に銅（銅合金を含む）の表面の酸化防止剤や、エポキシ樹脂の硬化剤または硬化促進剤として、また医農薬分野の中間原料としても有用なものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物は、化２の化学式(I)で示されるものであり、
２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール、
２−（２−クロロベンジル）−４，５−ジフェニルイミダゾール、
２−（３−クロロベンジル）−４，５−ジフェニルイミダゾールおよび
２−（４−クロロベンジル）−４，５−ジフェニルイミダゾールである。
【０００９】
【化２】
（式中、Ｘは水素原子または塩素原子を表す。）
【００１０】
本発明の２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾールは、公知の方法に準拠して合成することができる。即ち、化３の反応式に示されるように、２位ハロゲン化２−フェニルアセトフェノン化合物とアリールアセトアミジン化合物とを、脱ハロゲン化水素剤の存在下、有機溶媒中で加熱反応させることにより合成することができる。
【００１１】
【化３】
（但し、式中、Ｘは前記と同様であり、Ｘ１は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。）
【００１２】
前述の反応において、アリールアセトアミジン化合物の使用量は、２位ハロゲン化２−フェニルアセトフェノン化合物に対して、０．８〜１．５倍モルが好ましく、より好ましくは０．９〜１．１倍モルの割合とすればよい。脱ハロゲン化水素剤の使用量は、２位ハロゲン化２−フェニルアセトフェノン化合物に対して、１〜１０倍当量の割合が好ましい。
【００１３】
前記の２位ハロゲン化２−フェニルアセトフェノン化合物としては、２−クロロ−２−フェニルアセトフェノン、２−ブロモ−２−フェニルアセトフェノンおよび２−ヨード−２−フェニルアセトフェノンが挙げられる。
【００１４】
これらの２位ハロゲン化２−フェニルアセトフェノン化合物は、２−フェニルアセトフェノンの２位をハロゲン化することにより合成することができる。ハロゲン化としては、塩素化またはヨウ素化も可能であるが、２−フェニルアセトフェノン１モルに対し、１モルの臭素を反応させる臭素化反応が最も簡便である。なお、２−クロロ−２−フェニルアセトフェノンおよび２−ブロモ−２−フェニルアセトフェノンは試薬としても入手可能である。
【００１５】
前記のアリールアセトアミジン化合物は、公知の方法に準拠して合成することができる。例えば、化４の反応式に示されるように、ベンジルシアニド化合物を塩化水素ガスおよびエタノール等の低級アルコールと反応させ、アリールアセトイミデート塩酸塩に変換し、更にアンモニアと反応させることによって、アリールアセトアミジン塩酸塩を合成することができる。
【００１６】
【化４】
（但し、式中のＸは前記と同様である。）
【００１７】
アリールアセトアミジン化合物として、前記の反応で得られるアリールアセトアミジン塩酸塩を使用できるが、該塩酸塩とアルカリ等を反応させることにより塩酸を除いたフリーのアリールアセトアミジン化合物を使用できることは云うまでもない。
なお、前記のアリールアセトアミジン塩酸塩に限らず、フリーのアリールアセトアミジン化合物と、従来知られた無機酸または有機酸との塩も使用可能である。
【００１８】
前記の脱ハロゲン化水素剤は公知のものを制限なく使用できる。このような脱ハロゲン化水素剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような無機アルカリ類、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）のような有機塩基類、ナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのような金属アルコキシド化合物などが挙げられる。
【００１９】
前記の反応溶媒は、２位ハロゲン化２−フェニルアセトフェノン化合物とアリールアセトアミジン化合物またはその塩を溶解することができ、かつ反応に関与しないものであれば公知のものを制限なく使用できる。このような溶媒として、例えば、イソプロピルアルコール、ｔｅｒｔ−ブタノールなどのアルコール類、ヘキサン、トルエンなどの炭化水素類、クロロホルム、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリルなどのニトリル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）などのアミド類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）などが挙げられ、これらの溶媒を組み合わせて使用してもよい。
【００２０】
反応温度は室温〜還流温度が好ましく、反応時間は１〜１０時間が好ましい。反応は、通常大気圧下で行えばよい。
【００２１】
以上の反応条件下で生成した２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物は、通常の後処理によって単離することができる。
例えば、反応終了後の反応混合物を水層と有機溶媒層に分配し、有機溶媒層を水洗浄後、減圧下に濃縮することにより、粗製の当該化合物が析出し、さらに再結晶操作等により精製することができる。
【実施例】
【００２２】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、フェニルアセトアミジン塩酸塩の合成例を参考例１に示す。
【００２３】
〔参考例１〕
＜フェニルアセトアミジン塩酸塩の合成＞
フェニルアセトニトリル１１７．８ｇ（１．００６ｍｏｌ）及び脱水エタノール５５．８ｇ（１．２１ｍｏｌ）からなる溶液へ、冷却下、５〜１０℃にて、塩化水素ガス４４．６ｇ（１．２２ｍｏｌ）を４時間かけて吹き込んだ。該混合物を４℃にて１日間、さらに室温に戻して２日間放置すると、白色固体としてフェニルアセトイミド酸エチル塩酸塩が得られた。該塩酸塩を砕き、氷冷下に振とうしながら、アンモニア３５．６ｇ（２．０９ｍｏｌ）及び脱水エタノール２４６ｇからなる溶液を少しずつ加えた。加え終わった後、氷冷下にて２時間、さらに室温に戻して一晩撹拌し、白色固体の不溶物をろ去後、ろ液を減圧乾固して、淡黄色アメ状のフェニルアセトアミジン塩酸塩１７２．５ｇ（１．０１１ｍｏｌ、収率１００．５％）を得た。
【００２４】
〔実施例１〕
＜２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾールの合成＞
フェニルアセトアミジン塩酸塩５６．３ｇ（０．３３ｍｏｌ）、炭酸カリウム１１８ｇ（０．８６ｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１８０ｍｌからなる懸濁液を４５〜５０℃にて３０分撹拌後、同温度にて、２−ブロモ−２−フェニルアセトフェノン９０．８ｇ（０．３３ｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌからなる溶液を１時間かけて滴下し、さらに６０℃にて５時間撹拌した。反応懸濁液を冷却後、水１２００ｍｌ及びトルエン２５０ｍｌに分配し、トルエン層を水で洗浄した後、減圧下に濃縮すると結晶が析出した。該結晶をろ取し、トルエンで洗浄した後、乾燥して、乳白色粉末状の粗製物５２ｇが得られた。該粗製物をエタノールより再結晶して、乳白色の結晶３８．４ｇ（０．１２４ｍｏｌ、収率３７．５％）を得た。
【００２５】
得られた結晶の融点、薄層クロマトグラフィーのＲｆ値、１Ｈ−ＮＭＲ及びマススペクトルデータは、以下のとおりであった。
・mp. 245−248℃
・TLC (シリカゲル，アセトン) ： Rf = 0.74
・1H-NMR
(d6-DMSO) δ： 4.03(s, 2H), 7.16−7.50(m, 15H)
・MS m/z(%) ： 310(M+, 100),
231(3), 178(2), 165(13), 154(2), 116(2), 103(5), 91(4), 77(3).
これらのスペクトルデータから、得られた化合物は、化５で示される２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾールであるものと同定した。
【００２６】
【化５】
【００２７】
〔実施例２〕
＜２−（２−クロロベンジル）−４，５−ジフェニルイミダゾールの合成＞
実施例１のフェニルアセトアミジン塩酸塩を（２−クロロフェニル）アセトアミジン塩酸塩に代えて、実施例１の方法に準拠して合成試験を実施し、乳白色粉末状の結晶を得た。
【００２８】
得られた結晶の融点、薄層クロマトグラフィーのＲｆ値、１Ｈ−ＮＭＲ及びマススペクトルデータは、以下のとおりであった。
・mp. 188−189℃
・TLC (シリカゲル，アセトン) ： Rf = 0.70
・1H-NMR
(d6-DMSO) δ： 4.16(s, 2H), 7.22−7.47(m, 14H)
・MS m/z(%) ： 344(M+, 48),
309(100), 231(3), 218(3), 204(3), 178(2), 165(13), 153(3), 113(3), 103(3), 89(2), 77(3).
これらのスペクトルデータから、得られた化合物は、化６で示される２−（２−クロロベンジル）−４，５−ジフェニルイミダゾールであるものと同定した。
【００２９】
【化６】
【００３０】
〔実施例３〕
実施例１および２において合成したイミダゾール化合物と、これらとは別に２−フェニルイミダゾールを有効成分とする表面処理液を各々調製し、該処理液に銅を接触させることにより銅の表面に化成皮膜を形成させ、銅に対する溶融半田の濡れ時間を測定して、各々のイミダゾール化合物が作用する銅表面への酸化防止性能を評価した。この場合、濡れ時間が短い程、イミダゾール化合物の酸化防止性能が優れているものと判定される。
評価試験の詳細は、次のとおりである。
（１）表面処理液の調整
イミダゾール化合物、酸、金属塩およびハロゲン化合物を、表１記載の組成となるようにイオン交換水に溶解させた後、アンモニア水でｐＨを調整して表面処理液を調製した。
（２）表面処理方法
材質が金属銅の試験片（５ｍｍ×５０ｍｍ×０．３ｍｍの銅板）を脱脂し、次いでソフトエッチングを行い、所定温度の表面処理液に所定時間浸漬して、銅の表面に化成皮膜を形成させた後、水洗して乾燥した。
（３）濡れ時間の測定
表面処理を行った試験片を、ポストフラックス〔商品名「ＪＳ−６４ＭＳＳ」（株）弘輝製〕に浸漬して、半田濡れ性試験器（ＳＡＴ−２０００、（株）レスカ製）を使用して半田濡れ時間（秒）を測定した。使用した半田は錫−鉛系共晶半田（商品名：Ｈ６３Ａ、千住金属工業製）であり、測定条件は半田温度２４０℃，浸漬深さ２ｍｍ，浸漬スピード１６ｍｍ／秒とした。
なお、半田濡れ時間を測定した試験片は、（Ａ）表面処理直後のものと、（Ｂ）温度４０℃、湿度９０％ＲＨの恒温恒湿器に入れて９６時間放置したものと、（Ｃ）さらに（Ｂ）を２００℃で１０分間加熱したものである。
得られた試験結果は、表１に示したとおりであった。
【００３１】
【表１】
【００３２】
表１に示した試験結果によれば、本願発明の２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物を有効成分として含有する表面処理液は、銅の表面に耐湿性および耐熱性に優れた化成皮膜を形成させることができるので、銅表面の酸化防止に有用である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化１の化学式(I)で示される２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物。
【化１】
（式中、Ｘは水素原子または塩素原子を表す。）
【請求項１】
化１の化学式(I)で示される２−ベンジル−４，５−ジフェニルイミダゾール化合物。
【化１】
（式中、Ｘは水素原子または塩素原子を表す。）
【公開番号】特開２０１０−７０５３５（Ｐ２０１０−７０５３５Ａ）
【公開日】平成２２年４月２日（２０１０．４．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２４３３５８（Ｐ２００８−２４３３５８）
【出願日】平成２０年９月２２日（２００８．９．２２）
【出願人】（０００１８０３０２）四国化成工業株式会社 (167)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年４月２日（２０１０．４．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年９月２２日（２００８．９．２２）
【出願人】（０００１８０３０２）四国化成工業株式会社 (167)
【Ｆターム（参考）】
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