ＨＰＰＤ阻害性クロロアセトアミド除草剤を含んで成るサスポエマルション
１０，０００〜１，０００，０００ダルトンの分子量を有する高分子安定剤を含まない、化学的且つ物理的に安定なサスポエマルション製剤であって：（ｉ）連続相、
（ｉｉ）当該連続相に不溶性のＨＰＰＤ−阻害性除草剤、（ｉｉｉ）クロロアセトアミド、及び（ｉｖ）１又は複数の芳香族エトキシラート化合物又はその誘導体、を含んで成り、但し、６〜１４モルのエトキシラートを有する、非イオン型の、トリスチリルフェノール−エトキシラート、１４〜１８モルのエトキシラートを有する、その硫酸塩又はリン酸塩の形態の、陰イオン又は酸型のトリスチリルフェノール−エトキシラート、及びジアルキル−スルホサクシネート、の全てを含んで成る製剤を除く、サスポエマルション製剤、を開示する。
（ｉｉ）当該連続相に不溶性のＨＰＰＤ−阻害性除草剤、（ｉｉｉ）クロロアセトアミド、及び（ｉｖ）１又は複数の芳香族エトキシラート化合物又はその誘導体、を含んで成り、但し、６〜１４モルのエトキシラートを有する、非イオン型の、トリスチリルフェノール−エトキシラート、１４〜１８モルのエトキシラートを有する、その硫酸塩又はリン酸塩の形態の、陰イオン又は酸型のトリスチリルフェノール−エトキシラート、及びジアルキル−スルホサクシネート、の全てを含んで成る製剤を除く、サスポエマルション製剤、を開示する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性成分を２種類以上含んで成る新規農芸化学製剤及びその使用に関連する。
【０００２】
農薬の製造者は広範な農薬製品に対する必要性を認めている。単一活性成分製剤がかかる広範な要請にみあうことはまれであり、従って、おそらく最大４種類の生物活性成分を含む組み合わせ製品が開発されてきた。かかる製品は、いくつかの更なる利点の例えば、タンク混合の省略;製品在庫の減少;時間と金の節約;並びに作物に噴霧する膨大な時間の低減を有する。
【０００３】
かかる製品の開発は比較的単純であるが、組み合わされる活性成分は、物理的、化学的及び生物学的に適合することが条件とされる。これらの状況下で、活性成分は、当業界で周知の広範囲の製剤型において組み合わされて良い。活性成分が、物理的、化学的及び/又は生物学的に適合性がない場合、かかる非適合性に関連した問題を解消するために新規製剤を開発する必要がある。製剤の種類の一つの例は、いわゆる「サスポエマルション製剤」である。これらサスポエマルション製剤は、１又は複数の活性成分を含むエマルション相を、固形分散体の形態において同様に１又は複数の活性成分を含む連続相と組み合わせることによって形成されているこの種類の製剤には、輸送、保存及びフィールド適用の容易さに関連したいくつかのユーザーに対する利点がある。
【０００４】
しかし、かかるサスポエマルション製剤の処方は容易ではない。満足のいく物理的及び化学的安定性を有するサスポエマルション 製剤を処方するための技術的挑戦及び複雑さは以前から報告されている(例えば、Suspoemulsion Technology and Trends, Joseph R. Winkle, Pesticide Formulation and Adjuvant Technology, CRC Press,1996を参照のこと)。
【０００５】
本発明の活性成分をサスポエマルションへと製剤化する試みの場合、特定の問題に遭遇する。使用される１つの好適な活性成分は、２−(２'−ニトロ−４'−メチルスルホニルベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン)であり、それは遊離酸としてか、あるいは金属塩のいずれかにおいて存在していて良い。メソトリオン遊離酸は、ある範囲のpH条件及び/又は濃度の下、水性媒体中で化学的に不安定である。化学的な不安定性の問題は、メソトリオン遊離酸を金属キレート剤の例えば、銅塩又は亜鉛塩によりキレートすることによって解消されうる。しかし、金属塩を組成物中へと導入することで生じるサスポエマルション の物理的安定性とともに、重度の錯化がもたらされた。キレート化されたメソトリオン粒子は、エマルション相へと移動する（ヘテロフロキュレーション／凝集として知られている現象）ことに気付いた。界面活性系に依存して、このヘテロフロキュレーション／凝集は、瞬間的にマクロスケールで又は比較的ゆっくりと、マクロスケールにおけるストレス下のみで生じうる。これは、非常に異常な挙動であると考えられ、何故なら、それは見掛け上この事象が単なるフロキュレーション（界面から界面へのもの）事象ではなく、実際には、エマルション液滴内部へのメソトリオン(mesotrione)の移動だからである。
【０００６】
従って、本発明の目的は、ＨＰＰＤ−阻害性除草剤を活性成分の１つとして含んで成る、化学的及び物理的に安定なエマルション製剤を提供することである。
【０００７】
ＷＯ２００４／０８０１７８は、２−（置換ベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン除草剤及びクロロアセトアミドを含んで成るサスポエマルション製剤を開示している；しかしながら、開示されているこの製剤は、高分子安定剤の存在を必要とする。本発明は、高分子安定剤の使用を不要にする。
【０００８】
従って、本発明の第一の観点は、
（ｉ）連続相、
（ｉｉ）当該連続相に不溶性のＨＰＰＤ−阻害性除草剤、
（ｉｉｉ）クロロアセトアミド、及び
（ｉｖ）１又は複数の芳香族エトキシラート化合物又はその誘導体、
を含んで成り、
１０，０００〜１，０００，０００ダルトンの分子量を有する高分子安定剤を含まないサスポエマルション製剤（但し、６〜１４モルのエトキシラートを有する、非イオン型の、トリスチリルフェノール−エトキシラート、１４〜１８モルのエトキシラートを有する、その硫酸塩又はリン酸塩の形態の、陰イオン又は酸型のトリスチリルフェノール−エトキシラート、及びジアルキル−スルホサクシネート、の全てを含んで成る製剤を除く）を提供するものである。
【０００９】
前記連続相は、任意の適当な溶媒であってもよく、例えば水、グリコール又はアルコールであるが、好ましくは水である。
【００１０】
本発明の１つの態様において、ＨＰＰＤ−阻害性除草剤はトリケトン、例えば式（Ｉ）の２−（置換ベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン化合物
【化１】
｛ここで、Ｘはハロゲン原子；１若しくは複数の基−ＯＲ1又は１若しくは複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル又はアルコキシ基；あるいはニトロ、シアノ、−ＣＯ2Ｒ2、−Ｓ(Ｏ)mＲ1、−Ｏ(ＣＨ2)rＯＲ1、−ＣＯＲ2、−ＮＲ2Ｒ3、−ＳＯ2ＮＲ2Ｒ3、−ＣＯＮＲ2Ｒ3、−ＣＳＮＲ2Ｒ3及び−ＯＳＯ2Ｒ4から選択された基を表し；
Ｒ1は、１又は複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し；
Ｒ2及びＲ3は各々独立して、水素原子;又は１若しくは複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し;
Ｒ4は１又は複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル、アルケニル又はアルキニル基；あるいは最大６個の炭素原子から成るシクロアルキル基、を表し；
各Ｚは独立して、ハロ、ニトロ、シアノ、Ｓ(Ｏ)mＲ5、ＯＳ(Ｏ)mＲ5、Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルコキシ、Ｃ1-6ハロアルキル、Ｃ1-6ハロアルコキシ、カルボキシ、Ｃ1-6アルキルカルボニルオキシ、Ｃ1-6アルコキシカルボニル、Ｃ1-6アルキルカルボニル、アミノ、Ｃ1-6アルキルアミノ、各アルキル基において独立して規定数の炭素原子を有するＣ1-6ジアルキルアミノ、Ｃ1-6アルキルカルボニルアミノ、Ｃ1-6アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-6アルキルアミノカルボニルアミノ、各アルキル基において独立して規定数の炭素原子を有するＣ1-6ジアルキルアミノカルボニルアミノ、Ｃ1-6アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ1-6アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-6ジアルキルカルボニルオキシ、フェニルカルボニル、置換されたフェニルカルボニル、フェニルカルボニルオキシ、置換されたフェニルカルボニルオキシ、フェニルカルボニルアミノ、置換されたフェニルカルボニルアミノ、フェノキシ又は置換されたフェノキシを表し；
Ｒ5は１又は複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し；
Ｑは各々独立して、Ｃ1-4アルキル又は−ＣＯ2Ｒ6を表し、ここでＲ6はＣ1-4アルキルであり;
ｍは０、１又は２であり；
ｎは０又は１〜４の整数であり;
ｒは１、２又は３であり;そして
ｐは０又は１〜６の整数である｝
である。
【００１１】
適切には、Ｘはクロロ、ブロモ、ニトロ、シアノ、Ｃ1-4アルキル、−ＣＦ3、−Ｓ(Ｏ)mＲ1、又は−ＯＲ1であり；
各Ｚは独立して、クロロ、ブロモ、ニトロ、シアノ、Ｃ1-4アルキル、−ＣＦ3、−ＯＲ1、−ＯＳ(Ｏ)mＲ5又は−Ｓ(Ｏ)mＲ5であり；ｎは１又は２であり；そしてｐは０である。
【００１２】
好ましくは、式（Ｉ）の２−（置換ベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン化合物は、２−(２'−ニトロ−４'−メチルスルホニルベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、２−(２'−ニトロ−４'−メチルスルホニルオキシベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、２−(２'−クロロ−４'−メチルスルホニルベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、４，４−ジメチル−２−(４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、２−（２−クロロ−３−エトキシ−４−メタンスルホニルベンゾイル)−５−メチル−１，３−シクロヘキサンジオン及び２−（２−クロロ−３−エトキシ−４−エタンスルホニルベンゾイル)−５−メチル−１，３−シクロヘキサンジオンから成る群から選択され；最も好ましくは２−(２'−ニトロ−４'−メチルスルホニルベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオンである。
【００１３】
２−（置換ベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオンは、酸（非キレート型）で、又は金属キレートとして存在していてもよい。２−（置換ベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオンの金属キレート型は、金属安定化塩をサスポエマルション製剤に添加することで作ることができる。使用可能である適当な安定化金属塩の例には、カルシウム、ベリリウム、バリウム、チタニウム、マグネシウム、マンガン、亜鉛、鉄、コバルト、ニッケル及び銅の塩が含まれ；最も適当なものはマグネシウム、マンガン、亜鉛、鉄、コバルト、ニッケル及び銅の塩であり；特に好ましいのは銅塩であり、例えば、水酸化銅である。適切には、本発明のサスポエマルション 製剤における安定化金属塩の濃度は０．０１〜４．０％であり、そして好ましくは０．０２〜１．５％である。
【００１４】
本発明の第二の態様において、ＨＰＰＤ−阻害性除草剤は式（ＩＩ）のイソオキサゾール化合物
【化２】
｛ここで、Ｒ7は水素又は−ＣＯ2Ｒ10であり；
Ｒ8はＣ1-4アルキル又は任意にＣ1-6アルキルで置換されているＣ3-6シクロアルキルであり；
Ｒ9は独立してハロゲン、ニトロ、シアノ、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-6アルコキシ、Ｃ1-4ハロアルコキシ、−（ＣＲ11−Ｒ12）cＳ（Ｏ）bＲ13、−Ｓ（Ｏ）bＲ13、−ＯＳＯ2Ｒ13及び−Ｎ（Ｒ14）ＳＯ2Ｒ13から選択され；
あるいは２つの基Ｒ9が、フェニル環の隣接炭素原子上で、それらが結合している炭素原子と一緒に、窒素、酸素及び硫黄から選択される最大３個の環ヘテロ原子を含む５−又は６−員の飽和又は不飽和ヘテロ環であって、ハロゲン、ニトロ、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-4ハロアルコキシ及び−Ｓ（Ｏ）bＲ13から選択される１又は複数の基によって任意に置換されうる環を形成していてもよく、ここで、環内に存在する硫黄原子は基−ＳＯ−又は−ＳＯ2−の形態であってもよい；
Ｒ10はＣ1-4アルキルであり；
Ｒ11及びＲ12は独立して水素又はＣ1-4アルキルであり；
Ｒ13はＣ1-4アルキル、あるいはフェニル又はベンジルであり、フェニル及びベンジルのそれぞれが、ハロゲン、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-4ハロアルコキシ、ニトロ及び−Ｓ（Ｏ）bＣＨ3から成る群から選択される、異なるか又は同一であり得る１〜５個の置換基を任意に有することがあり；
Ｒ14は水素又はＣ1-6アルキルであり；
ａは１〜５の整数であり；
ｂは０、１又は２であり；そして
ｃは１又は２である（ｃが２である場合、基（ＣＲ11Ｒ12）は同一であっても異なっていてもよい）｝
である。
【００１５】
適切には、Ｒ7は水素であり；Ｒ8はシクロプロピルであり；Ｒ9はハロゲン（好ましくはクロロ）、−Ｓ（Ｏ）bＣＨ3、又はＣ1-4ハロアルキル（好ましくはトリフルオロメチル）であり；そしてａは２である。
【００１６】
式（ＩＡ）の特に好ましい化合物は、５−シクロプロピル−４−（２−メチルスルホニル−４−トリフルオロメチル）ベンゾイルイソオキサゾール（イソオキサフルトール）及び４−（２−クロロ−４−メチルスルホニル）ベンゾイル−５−シクロプロピルイソオキサゾール（イソオキサクロルトール）から成る群から選択される。
【００１７】
本発明の第三の態様において、ＨＰＰＤ−阻害性除草剤は式（ＩＩＩ）の化合物
【化３】
（ここで、Ｒ15はＣ1-2アルキル又はクロロであり；Ｒ16は水素又はＣ1-4アルキルであり；そしてＲ17はＣ1-4アルキルである）
である。
【００１８】
適切には、本発明の使用に適したクロロアセトアミドには式（ＩＶ）
【化４】
（ここで、Ｒ18は水素、メチル又はエチルであり；Ｒ19は水素又はエチルであり；Ｒ20は水素又はメチルであり；そしてＲ21はメチル、メトキシ、メトキシメチル、エトキシ、又はブトキシである）
が含まれる。
【００１９】
適切には、前記クロロアセトアミドは、メトラクロール、アセトクロール、及びアラクロールからなる群から選択され、好ましくはメトラクロールであり、そして最も好ましくは、ｓ−メトラクロールである。
【００２０】
適切には、１又は複数の芳香族エトキシラート化合物は、ジ−又はトリ−スチリルフェノールエトキシラート及びそれらの誘導体、例えば、リン酸塩及び硫酸塩並びにそれらの塩から選択される。１又は複数のジ−又はトリ−スチリルフェノールエトキシラート及びそれらの誘導体の例には、限定しないが、エトキシル化トリスチリルフェノール、ポリアリールフェノールエトキシラートの硫酸塩及びリン酸塩が含まれる。これらの硫酸塩及びリン酸塩は、それらの酸の形態で、又は、例えばアンモニウム、トリエタノールアミン等の塩として使用されうる。そのような生成物の例には、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＢＳＵ’、’Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ Ｓ２５’、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＴＳ／１０、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ４Ｄ３８４、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ３Ｄ３３、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＦＬ等が含まれる。
【００２１】
製剤中のＨＰＰＤ−阻害性除草剤の濃度は、適切には１０ｇ ａ．ｉ／リットル〜２００ｇ ａ．ｉ／リットル、好ましくは２５ｇ ａ．ｉ／リットル〜１００ｇ ａ．ｉ／リットルである。製剤中のクロロアセトアミドの濃度は、適切には１００ｇ ａ．ｉ／リットル〜８００ｇ ａ．ｉ／リットル、好ましくは２５０ｇ ａ．ｉ／リットル〜６００ｇ ａ．ｉ／リットルである。サスポエマルション製剤中のエトキシラートの濃度は、適切には５ｇ ａ．ｉ／リットル〜１５０ｇ ａ．ｉ／リットル、好ましくは１０ｇ ａ．ｉ／リットル〜７５ｇ ａ．ｉ／リットルである。適切には、当該製剤は全ａ．ｉのリットル当たり少なくとも３００ｇである。
【００２２】
あらゆるｐＨが本発明の製剤にとって適切でありうるが、酸性範囲内のｐＨが好ましいと考えられ、そして最も好ましくは当該製剤は５以下のｐＨを有する。
【００２３】
本発明のサスポエマルション製剤はまた、任意に、１又は複数の追加の活性成分を含んで成っていてもよい。１又は複数の追加の活性成分は、農薬、例えば、除草剤、殺真菌剤、殺虫剤などであってもよく；あるいは更なる活性成分は、セーフナー（safener）又は解毒剤として知られている化合物のクラスから選択された化合物であってもよい。製剤中の活性成分の濃度は、適切には１ｇ／Ｌ〜５００ｇ／Ｌであり、そして好ましくは２ｇ／Ｌ〜３００ｇ／Ｌである。
【００２４】
本発明の更なる態様において、サスポエマルション製剤は更に追加の活性成分を含んで成り、これは除草剤、例えば、トリアジンとして知られるクラスから選択される除草剤、例えば、アトラジンもしくはテルブチラジン；ホスホナート除草剤、例えば、グリホサートもしくはその塩；ホスフィナート除草剤、例えば、グルホシナート若しくはその塩である。追加の除草剤の濃度は、適切には５ｇ／Ｌ〜５００ｇ／１、そして好ましくは１０ｇ／Ｌ〜３００ｇ／Ｌである。最も好ましくは、追加の除草剤はトリアジン、好ましくはアトラジン又はテルブチラジンである。
【００２５】
本発明の更に追加の態様において、サスポエマルション製剤は、セーフナー又は解毒剤として知られている化合物のクラスから選択される追加の活性成分、例えばベノキサコール、又はジクロルミドを含んで成る。セーフナーの濃度は、適切には１ｇ／Ｌ〜１００ｇ／Ｌであり、そして好ましくは２ｇ／Ｌ〜４０ｇ／Ｌである。
【００２６】
本発明の更に追加の態様において、サスポエマルション製剤は、更に活性成分を少なくとも２つ含んで成り、ここで追加の活性成分の１つは、除草剤、例えば、トリアジン、例えば、アトラジン又はテルブチルアジンであり、そして他の追加の活性成分の少なくとも１つは、セーフナー、例えば、ベノキサコール又はジクロルミドである。
【００２７】
本発明のサスポエマルション製剤はまた、任意に電解質成分を含んで成っていてもよい。用語「電解質成分」とは、溶液中にある場合にイオンを生成する化合物、例えばアルカリ金属、例えばナトリウム、又はアルカリ土類金属、例えばマグネシウムの塩、を意味する。１つの好ましい態様において、当該塩は塩化物、例えば塩化マグネシウムである。第二の好ましい態様において、当該塩は硝酸塩、例えば硝酸アンモニウムである。適切には、本発明のサスポエマルション製剤中の電解質の濃度は０．１〜２００ｇ／Ｌであり、そして適切には１〜５０ｇ／Ｌであり、そして好ましくは１０ｇ／Ｌ未満である。
【００２８】
他の製剤成分は、必要に応じて、サスポエマルションに含めてもよい。そのようなほかの成分は、以下の：結晶化阻害剤、粘度調整剤、スプレー液滴調整剤、色素、抗酸化剤、発泡剤、遮光剤、消泡剤、金属イオン封鎖剤、中和剤、緩衝液、防蝕剤、着臭剤、増粘剤及び凝固点降下剤のうち、いずれも含まないか、一部又は全部を特別な効果を得るために含んでよもよい。
【００２９】
本発明の追加の側面において、(天然の手段によって又は遺伝子組み換えによって１又は複数の除草剤に対して耐性を示す)所望の植物種、の場所の周囲に存在しうる不所望な植物、例えば雑草の成長を制御する方法であって、本発明の製剤をかかる不所望な植物の場所に対して適用することを含んで成る方法が提供される。不所望な植物の例としては、限定されないが、ベルベットリーフ、アオゲイトウ、通常の水性麻（common water hemp）、パルマーアマランス（Palmer amaranth）、アメリカアサガオ、アメリカキンゴジカ、オオブタクサ、ブタクサ、オナモミ、イヌホウズキ、シロアカザ、アメリカサナエタデ、ヒマワリ、チョウセンアサガオ、アメリカツノクサネム、トゲのあるトウダイグサ（toothed spurge）、ユベリヒユ、ヒメシバ、キンエノコロ及びコキアが挙げられる。これら雑草は、１又は複数の除草剤に対して耐性を表しても示さなくても(天然に又は遺伝子組換えのいずれかによって)良い。サスポエマルション製剤は、作物の発芽前又は発芽後のいずれかにおいて適用されて良い。好ましくは、当該製剤は、発芽前に適用される。当該製剤は、空気によって適用されるかあるいは公知の技術の例えば、ハイドロリックノズルスプレーによって地面上に適用されて良い。
【００３０】
本発明のサスポエマルション製剤の１つの利点とは、大多数の条件下、当該製剤をたった一度適用することによって四季を通じて雑草を長期に渡り制御することができることである。
【００３１】
本発明は以下単なる例示のために説明される。
【実施例】
【００３２】
【表１】
【００３３】
実施例１
１．１．プレミックスの調製
１．１．１ Ｓ−メトラクロール油相の調製
重量％
Ｓ−メトラクロール ７５．０
Ｉｓｏｐａｒ Ｌ １５．０
ＮＡＮＳＡ ＥＶＭ６３／Ｂ ５．０
ＡＴＬＯＸ Ｇ ５０００ ５．０
【００３４】
最初にｓ−メトラクロールを充填し；ＭＡＮＳＡ ＥＶＭ６３／Ｂ、Ａｔｌｏｘ Ｇ５０００（予め５０〜６０℃に加熱）及びＩｓｏｐａｒ Ｌを添加する。溶解するまで混合する。
【００３５】
１．１．２ メソトリオンミルベースの調製
重量％
メソトリオン ３５．００
Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ Ｓ／２５ ３．５０
酢酸（８０％） ７．７３
水酸化銅（１００％） ５．０５
消泡剤ＭＳＡ ０．１０
Ｋｅｌｚａｎ ０．１０
硝酸アンモニウム（６０％） ４．３０
水 残余
【００３６】
水、酢酸及び水酸化銅を一緒に混合する。メソトリオンを添加する。硝酸アンモニウム溶液、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ Ｓ／２５（界面活性剤）、消泡剤ＭＳＡ及びＫｅｌｚａｎを添加して均一になるまで混合する。中央粒経が２．５ミクロン未満になるまでスラリーを粉砕する。
【００３７】
１．２ 最終製剤の調製
重量％
メソトリオンミルベース １５．９５
Ｓ−メトラクロール油相 ６２．０
Ｋｅｌｚａｎ ０．０２
プロピレングリコール ４．６５
Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ ０．１９
シリコン油ＤＢ１００化合物 ０．０９
Ａｔｔａｇｅｌ ５０ １．４０
水 残余
【００３８】
最初に水を充填し、プロピレングリコール及びメソトリオンミルベースを添加し、そして均一になるまで混合する。Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ（保存剤）、シリコン油ＤＢ１００化合物（消泡剤）及び増粘剤ゲル（Ｋｅｌｚａｎゲル及びＡｔｔａｇｅｌ５０（クレー及びピロリン酸四ナトリウムを含む水性ゲルの形態））を振とうしながら添加する。乳化した有機相が形成するようにゆっくり油相を添加する。
【００３９】
実施例２
２．１ プレミックスの調製
２．１．１ Ｓ−メトラクロール油相の調製（１．１．１を参照のこと）
２．１．２ メソトリオンミルベースの調製
重量％
メソトリオン ３５．００
Ｂｅｒｏｌ ９２２ ５．７０
酢酸（８０％） ７．７３
水酸化銅（１００％） ５．０５
消泡剤ＭＳＡ ０．１０
Ｋｅｌｚａｎ ０．１０
硝酸アンモニウム（６０％） ４．３０
水 残余
【００４０】
水、酢酸及び水酸化銅を一緒に混合する。メソトリオンを添加する。硝酸アンモニウム溶液、Ｂｅｒｏｌ９２２（非イオン性界面活性剤）、消泡剤ＭＳＡ及びＫｅｌｚａｎを添加して均一になるまで混合する。中央粒経が２．５ミクロン未満になるまでスラリーを粉砕する。
【００４１】
２．２ 最終製剤の調製
重量％
メソトリオンミルベース １５．９５
Ｓ−メトラクロール油相 ６２．０
Ｋｅｌｚａｎ ０．０２
プロピレングリコール ４．６５
Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ ０．１９
シリコン油ＤＢ１００化合物 ０．０９
Ａｔｔａｇｅｌ ５０ １．４０
水 残余
【００４２】
最初に水を充填し、プロピレングリコール及びメソトリオンミルベースを添加し、そして均一になるまで混合する。Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ（保存剤）、シリコン油ＤＢ１００化合物（消泡剤）及び増粘剤ゲル（Ｋｅｌｚａｎゲル及びＡｔｔａｇｅｌ５０（クレー及びピロリン酸四ナトリウムを含む水性ゲルの形態））を振とうしながら添加する。乳化した有機相が形成するようにゆっくり油相を添加する。
【００４３】
実施例３
３．１ プレミックスの調製
３．１．１ Ｓ−メトラクロール油相の調製（１．１．１を参照のこと）
３．１．２ メソトリオンミルベースの調製
メソトリオン ２５．００
Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＢＳＵ ５．７０
酢酸（８０％） ７．７０
水酸化銅（１００％） ３．６
消泡剤ＭＳＡ ０．１０
Ｋｅｌｚａｎ ０．１０
水 残余
【００４４】
水、酢酸及び水酸化銅を一緒に混合する。メソトリオン、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＢＳＵ（界面活性剤）、消泡剤ＭＳＡ及びＫｅｌｚａｎを添加して均一になるまで混合する。中央粒経が２．５ミクロン未満になるまでスラリーを粉砕する。
【００４５】
３．２ 最終製剤の調製
重量％
メソトリオンミルベース １５．９５
Ｓ−メトラクロール油相 ６２．０
Ｋｅｌｚａｎ ０．０２
プロピレングリコール ４．６５
Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ ０．１９
シリコン油ＤＢ１００化合物 ０．０９
Ａｔｔａｇｅｌ ５０ １．４０
水 残余
【００４６】
最初に水を充填し、プロピレングリコール及びメソトリオンミルベースを添加し、そして均一になるまで混合する。Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ（保存剤）、シリコン油ＤＢ１００化合物（消泡剤）及び増粘剤ゲル（Ｋｅｌｚａｎゲル及びＡｔｔａｇｅｌ５０（クレー及びピロリン酸四ナトリウムを含む水性ゲルの形態））を振とうしながら添加する。乳化した有機相が形成するようにゆっくり油相を添加する。
【００４７】
実施例４
４．１ プレミックスの調製
４．１．１ Ｓ−メトラクロール油相の調製（１．１．１を参照のこと）
４．１．２ メソトリオンミルベースの調製
重量％
メソトリオン ３５．００
Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ４Ｄ３８４ ５．７０
酢酸（８０％） ７．７３
水酸化銅（１００％） ５．０５
消泡剤ＭＳＡ ０．１０
Ｋｅｌｚａｎ ０．１０
硝酸アンモニウム（６０％） ４．３０
水 残余
【００４８】
水、酢酸及び水酸化銅を一緒に混合する。メソトリオンを添加する。硝酸アンモニウム、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ４Ｄ３８４（イオン性界面活性剤）、消泡剤ＭＳＡ及びＫｅｌｚａｎを添加して均一になるまで混合する。中央粒経が２．５ミクロン未満になるまでスラリーを粉砕する。
【００４９】
４．２ 最終製剤の調製
重量％
メソトリオンミルベース １５．９５
Ｓ−メトラクロール油相 ６２．０
Ｋｅｌｚａｎ ０．０２
プロピレングリコール ４．６５
Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ ０．１９
シリコン油ＤＢ１００化合物 ０．０９
Ａｔｔａｇｅｌ ５０ １．４０
水 残余
【００５０】
最初に水を充填し、プロピレングリコール及びメソトリオンミルベースを添加し、そして均一になるまで混合する。Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ（保存剤）、シリコン油ＤＢ１００化合物（消泡剤）及び増粘剤ゲル（Ｋｅｌｚａｎゲル及びＡｔｔａｇｅｌ５０（クレー及びピロリン酸四ナトリウムを含む水性ゲルの形態））を振とうしながら添加する。乳化した有機相が形成するようにゆっくり油相を添加する。
【００５１】
実施例５
５．１ プレミックスの調製
５．１．１ Ｓ−メトラクロール油相の調製（１．１．１を参照のこと）
５．１．２ メソトリオンミルベースの調製
重量％
メソトリオン ２５．００
Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＦＬ ５．７０
酢酸（８０％） ７．７０
水酸化銅（１００％） ５．０５
消泡剤ＭＳＡ ０．１０
Ｋｅｌｚａｎ ０．１０
水 残余
【００５２】
水、酢酸及び水酸化銅を一緒に混合する。メソトリオンを添加する。Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＦＬ（界面活性剤）、消泡剤ＭＳＡ及びＫｅｌｚａｎを添加して均一になるまで混合する。中央粒経が２．５ミクロン未満になるまでスラリーを粉砕する。
【００５３】
５．２ 最終製剤の調製
重量％
メソトリオンミルベース ２２．３
Ｓ−メトラクロール油相 ６２．０
Ｋｅｌｚａｎ ０．０２
プロピレングリコール ４．６５
Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ ０．１９
シリコン油ＤＢ１００化合物 ０．０９
Ａｔｔａｇｅｌ ５０ １．４０
水 残余
【００５４】
最初に水を充填し、プロピレングリコール及びメソトリオンミルベースを添加し、そして均一になるまで混合する。Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ（保存剤）、シリコン油ＤＢ１００化合物（消泡剤）及び増粘剤ゲル（Ｋｅｌｚａｎゲル及びＡｔｔａｇｅｌ５０（クレー及びピロリン酸四ナトリウムを含む水性ゲルの形態））を振とうしながら添加する。乳化した有機相が形成するようにゆっくり油相を添加する。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性成分を２種類以上含んで成る新規農芸化学製剤及びその使用に関連する。
【０００２】
農薬の製造者は広範な農薬製品に対する必要性を認めている。単一活性成分製剤がかかる広範な要請にみあうことはまれであり、従って、おそらく最大４種類の生物活性成分を含む組み合わせ製品が開発されてきた。かかる製品は、いくつかの更なる利点の例えば、タンク混合の省略;製品在庫の減少;時間と金の節約;並びに作物に噴霧する膨大な時間の低減を有する。
【０００３】
かかる製品の開発は比較的単純であるが、組み合わされる活性成分は、物理的、化学的及び生物学的に適合することが条件とされる。これらの状況下で、活性成分は、当業界で周知の広範囲の製剤型において組み合わされて良い。活性成分が、物理的、化学的及び/又は生物学的に適合性がない場合、かかる非適合性に関連した問題を解消するために新規製剤を開発する必要がある。製剤の種類の一つの例は、いわゆる「サスポエマルション製剤」である。これらサスポエマルション製剤は、１又は複数の活性成分を含むエマルション相を、固形分散体の形態において同様に１又は複数の活性成分を含む連続相と組み合わせることによって形成されているこの種類の製剤には、輸送、保存及びフィールド適用の容易さに関連したいくつかのユーザーに対する利点がある。
【０００４】
しかし、かかるサスポエマルション製剤の処方は容易ではない。満足のいく物理的及び化学的安定性を有するサスポエマルション 製剤を処方するための技術的挑戦及び複雑さは以前から報告されている(例えば、Suspoemulsion Technology and Trends, Joseph R. Winkle, Pesticide Formulation and Adjuvant Technology, CRC Press,1996を参照のこと)。
【０００５】
本発明の活性成分をサスポエマルションへと製剤化する試みの場合、特定の問題に遭遇する。使用される１つの好適な活性成分は、２−(２'−ニトロ−４'−メチルスルホニルベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン)であり、それは遊離酸としてか、あるいは金属塩のいずれかにおいて存在していて良い。メソトリオン遊離酸は、ある範囲のpH条件及び/又は濃度の下、水性媒体中で化学的に不安定である。化学的な不安定性の問題は、メソトリオン遊離酸を金属キレート剤の例えば、銅塩又は亜鉛塩によりキレートすることによって解消されうる。しかし、金属塩を組成物中へと導入することで生じるサスポエマルション の物理的安定性とともに、重度の錯化がもたらされた。キレート化されたメソトリオン粒子は、エマルション相へと移動する（ヘテロフロキュレーション／凝集として知られている現象）ことに気付いた。界面活性系に依存して、このヘテロフロキュレーション／凝集は、瞬間的にマクロスケールで又は比較的ゆっくりと、マクロスケールにおけるストレス下のみで生じうる。これは、非常に異常な挙動であると考えられ、何故なら、それは見掛け上この事象が単なるフロキュレーション（界面から界面へのもの）事象ではなく、実際には、エマルション液滴内部へのメソトリオン(mesotrione)の移動だからである。
【０００６】
従って、本発明の目的は、ＨＰＰＤ−阻害性除草剤を活性成分の１つとして含んで成る、化学的及び物理的に安定なエマルション製剤を提供することである。
【０００７】
ＷＯ２００４／０８０１７８は、２−（置換ベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン除草剤及びクロロアセトアミドを含んで成るサスポエマルション製剤を開示している；しかしながら、開示されているこの製剤は、高分子安定剤の存在を必要とする。本発明は、高分子安定剤の使用を不要にする。
【０００８】
従って、本発明の第一の観点は、
（ｉ）連続相、
（ｉｉ）当該連続相に不溶性のＨＰＰＤ−阻害性除草剤、
（ｉｉｉ）クロロアセトアミド、及び
（ｉｖ）１又は複数の芳香族エトキシラート化合物又はその誘導体、
を含んで成り、
１０，０００〜１，０００，０００ダルトンの分子量を有する高分子安定剤を含まないサスポエマルション製剤（但し、６〜１４モルのエトキシラートを有する、非イオン型の、トリスチリルフェノール−エトキシラート、１４〜１８モルのエトキシラートを有する、その硫酸塩又はリン酸塩の形態の、陰イオン又は酸型のトリスチリルフェノール−エトキシラート、及びジアルキル−スルホサクシネート、の全てを含んで成る製剤を除く）を提供するものである。
【０００９】
前記連続相は、任意の適当な溶媒であってもよく、例えば水、グリコール又はアルコールであるが、好ましくは水である。
【００１０】
本発明の１つの態様において、ＨＰＰＤ−阻害性除草剤はトリケトン、例えば式（Ｉ）の２−（置換ベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン化合物
【化１】
｛ここで、Ｘはハロゲン原子；１若しくは複数の基−ＯＲ1又は１若しくは複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル又はアルコキシ基；あるいはニトロ、シアノ、−ＣＯ2Ｒ2、−Ｓ(Ｏ)mＲ1、−Ｏ(ＣＨ2)rＯＲ1、−ＣＯＲ2、−ＮＲ2Ｒ3、−ＳＯ2ＮＲ2Ｒ3、−ＣＯＮＲ2Ｒ3、−ＣＳＮＲ2Ｒ3及び−ＯＳＯ2Ｒ4から選択された基を表し；
Ｒ1は、１又は複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し；
Ｒ2及びＲ3は各々独立して、水素原子;又は１若しくは複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し;
Ｒ4は１又は複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル、アルケニル又はアルキニル基；あるいは最大６個の炭素原子から成るシクロアルキル基、を表し；
各Ｚは独立して、ハロ、ニトロ、シアノ、Ｓ(Ｏ)mＲ5、ＯＳ(Ｏ)mＲ5、Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルコキシ、Ｃ1-6ハロアルキル、Ｃ1-6ハロアルコキシ、カルボキシ、Ｃ1-6アルキルカルボニルオキシ、Ｃ1-6アルコキシカルボニル、Ｃ1-6アルキルカルボニル、アミノ、Ｃ1-6アルキルアミノ、各アルキル基において独立して規定数の炭素原子を有するＣ1-6ジアルキルアミノ、Ｃ1-6アルキルカルボニルアミノ、Ｃ1-6アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-6アルキルアミノカルボニルアミノ、各アルキル基において独立して規定数の炭素原子を有するＣ1-6ジアルキルアミノカルボニルアミノ、Ｃ1-6アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ1-6アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-6ジアルキルカルボニルオキシ、フェニルカルボニル、置換されたフェニルカルボニル、フェニルカルボニルオキシ、置換されたフェニルカルボニルオキシ、フェニルカルボニルアミノ、置換されたフェニルカルボニルアミノ、フェノキシ又は置換されたフェノキシを表し；
Ｒ5は１又は複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し；
Ｑは各々独立して、Ｃ1-4アルキル又は−ＣＯ2Ｒ6を表し、ここでＲ6はＣ1-4アルキルであり;
ｍは０、１又は２であり；
ｎは０又は１〜４の整数であり;
ｒは１、２又は３であり;そして
ｐは０又は１〜６の整数である｝
である。
【００１１】
適切には、Ｘはクロロ、ブロモ、ニトロ、シアノ、Ｃ1-4アルキル、−ＣＦ3、−Ｓ(Ｏ)mＲ1、又は−ＯＲ1であり；
各Ｚは独立して、クロロ、ブロモ、ニトロ、シアノ、Ｃ1-4アルキル、−ＣＦ3、−ＯＲ1、−ＯＳ(Ｏ)mＲ5又は−Ｓ(Ｏ)mＲ5であり；ｎは１又は２であり；そしてｐは０である。
【００１２】
好ましくは、式（Ｉ）の２−（置換ベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン化合物は、２−(２'−ニトロ−４'−メチルスルホニルベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、２−(２'−ニトロ−４'−メチルスルホニルオキシベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、２−(２'−クロロ−４'−メチルスルホニルベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、４，４−ジメチル−２−(４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、２−（２−クロロ−３−エトキシ−４−メタンスルホニルベンゾイル)−５−メチル−１，３−シクロヘキサンジオン及び２−（２−クロロ−３−エトキシ−４−エタンスルホニルベンゾイル)−５−メチル−１，３−シクロヘキサンジオンから成る群から選択され；最も好ましくは２−(２'−ニトロ−４'−メチルスルホニルベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオンである。
【００１３】
２−（置換ベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオンは、酸（非キレート型）で、又は金属キレートとして存在していてもよい。２−（置換ベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオンの金属キレート型は、金属安定化塩をサスポエマルション製剤に添加することで作ることができる。使用可能である適当な安定化金属塩の例には、カルシウム、ベリリウム、バリウム、チタニウム、マグネシウム、マンガン、亜鉛、鉄、コバルト、ニッケル及び銅の塩が含まれ；最も適当なものはマグネシウム、マンガン、亜鉛、鉄、コバルト、ニッケル及び銅の塩であり；特に好ましいのは銅塩であり、例えば、水酸化銅である。適切には、本発明のサスポエマルション 製剤における安定化金属塩の濃度は０．０１〜４．０％であり、そして好ましくは０．０２〜１．５％である。
【００１４】
本発明の第二の態様において、ＨＰＰＤ−阻害性除草剤は式（ＩＩ）のイソオキサゾール化合物
【化２】
｛ここで、Ｒ7は水素又は−ＣＯ2Ｒ10であり；
Ｒ8はＣ1-4アルキル又は任意にＣ1-6アルキルで置換されているＣ3-6シクロアルキルであり；
Ｒ9は独立してハロゲン、ニトロ、シアノ、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-6アルコキシ、Ｃ1-4ハロアルコキシ、−（ＣＲ11−Ｒ12）cＳ（Ｏ）bＲ13、−Ｓ（Ｏ）bＲ13、−ＯＳＯ2Ｒ13及び−Ｎ（Ｒ14）ＳＯ2Ｒ13から選択され；
あるいは２つの基Ｒ9が、フェニル環の隣接炭素原子上で、それらが結合している炭素原子と一緒に、窒素、酸素及び硫黄から選択される最大３個の環ヘテロ原子を含む５−又は６−員の飽和又は不飽和ヘテロ環であって、ハロゲン、ニトロ、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-4ハロアルコキシ及び−Ｓ（Ｏ）bＲ13から選択される１又は複数の基によって任意に置換されうる環を形成していてもよく、ここで、環内に存在する硫黄原子は基−ＳＯ−又は−ＳＯ2−の形態であってもよい；
Ｒ10はＣ1-4アルキルであり；
Ｒ11及びＲ12は独立して水素又はＣ1-4アルキルであり；
Ｒ13はＣ1-4アルキル、あるいはフェニル又はベンジルであり、フェニル及びベンジルのそれぞれが、ハロゲン、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-4ハロアルコキシ、ニトロ及び−Ｓ（Ｏ）bＣＨ3から成る群から選択される、異なるか又は同一であり得る１〜５個の置換基を任意に有することがあり；
Ｒ14は水素又はＣ1-6アルキルであり；
ａは１〜５の整数であり；
ｂは０、１又は２であり；そして
ｃは１又は２である（ｃが２である場合、基（ＣＲ11Ｒ12）は同一であっても異なっていてもよい）｝
である。
【００１５】
適切には、Ｒ7は水素であり；Ｒ8はシクロプロピルであり；Ｒ9はハロゲン（好ましくはクロロ）、−Ｓ（Ｏ）bＣＨ3、又はＣ1-4ハロアルキル（好ましくはトリフルオロメチル）であり；そしてａは２である。
【００１６】
式（ＩＡ）の特に好ましい化合物は、５−シクロプロピル−４−（２−メチルスルホニル−４−トリフルオロメチル）ベンゾイルイソオキサゾール（イソオキサフルトール）及び４−（２−クロロ−４−メチルスルホニル）ベンゾイル−５−シクロプロピルイソオキサゾール（イソオキサクロルトール）から成る群から選択される。
【００１７】
本発明の第三の態様において、ＨＰＰＤ−阻害性除草剤は式（ＩＩＩ）の化合物
【化３】
（ここで、Ｒ15はＣ1-2アルキル又はクロロであり；Ｒ16は水素又はＣ1-4アルキルであり；そしてＲ17はＣ1-4アルキルである）
である。
【００１８】
適切には、本発明の使用に適したクロロアセトアミドには式（ＩＶ）
【化４】
（ここで、Ｒ18は水素、メチル又はエチルであり；Ｒ19は水素又はエチルであり；Ｒ20は水素又はメチルであり；そしてＲ21はメチル、メトキシ、メトキシメチル、エトキシ、又はブトキシである）
が含まれる。
【００１９】
適切には、前記クロロアセトアミドは、メトラクロール、アセトクロール、及びアラクロールからなる群から選択され、好ましくはメトラクロールであり、そして最も好ましくは、ｓ−メトラクロールである。
【００２０】
適切には、１又は複数の芳香族エトキシラート化合物は、ジ−又はトリ−スチリルフェノールエトキシラート及びそれらの誘導体、例えば、リン酸塩及び硫酸塩並びにそれらの塩から選択される。１又は複数のジ−又はトリ−スチリルフェノールエトキシラート及びそれらの誘導体の例には、限定しないが、エトキシル化トリスチリルフェノール、ポリアリールフェノールエトキシラートの硫酸塩及びリン酸塩が含まれる。これらの硫酸塩及びリン酸塩は、それらの酸の形態で、又は、例えばアンモニウム、トリエタノールアミン等の塩として使用されうる。そのような生成物の例には、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＢＳＵ’、’Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ Ｓ２５’、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＴＳ／１０、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ４Ｄ３８４、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ３Ｄ３３、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＦＬ等が含まれる。
【００２１】
製剤中のＨＰＰＤ−阻害性除草剤の濃度は、適切には１０ｇ ａ．ｉ／リットル〜２００ｇ ａ．ｉ／リットル、好ましくは２５ｇ ａ．ｉ／リットル〜１００ｇ ａ．ｉ／リットルである。製剤中のクロロアセトアミドの濃度は、適切には１００ｇ ａ．ｉ／リットル〜８００ｇ ａ．ｉ／リットル、好ましくは２５０ｇ ａ．ｉ／リットル〜６００ｇ ａ．ｉ／リットルである。サスポエマルション製剤中のエトキシラートの濃度は、適切には５ｇ ａ．ｉ／リットル〜１５０ｇ ａ．ｉ／リットル、好ましくは１０ｇ ａ．ｉ／リットル〜７５ｇ ａ．ｉ／リットルである。適切には、当該製剤は全ａ．ｉのリットル当たり少なくとも３００ｇである。
【００２２】
あらゆるｐＨが本発明の製剤にとって適切でありうるが、酸性範囲内のｐＨが好ましいと考えられ、そして最も好ましくは当該製剤は５以下のｐＨを有する。
【００２３】
本発明のサスポエマルション製剤はまた、任意に、１又は複数の追加の活性成分を含んで成っていてもよい。１又は複数の追加の活性成分は、農薬、例えば、除草剤、殺真菌剤、殺虫剤などであってもよく；あるいは更なる活性成分は、セーフナー（safener）又は解毒剤として知られている化合物のクラスから選択された化合物であってもよい。製剤中の活性成分の濃度は、適切には１ｇ／Ｌ〜５００ｇ／Ｌであり、そして好ましくは２ｇ／Ｌ〜３００ｇ／Ｌである。
【００２４】
本発明の更なる態様において、サスポエマルション製剤は更に追加の活性成分を含んで成り、これは除草剤、例えば、トリアジンとして知られるクラスから選択される除草剤、例えば、アトラジンもしくはテルブチラジン；ホスホナート除草剤、例えば、グリホサートもしくはその塩；ホスフィナート除草剤、例えば、グルホシナート若しくはその塩である。追加の除草剤の濃度は、適切には５ｇ／Ｌ〜５００ｇ／１、そして好ましくは１０ｇ／Ｌ〜３００ｇ／Ｌである。最も好ましくは、追加の除草剤はトリアジン、好ましくはアトラジン又はテルブチラジンである。
【００２５】
本発明の更に追加の態様において、サスポエマルション製剤は、セーフナー又は解毒剤として知られている化合物のクラスから選択される追加の活性成分、例えばベノキサコール、又はジクロルミドを含んで成る。セーフナーの濃度は、適切には１ｇ／Ｌ〜１００ｇ／Ｌであり、そして好ましくは２ｇ／Ｌ〜４０ｇ／Ｌである。
【００２６】
本発明の更に追加の態様において、サスポエマルション製剤は、更に活性成分を少なくとも２つ含んで成り、ここで追加の活性成分の１つは、除草剤、例えば、トリアジン、例えば、アトラジン又はテルブチルアジンであり、そして他の追加の活性成分の少なくとも１つは、セーフナー、例えば、ベノキサコール又はジクロルミドである。
【００２７】
本発明のサスポエマルション製剤はまた、任意に電解質成分を含んで成っていてもよい。用語「電解質成分」とは、溶液中にある場合にイオンを生成する化合物、例えばアルカリ金属、例えばナトリウム、又はアルカリ土類金属、例えばマグネシウムの塩、を意味する。１つの好ましい態様において、当該塩は塩化物、例えば塩化マグネシウムである。第二の好ましい態様において、当該塩は硝酸塩、例えば硝酸アンモニウムである。適切には、本発明のサスポエマルション製剤中の電解質の濃度は０．１〜２００ｇ／Ｌであり、そして適切には１〜５０ｇ／Ｌであり、そして好ましくは１０ｇ／Ｌ未満である。
【００２８】
他の製剤成分は、必要に応じて、サスポエマルションに含めてもよい。そのようなほかの成分は、以下の：結晶化阻害剤、粘度調整剤、スプレー液滴調整剤、色素、抗酸化剤、発泡剤、遮光剤、消泡剤、金属イオン封鎖剤、中和剤、緩衝液、防蝕剤、着臭剤、増粘剤及び凝固点降下剤のうち、いずれも含まないか、一部又は全部を特別な効果を得るために含んでよもよい。
【００２９】
本発明の追加の側面において、(天然の手段によって又は遺伝子組み換えによって１又は複数の除草剤に対して耐性を示す)所望の植物種、の場所の周囲に存在しうる不所望な植物、例えば雑草の成長を制御する方法であって、本発明の製剤をかかる不所望な植物の場所に対して適用することを含んで成る方法が提供される。不所望な植物の例としては、限定されないが、ベルベットリーフ、アオゲイトウ、通常の水性麻（common water hemp）、パルマーアマランス（Palmer amaranth）、アメリカアサガオ、アメリカキンゴジカ、オオブタクサ、ブタクサ、オナモミ、イヌホウズキ、シロアカザ、アメリカサナエタデ、ヒマワリ、チョウセンアサガオ、アメリカツノクサネム、トゲのあるトウダイグサ（toothed spurge）、ユベリヒユ、ヒメシバ、キンエノコロ及びコキアが挙げられる。これら雑草は、１又は複数の除草剤に対して耐性を表しても示さなくても(天然に又は遺伝子組換えのいずれかによって)良い。サスポエマルション製剤は、作物の発芽前又は発芽後のいずれかにおいて適用されて良い。好ましくは、当該製剤は、発芽前に適用される。当該製剤は、空気によって適用されるかあるいは公知の技術の例えば、ハイドロリックノズルスプレーによって地面上に適用されて良い。
【００３０】
本発明のサスポエマルション製剤の１つの利点とは、大多数の条件下、当該製剤をたった一度適用することによって四季を通じて雑草を長期に渡り制御することができることである。
【００３１】
本発明は以下単なる例示のために説明される。
【実施例】
【００３２】
【表１】
【００３３】
実施例１
１．１．プレミックスの調製
１．１．１ Ｓ−メトラクロール油相の調製
重量％
Ｓ−メトラクロール ７５．０
Ｉｓｏｐａｒ Ｌ １５．０
ＮＡＮＳＡ ＥＶＭ６３／Ｂ ５．０
ＡＴＬＯＸ Ｇ ５０００ ５．０
【００３４】
最初にｓ−メトラクロールを充填し；ＭＡＮＳＡ ＥＶＭ６３／Ｂ、Ａｔｌｏｘ Ｇ５０００（予め５０〜６０℃に加熱）及びＩｓｏｐａｒ Ｌを添加する。溶解するまで混合する。
【００３５】
１．１．２ メソトリオンミルベースの調製
重量％
メソトリオン ３５．００
Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ Ｓ／２５ ３．５０
酢酸（８０％） ７．７３
水酸化銅（１００％） ５．０５
消泡剤ＭＳＡ ０．１０
Ｋｅｌｚａｎ ０．１０
硝酸アンモニウム（６０％） ４．３０
水 残余
【００３６】
水、酢酸及び水酸化銅を一緒に混合する。メソトリオンを添加する。硝酸アンモニウム溶液、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ Ｓ／２５（界面活性剤）、消泡剤ＭＳＡ及びＫｅｌｚａｎを添加して均一になるまで混合する。中央粒経が２．５ミクロン未満になるまでスラリーを粉砕する。
【００３７】
１．２ 最終製剤の調製
重量％
メソトリオンミルベース １５．９５
Ｓ−メトラクロール油相 ６２．０
Ｋｅｌｚａｎ ０．０２
プロピレングリコール ４．６５
Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ ０．１９
シリコン油ＤＢ１００化合物 ０．０９
Ａｔｔａｇｅｌ ５０ １．４０
水 残余
【００３８】
最初に水を充填し、プロピレングリコール及びメソトリオンミルベースを添加し、そして均一になるまで混合する。Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ（保存剤）、シリコン油ＤＢ１００化合物（消泡剤）及び増粘剤ゲル（Ｋｅｌｚａｎゲル及びＡｔｔａｇｅｌ５０（クレー及びピロリン酸四ナトリウムを含む水性ゲルの形態））を振とうしながら添加する。乳化した有機相が形成するようにゆっくり油相を添加する。
【００３９】
実施例２
２．１ プレミックスの調製
２．１．１ Ｓ−メトラクロール油相の調製（１．１．１を参照のこと）
２．１．２ メソトリオンミルベースの調製
重量％
メソトリオン ３５．００
Ｂｅｒｏｌ ９２２ ５．７０
酢酸（８０％） ７．７３
水酸化銅（１００％） ５．０５
消泡剤ＭＳＡ ０．１０
Ｋｅｌｚａｎ ０．１０
硝酸アンモニウム（６０％） ４．３０
水 残余
【００４０】
水、酢酸及び水酸化銅を一緒に混合する。メソトリオンを添加する。硝酸アンモニウム溶液、Ｂｅｒｏｌ９２２（非イオン性界面活性剤）、消泡剤ＭＳＡ及びＫｅｌｚａｎを添加して均一になるまで混合する。中央粒経が２．５ミクロン未満になるまでスラリーを粉砕する。
【００４１】
２．２ 最終製剤の調製
重量％
メソトリオンミルベース １５．９５
Ｓ−メトラクロール油相 ６２．０
Ｋｅｌｚａｎ ０．０２
プロピレングリコール ４．６５
Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ ０．１９
シリコン油ＤＢ１００化合物 ０．０９
Ａｔｔａｇｅｌ ５０ １．４０
水 残余
【００４２】
最初に水を充填し、プロピレングリコール及びメソトリオンミルベースを添加し、そして均一になるまで混合する。Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ（保存剤）、シリコン油ＤＢ１００化合物（消泡剤）及び増粘剤ゲル（Ｋｅｌｚａｎゲル及びＡｔｔａｇｅｌ５０（クレー及びピロリン酸四ナトリウムを含む水性ゲルの形態））を振とうしながら添加する。乳化した有機相が形成するようにゆっくり油相を添加する。
【００４３】
実施例３
３．１ プレミックスの調製
３．１．１ Ｓ−メトラクロール油相の調製（１．１．１を参照のこと）
３．１．２ メソトリオンミルベースの調製
メソトリオン ２５．００
Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＢＳＵ ５．７０
酢酸（８０％） ７．７０
水酸化銅（１００％） ３．６
消泡剤ＭＳＡ ０．１０
Ｋｅｌｚａｎ ０．１０
水 残余
【００４４】
水、酢酸及び水酸化銅を一緒に混合する。メソトリオン、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＢＳＵ（界面活性剤）、消泡剤ＭＳＡ及びＫｅｌｚａｎを添加して均一になるまで混合する。中央粒経が２．５ミクロン未満になるまでスラリーを粉砕する。
【００４５】
３．２ 最終製剤の調製
重量％
メソトリオンミルベース １５．９５
Ｓ−メトラクロール油相 ６２．０
Ｋｅｌｚａｎ ０．０２
プロピレングリコール ４．６５
Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ ０．１９
シリコン油ＤＢ１００化合物 ０．０９
Ａｔｔａｇｅｌ ５０ １．４０
水 残余
【００４６】
最初に水を充填し、プロピレングリコール及びメソトリオンミルベースを添加し、そして均一になるまで混合する。Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ（保存剤）、シリコン油ＤＢ１００化合物（消泡剤）及び増粘剤ゲル（Ｋｅｌｚａｎゲル及びＡｔｔａｇｅｌ５０（クレー及びピロリン酸四ナトリウムを含む水性ゲルの形態））を振とうしながら添加する。乳化した有機相が形成するようにゆっくり油相を添加する。
【００４７】
実施例４
４．１ プレミックスの調製
４．１．１ Ｓ−メトラクロール油相の調製（１．１．１を参照のこと）
４．１．２ メソトリオンミルベースの調製
重量％
メソトリオン ３５．００
Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ４Ｄ３８４ ５．７０
酢酸（８０％） ７．７３
水酸化銅（１００％） ５．０５
消泡剤ＭＳＡ ０．１０
Ｋｅｌｚａｎ ０．１０
硝酸アンモニウム（６０％） ４．３０
水 残余
【００４８】
水、酢酸及び水酸化銅を一緒に混合する。メソトリオンを添加する。硝酸アンモニウム、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ４Ｄ３８４（イオン性界面活性剤）、消泡剤ＭＳＡ及びＫｅｌｚａｎを添加して均一になるまで混合する。中央粒経が２．５ミクロン未満になるまでスラリーを粉砕する。
【００４９】
４．２ 最終製剤の調製
重量％
メソトリオンミルベース １５．９５
Ｓ−メトラクロール油相 ６２．０
Ｋｅｌｚａｎ ０．０２
プロピレングリコール ４．６５
Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ ０．１９
シリコン油ＤＢ１００化合物 ０．０９
Ａｔｔａｇｅｌ ５０ １．４０
水 残余
【００５０】
最初に水を充填し、プロピレングリコール及びメソトリオンミルベースを添加し、そして均一になるまで混合する。Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ（保存剤）、シリコン油ＤＢ１００化合物（消泡剤）及び増粘剤ゲル（Ｋｅｌｚａｎゲル及びＡｔｔａｇｅｌ５０（クレー及びピロリン酸四ナトリウムを含む水性ゲルの形態））を振とうしながら添加する。乳化した有機相が形成するようにゆっくり油相を添加する。
【００５１】
実施例５
５．１ プレミックスの調製
５．１．１ Ｓ−メトラクロール油相の調製（１．１．１を参照のこと）
５．１．２ メソトリオンミルベースの調製
重量％
メソトリオン ２５．００
Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＦＬ ５．７０
酢酸（８０％） ７．７０
水酸化銅（１００％） ５．０５
消泡剤ＭＳＡ ０．１０
Ｋｅｌｚａｎ ０．１０
水 残余
【００５２】
水、酢酸及び水酸化銅を一緒に混合する。メソトリオンを添加する。Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＦＬ（界面活性剤）、消泡剤ＭＳＡ及びＫｅｌｚａｎを添加して均一になるまで混合する。中央粒経が２．５ミクロン未満になるまでスラリーを粉砕する。
【００５３】
５．２ 最終製剤の調製
重量％
メソトリオンミルベース ２２．３
Ｓ−メトラクロール油相 ６２．０
Ｋｅｌｚａｎ ０．０２
プロピレングリコール ４．６５
Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ ０．１９
シリコン油ＤＢ１００化合物 ０．０９
Ａｔｔａｇｅｌ ５０ １．４０
水 残余
【００５４】
最初に水を充填し、プロピレングリコール及びメソトリオンミルベースを添加し、そして均一になるまで混合する。Ｐｒｏｘｅｌ ＧＸＬ（保存剤）、シリコン油ＤＢ１００化合物（消泡剤）及び増粘剤ゲル（Ｋｅｌｚａｎゲル及びＡｔｔａｇｅｌ５０（クレー及びピロリン酸四ナトリウムを含む水性ゲルの形態））を振とうしながら添加する。乳化した有機相が形成するようにゆっくり油相を添加する。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１０，０００〜１，０００，０００ダルトンの分子量を有する高分子安定剤を含まない、化学的且つ物理的に安定なサスポエマルション製剤であって：
（ｉ）連続相、
（ｉｉ）当該連続相に不溶性のＨＰＰＤ−阻害性除草剤、
（ｉｉｉ）クロロアセトアミド、及び
（ｉｖ）１又は複数の芳香族エトキシラート化合物又はその誘導体、
を含んで成り、
但し、６〜１４モルのエトキシラートを有する、非イオン型の、トリスチリルフェノール−エトキシラート、１４〜１８モルのエトキシラートを有する、その硫酸塩又はリン酸塩の形態の、陰イオン又は酸型のトリスチリルフェノール−エトキシラート、及びジアルキル−スルホサクシネート、の全てを含んで成る製剤を除く、サスポエマルション製剤。
【請求項２】
連続相が水、グリコール又はアルコールから成る群から選択される、請求項１に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項３】
ＨＰＰＤ−阻害性除草剤が式（Ｉ）の化合物
【化１】
｛ここで、Ｘはハロゲン原子；１若しくは複数の基−ＯＲ1又は１若しくは複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル又はアルコキシ基；あるいはニトロ、シアノ、−ＣＯ2Ｒ2、−Ｓ(Ｏ)mＲ1、−Ｏ(ＣＨ2)rＯＲ1、−ＣＯＲ2、−ＮＲ2Ｒ3、−ＳＯ2ＮＲ2Ｒ3、−ＣＯＮＲ2Ｒ3、−ＣＳＮＲ2Ｒ3及び−ＯＳＯ2Ｒ4から選択された基を表し；
Ｒ1は、１又は複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し；
Ｒ2及びＲ3は各々独立して、水素原子;又は１若しくは複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し;
Ｒ4は１又は複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル、アルケニル又はアルキニル基；あるいは最大６個の炭素原子から成るシクロアルキル基、を表し；
各Ｚは独立して、ハロ、ニトロ、シアノ、Ｓ(Ｏ)mＲ5、ＯＳ(Ｏ)mＲ5、Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルコキシ、Ｃ1-6ハロアルキル、Ｃ1-6ハロアルコキシ、カルボキシ、Ｃ1-6アルキルカルボニルオキシ、Ｃ1-6アルコキシカルボニル、Ｃ1-6アルキルカルボニル、アミノ、Ｃ1-6アルキルアミノ、各アルキル基において独立して規定数の炭素原子を有するＣ1-6ジアルキルアミノ、Ｃ1-6アルキルカルボニルアミノ、Ｃ1-6アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-6アルキルアミノカルボニルアミノ、各アルキル基において独立して規定数の炭素原子を有するＣ1-6ジアルキルアミノカルボニルアミノ、Ｃ1-6アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ1-6アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-6ジアルキルカルボニルオキシ、フェニルカルボニル、置換されたフェニルカルボニル、フェニルカルボニルオキシ、置換されたフェニルカルボニルオキシ、フェニルカルボニルアミノ、置換されたフェニルカルボニルアミノ、フェノキシ又は置換されたフェノキシを表し；
Ｒ5は１又は複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し；
Ｑは各々独立して、Ｃ1-4アルキル又は−ＣＯ2Ｒ6を表し、ここでＲ6はＣ1-4アルキルであり;
ｍは０、１又は２であり；
ｎは０又は１〜４の整数であり;
ｒは１、２又は３であり;そして
ｐは０又は１〜６の整数である｝
である、請求項１又は２に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項４】
Ｘがクロロ、ブロモ、ニトロ、シアノ、Ｃ1-4アルキル、−ＣＦ3、−Ｓ(Ｏ)mＲ1、又は−ＯＲ1であり；各Ｚが独立して、クロロ、ブロモ、ニトロ、シアノ、Ｃ1-4アルキル、−ＣＦ3、−ＯＲ1、−ＯＳ(Ｏ)mＲ5又は−Ｓ(Ｏ)mＲ5であり；ｎは１又は２であり；そしてｐは０である。請求項３に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項５】
式（Ｉ）の２−（置換ベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオンが、２−(２'−ニトロ−４'−メチルスルホニルベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、２−(２'−ニトロ−４'−メチルスルホニルオキシベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、２−(２'−クロロ−４'−メチルスルホニルベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、４，４−ジメチル−２−(４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、２−（２−クロロ−３−エトキシ−４−メタンスルホニルベンゾイル)−５−メチル−１，３−シクロヘキサンジオン及び２−（２−クロロ−３−エトキシ−４−エタンスルホニルベンゾイル)−５−メチル−１，３−シクロヘキサンジオンから成る群から選択される、請求項３又は４に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項６】
２−（置換ベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオンが２−(２'−ニトロ−４'−メチルスルホニルベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオンである、請求項５に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項７】
ＨＰＰＤ−阻害性除草剤が式（ＩＩ）のイソオキサゾール化合物
【化２】
｛ここで、Ｒ7はハロゲン又は−ＣＯ2Ｒ10であり；
Ｒ8はＣ1-4アルキル又は任意にＣ1-6アルキルで置換されているＣ3-6シクロアルキルであり；
Ｒ9は独立してハロゲン、ニトロ、シアノ、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-6アルコキシ、Ｃ1-4ハロアルコキシ、−（ＣＲ11−Ｒ12）cＳ（Ｏ）bＲ13、−Ｓ（Ｏ）bＲ13、−ＯＳＯ2Ｒ13及び−Ｎ（Ｒ14）ＳＯ2Ｒ13から選択され；
あるいは２つの基Ｒ9が、フェニル環の隣接炭素原子上で、それらが結合している炭素原子と一緒に、窒素、酸素及び硫黄から選択される最大３個の環ヘテロ原子を含む５−又は６−員の飽和又は不飽和ヘテロ環であって、ハロゲン、ニトロ、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-4ハロアルコキシ及び−Ｓ（Ｏ）bＲ13から選択される１又は複数の基によって任意に置換されうる環を形成していてもよく、ここで、環内に存在する硫黄原子は基−ＳＯ−又は−ＳＯ2−の形態であってもよい；
Ｒ10はＣ1-4アルキルであり；
Ｒ11及びＲ12は独立して水素又はＣ1-4アルキルであり；
Ｒ13はＣ1-4アルキル、あるいはフェニル又はベンジルであり、フェニル及びベンジルのそれぞれが、ハロゲン、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-4ハロアルコキシ、ニトロ及び−Ｓ（Ｏ）bＣＨ3から成る群から選択される、異なるか又は同一であり得る１〜５個の置換基を任意に有することがあり；
Ｒ14は水素又はＣ1-6アルキルであり；
ａは１〜５の整数であり；
ｂは０、１又は２であり；そして
ｃは１又は２である（ｃが２である場合、基（ＣＲ11Ｒ12）は同一であっても異なっていてもよい）｝
である、請求項１又は２に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項８】
Ｒ7が水素であり；Ｒ8がシクロプロピルであり；Ｒ9がハロゲン（好ましくはクロロ）、−Ｓ（Ｏ）bＣＨ3、又はＣ1-4ハロアルキル（好ましくはトリフルオロメチル）であり；そしてａは２である、請求項７に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項９】
イソオキサゾール化合物が５−シクロプロピル−４−（２−メチルスルホニル−４−トリフルオロメチル）ベンゾイルイソオキサゾール（イソオキサフルトール）及び４−（２−クロロ−４−メチルスルホニル）ベンゾイル−５−シクロプロピルイソオキサゾール（イソオキサクロルトール）から成る群から選択される、請求項７又は８に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１０】
ＨＰＰＤ−阻害性除草剤が式（ＩＩＩ）の化合物
【化３】
（ここで、Ｒ15はＣ1-2アルキル又はクロロであり；Ｒ16は水素又はＣ1-4アルキルであり；そしてＲ17はＣ1-4アルキルである）
である、請求項１又は２に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１１】
クロロアセトアミドが式（ＩＶ）の化合物
【化４】
（ここで、Ｒ18は水素、メチル又はエチルであり；Ｒ19は水素又はエチルであり；Ｒ20は水素又はメチルであり；そしてＲ21はメチル、メトキシ、メトキシメチル、エトキシ、又はブトキシである）
である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１２】
芳香族エトキシラート化合物がジ−又はトリ−スチリルフェノールエトキシラート並びにそれらのリン酸塩、硫酸塩及び塩から選択される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１３】
５以下のｐＨを有する、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１４】
除草剤、殺真菌剤、殺虫剤、セーフナー（safener）及び解毒剤から成る群から選択される１又は複数の追加の活性成分を更に含んで成る、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１５】
追加の活性成分がトリアジン除草剤である、請求項１４に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１６】
追加の活性成分がセーフナー又は解毒剤である、請求項１４に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１７】
追加の活性成分が少なくとも１つのトリアジン除草剤及びセーフナー又は解毒剤化合物を含んで成る、請求項１４に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１８】
電解質成分を更に含んで成る、請求項１〜１７のいずれか１項に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１９】
不所望な植物の成長を制御する方法であって、請求項１〜１８のいずれか１項に記載のサスポエマルション製剤を前記不所望な植物の場所に対して適用することを含んで成る方法。
【請求項１】
１０，０００〜１，０００，０００ダルトンの分子量を有する高分子安定剤を含まない、化学的且つ物理的に安定なサスポエマルション製剤であって：
（ｉ）連続相、
（ｉｉ）当該連続相に不溶性のＨＰＰＤ−阻害性除草剤、
（ｉｉｉ）クロロアセトアミド、及び
（ｉｖ）１又は複数の芳香族エトキシラート化合物又はその誘導体、
を含んで成り、
但し、６〜１４モルのエトキシラートを有する、非イオン型の、トリスチリルフェノール−エトキシラート、１４〜１８モルのエトキシラートを有する、その硫酸塩又はリン酸塩の形態の、陰イオン又は酸型のトリスチリルフェノール−エトキシラート、及びジアルキル−スルホサクシネート、の全てを含んで成る製剤を除く、サスポエマルション製剤。
【請求項２】
連続相が水、グリコール又はアルコールから成る群から選択される、請求項１に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項３】
ＨＰＰＤ−阻害性除草剤が式（Ｉ）の化合物
【化１】
｛ここで、Ｘはハロゲン原子；１若しくは複数の基−ＯＲ1又は１若しくは複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル又はアルコキシ基；あるいはニトロ、シアノ、−ＣＯ2Ｒ2、−Ｓ(Ｏ)mＲ1、−Ｏ(ＣＨ2)rＯＲ1、−ＣＯＲ2、−ＮＲ2Ｒ3、−ＳＯ2ＮＲ2Ｒ3、−ＣＯＮＲ2Ｒ3、−ＣＳＮＲ2Ｒ3及び−ＯＳＯ2Ｒ4から選択された基を表し；
Ｒ1は、１又は複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し；
Ｒ2及びＲ3は各々独立して、水素原子;又は１若しくは複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し;
Ｒ4は１又は複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル、アルケニル又はアルキニル基；あるいは最大６個の炭素原子から成るシクロアルキル基、を表し；
各Ｚは独立して、ハロ、ニトロ、シアノ、Ｓ(Ｏ)mＲ5、ＯＳ(Ｏ)mＲ5、Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルコキシ、Ｃ1-6ハロアルキル、Ｃ1-6ハロアルコキシ、カルボキシ、Ｃ1-6アルキルカルボニルオキシ、Ｃ1-6アルコキシカルボニル、Ｃ1-6アルキルカルボニル、アミノ、Ｃ1-6アルキルアミノ、各アルキル基において独立して規定数の炭素原子を有するＣ1-6ジアルキルアミノ、Ｃ1-6アルキルカルボニルアミノ、Ｃ1-6アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ1-6アルキルアミノカルボニルアミノ、各アルキル基において独立して規定数の炭素原子を有するＣ1-6ジアルキルアミノカルボニルアミノ、Ｃ1-6アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ1-6アルキルアミノカルボニルオキシ、Ｃ1-6ジアルキルカルボニルオキシ、フェニルカルボニル、置換されたフェニルカルボニル、フェニルカルボニルオキシ、置換されたフェニルカルボニルオキシ、フェニルカルボニルアミノ、置換されたフェニルカルボニルアミノ、フェノキシ又は置換されたフェノキシを表し；
Ｒ5は１又は複数のハロゲン原子によって任意に置換されている最大６個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し；
Ｑは各々独立して、Ｃ1-4アルキル又は−ＣＯ2Ｒ6を表し、ここでＲ6はＣ1-4アルキルであり;
ｍは０、１又は２であり；
ｎは０又は１〜４の整数であり;
ｒは１、２又は３であり;そして
ｐは０又は１〜６の整数である｝
である、請求項１又は２に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項４】
Ｘがクロロ、ブロモ、ニトロ、シアノ、Ｃ1-4アルキル、−ＣＦ3、−Ｓ(Ｏ)mＲ1、又は−ＯＲ1であり；各Ｚが独立して、クロロ、ブロモ、ニトロ、シアノ、Ｃ1-4アルキル、−ＣＦ3、−ＯＲ1、−ＯＳ(Ｏ)mＲ5又は−Ｓ(Ｏ)mＲ5であり；ｎは１又は２であり；そしてｐは０である。請求項３に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項５】
式（Ｉ）の２−（置換ベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオンが、２−(２'−ニトロ−４'−メチルスルホニルベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、２−(２'−ニトロ−４'−メチルスルホニルオキシベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、２−(２'−クロロ−４'−メチルスルホニルベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、４，４−ジメチル−２−(４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオン、２−（２−クロロ−３−エトキシ−４−メタンスルホニルベンゾイル)−５−メチル−１，３−シクロヘキサンジオン及び２−（２−クロロ−３−エトキシ−４−エタンスルホニルベンゾイル)−５−メチル−１，３−シクロヘキサンジオンから成る群から選択される、請求項３又は４に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項６】
２−（置換ベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオンが２−(２'−ニトロ−４'−メチルスルホニルベンゾイル)−１，３−シクロヘキサンジオンである、請求項５に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項７】
ＨＰＰＤ−阻害性除草剤が式（ＩＩ）のイソオキサゾール化合物
【化２】
｛ここで、Ｒ7はハロゲン又は−ＣＯ2Ｒ10であり；
Ｒ8はＣ1-4アルキル又は任意にＣ1-6アルキルで置換されているＣ3-6シクロアルキルであり；
Ｒ9は独立してハロゲン、ニトロ、シアノ、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-6アルコキシ、Ｃ1-4ハロアルコキシ、−（ＣＲ11−Ｒ12）cＳ（Ｏ）bＲ13、−Ｓ（Ｏ）bＲ13、−ＯＳＯ2Ｒ13及び−Ｎ（Ｒ14）ＳＯ2Ｒ13から選択され；
あるいは２つの基Ｒ9が、フェニル環の隣接炭素原子上で、それらが結合している炭素原子と一緒に、窒素、酸素及び硫黄から選択される最大３個の環ヘテロ原子を含む５−又は６−員の飽和又は不飽和ヘテロ環であって、ハロゲン、ニトロ、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-4ハロアルコキシ及び−Ｓ（Ｏ）bＲ13から選択される１又は複数の基によって任意に置換されうる環を形成していてもよく、ここで、環内に存在する硫黄原子は基−ＳＯ−又は−ＳＯ2−の形態であってもよい；
Ｒ10はＣ1-4アルキルであり；
Ｒ11及びＲ12は独立して水素又はＣ1-4アルキルであり；
Ｒ13はＣ1-4アルキル、あるいはフェニル又はベンジルであり、フェニル及びベンジルのそれぞれが、ハロゲン、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-4ハロアルキル、Ｃ1-4ハロアルコキシ、ニトロ及び−Ｓ（Ｏ）bＣＨ3から成る群から選択される、異なるか又は同一であり得る１〜５個の置換基を任意に有することがあり；
Ｒ14は水素又はＣ1-6アルキルであり；
ａは１〜５の整数であり；
ｂは０、１又は２であり；そして
ｃは１又は２である（ｃが２である場合、基（ＣＲ11Ｒ12）は同一であっても異なっていてもよい）｝
である、請求項１又は２に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項８】
Ｒ7が水素であり；Ｒ8がシクロプロピルであり；Ｒ9がハロゲン（好ましくはクロロ）、−Ｓ（Ｏ）bＣＨ3、又はＣ1-4ハロアルキル（好ましくはトリフルオロメチル）であり；そしてａは２である、請求項７に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項９】
イソオキサゾール化合物が５−シクロプロピル−４−（２−メチルスルホニル−４−トリフルオロメチル）ベンゾイルイソオキサゾール（イソオキサフルトール）及び４−（２−クロロ−４−メチルスルホニル）ベンゾイル−５−シクロプロピルイソオキサゾール（イソオキサクロルトール）から成る群から選択される、請求項７又は８に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１０】
ＨＰＰＤ−阻害性除草剤が式（ＩＩＩ）の化合物
【化３】
（ここで、Ｒ15はＣ1-2アルキル又はクロロであり；Ｒ16は水素又はＣ1-4アルキルであり；そしてＲ17はＣ1-4アルキルである）
である、請求項１又は２に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１１】
クロロアセトアミドが式（ＩＶ）の化合物
【化４】
（ここで、Ｒ18は水素、メチル又はエチルであり；Ｒ19は水素又はエチルであり；Ｒ20は水素又はメチルであり；そしてＲ21はメチル、メトキシ、メトキシメチル、エトキシ、又はブトキシである）
である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１２】
芳香族エトキシラート化合物がジ−又はトリ−スチリルフェノールエトキシラート並びにそれらのリン酸塩、硫酸塩及び塩から選択される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１３】
５以下のｐＨを有する、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１４】
除草剤、殺真菌剤、殺虫剤、セーフナー（safener）及び解毒剤から成る群から選択される１又は複数の追加の活性成分を更に含んで成る、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１５】
追加の活性成分がトリアジン除草剤である、請求項１４に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１６】
追加の活性成分がセーフナー又は解毒剤である、請求項１４に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１７】
追加の活性成分が少なくとも１つのトリアジン除草剤及びセーフナー又は解毒剤化合物を含んで成る、請求項１４に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１８】
電解質成分を更に含んで成る、請求項１〜１７のいずれか１項に記載のサスポエマルション製剤。
【請求項１９】
不所望な植物の成長を制御する方法であって、請求項１〜１８のいずれか１項に記載のサスポエマルション製剤を前記不所望な植物の場所に対して適用することを含んで成る方法。
【公表番号】特表２００７−５２９４４０（Ｐ２００７−５２９４４０Ａ）
【公表日】平成１９年１０月２５日（２００７．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−５０３２２４（Ｐ２００７−５０３２２４）
【出願日】平成１７年３月３日（２００５．３．３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００５／００２２２９
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０８９５４８
【国際公開日】平成１７年９月２９日（２００５．９．２９）
【出願人】（５００５８４３０９）シンジェンタ パーティシペーションズ アクチェンゲゼルシャフト (352)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１９年１０月２５日（２００７．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年３月３日（２００５．３．３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００５／００２２２９
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０８９５４８
【国際公開日】平成１７年９月２９日（２００５．９．２９）
【出願人】（５００５８４３０９）シンジェンタ パーティシペーションズ アクチェンゲゼルシャフト (352)
【Ｆターム（参考）】
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