ＩＤカード、及びその製造方法
【課題】 ＩＤカード表面に熱転写方式により設けられる保護層の転写性を良好にする。
【解決手段】 矩形のカード基材と、カード基材上に設けられた情報記録層と、カード基材の端部からカード基材の隣接する二辺の合計の長さの１／１４００ないし１／１４の幅以内の周縁領域の少なくとも１部にオフセット印刷された、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有する紫外線硬化型インキ層と、情報記録層及び紫外線硬化型インキ層を介して該カード基材上に熱転写された保護層とを具備するＩＤカード。
【解決手段】 矩形のカード基材と、カード基材上に設けられた情報記録層と、カード基材の端部からカード基材の隣接する二辺の合計の長さの１／１４００ないし１／１４の幅以内の周縁領域の少なくとも１部にオフセット印刷された、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有する紫外線硬化型インキ層と、情報記録層及び紫外線硬化型インキ層を介して該カード基材上に熱転写された保護層とを具備するＩＤカード。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、ＩＤカードに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、自動車運転免許証や従業員証等、資格所有者本人の確認が必要なＩＤカード類に、熱溶融転写型記録を用いて氏名・住所・生年月日等の個人文字情報、パターン情報または、顔写真を記録したプラスチックＩＤカードが実用されている。
【０００３】
このようなＩＤカードの製造においては、一般的にカードサイズよりも大きい大判シートを複数層用いて熱プレスを施し、カードの厚さを整えた後、カードの型を用いて打ち抜きプレス機により打ち抜き、カードを形成することができる。
【０００４】
その後、罫線、共通模様などの共通情報を印刷したプラスチックカードに、各カード個別の写真情報、文字情報、パターン情報を記録し、更に、カード全体を破損や偽造から防護するために、最表面に、透明な保護層を形成する。
【０００５】
この保護層を熱転写方式により形成する際に、ＩＤカード製造時に発生するバリやダレなどのカード端面及び側面の形状に起因する転写欠けが発生するという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−３４５３５０号公報
【特許文献２】特開２０１０−７６３９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
実施形態は、ＩＤカード表面に熱転写方式により設けられる保護層の転写性を良好にすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
実施形態によれば、矩形のカード基材と、
カード基材上に設けられた情報記録層と、
該カード基材の端部から該カード基材の隣接する二辺の合計の長さの１／１４００ないし１／１４の幅以内の周縁領域の少なくとも１部にオフセット印刷された、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有する紫外線硬化型インキ層と、
該情報記録層及び紫外線硬化型インキ層を介して該カード基材上に熱転写された保護層とを具備するＩＤカードが提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施形態のＩＤカードの一例を表す正面図である。
【図２】実施形態のＩＤカードの一例を表す断面図である。
【図３】実施形態のＩＤカードの他の一例を表す断面図である。
【図４】実施形態のＩＤカードの製造の一例を表すフローである。
【図５】実施形態に用いられるオフセット印刷機の例を表す図である
【図６】実施形態に用いられる原版の一例を表す図である。
【図７】実施形態のＩＤカードの製造工程の一例表す図である。
【図８】実施形態に用いられる原版の他の一例を表す図である。
【図９】実施形態のＩＤカードの製造工程の他の一例表す図である。
【図１０】実施形態に用いられる原版のさらに他の一例を表す図である。
【図１１】実施形態に用いられる原版のさらにまた他の一例を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、実施形態について、図面を参照して説明する。
【００１１】
図１に、実施形態のＩＤカードの一例を表す正面図を示す。
【００１２】
図２に、図１のＸ−Ｘ断面を表す模式図を示す。
【００１３】
図１に示すように、実施形態にかかるＩＤカード１０は、ポリビニルブチラール樹脂をイソシアネート化合物で硬化させた受像層１２で被覆された、四隅に丸み形状を持つ矩形のカード基材と、カード基材上には昇華型インクにより形成された人物画像層、熱転写型黒インクなどの情報記録層１４が設けられている。
【００１４】
図２に示すように、受像層１２で被覆されたカード基材１１の端部からカード基材の隣接する二辺の合計の長さの１／１４００ないし１／１４の幅以内の周縁領域の少なくとも１部として、カード基材１１の端面上に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有する無色透明の紫外線（ＵＶ）硬化型インキ層１３がオフセット印刷されている。さらに、情報記録層及びＵＶ硬化型インキ層を介して受像層１２で被覆されたカード基材１１上に保護層１５が熱転写されている。紫外線（ＵＶ）硬化型インキ層１３を設けることにより、ＩＤカードの製造時に発生するバリやダレなどのカード表面及び側面の形状に起因する保護層の転写欠けが発生し難くなる。
【００１５】
カード基材として、例えば縦５４ｍｍ×横８６ｍｍ×厚さ０．７８ｍｍのＰＥＴ製カード基材を用いることが出来る。
【００１６】
このとき、周縁領域の幅は、０．１ｍｍないし１０ｍｍにすることができる。
【００１７】
例えば０．１ｍｍ未満というようなカードの端部からの距離が短い場合には、保護層の転写欠けを防止する効果が低下し得る。
【００１８】
カード端部からある程度の距離、例えば１０ｍｍを超えると、情報記録層等を印刷するための有効領域が狭くなり、かつ情報記録層等の印刷品質が低下する傾向がある。
【００１９】
また、図３に、実施形態のＩＤカードの他の一例の断面を表す模式図を示す。
【００２０】
図示するように、このＩＤカードは、カード基材１１の端面上のみならず、カード基材１１側面に亘り、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有する無色透明の紫外線（ＵＶ）硬化型インキ層がオフセット印刷されていること以外は、図２と同様の構成を有する。
【００２１】
このような構成を有することにより、図２に示す構成のＩＤカードと比較して、ＩＤカードの製造時に発生するバリやダレなどのカード表面及び側面の形状に起因する保護層の転写欠けが、さらに発生し難くなるという利点がある。
【００２２】
図４に、実施形態にかかるＩＤカードの製造方法の一例を表すフローを示す。
【００２３】
図示するように、このＩＤカードの製造方法では、まず、矩形のカード基材上に、情報記録層を形成する（ブロック１）、カード基材の端部からカード基材の隣接する二辺の合計の長さの１／１４００ないし１／１４の幅以内の周縁領域の少なくとも１部に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有する紫外線硬化型インキ層をオフセット印刷により形成ｄ（ブロック２）、情報記録層及び紫外線硬化型インキ層を介してカード基材上に保護層を熱転写する（ブロック３）。
【００２４】
実施形態に使用されるビスフェノールＡ型エポキシ樹脂は、一般に熱溶融転写型リボンインキ及びＵＶ硬化オフセットインキ中のオリゴマーやモノマーとの親和性が良く、且つ、ＵＶ硬化オフセットインキ中に含有されるＵＶ反応開始剤と共存状態でＵＶ照射を行っても重合反応を起さず、また、ＵＶ硬化性オリゴマー、モノマーの重合反応を阻害もしない。
このためＵＶ照射によりＵＶ硬化オフセットインキ中に含有されるＵＶ硬化性オリゴマー、モノマーが十分に硬化しても、ＵＶ硬化オリゴマーやモノマーにより形成される３次元網目構造の中にビスフェノールＡ型エポキシ樹脂はそのままの状態で残ることになる。
ＩＤカード表面上に保護膜を熱圧着、熱溶融し硬化したＵＶ硬化型オフセットインキパターンに接触するとき、それぞれの溶融物が、硬化したＵＶ硬化型オフセットインキパターン中に分布するビスフェノールＡ型エポキシ樹脂と相溶することにより、高い接着性が得られる。
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては基本液状タイプ、基本固体タイプがあるが、実施形態に使用するためには、ベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキへの常温での均一混合が必要なため常温粘度で９〜１５０ポイズの基本液状タイプが望ましい。
これ以下の粘度域のではＵＶ硬化オフセットインキのＵＶ硬化後の基材に対する接着強度の低下、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の浸みだしのある場合がある。含有希釈剤が有る場合には更にこの傾向が顕著になる。
【００２５】
また、基本固形タイプを使用する場合は、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂及びベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキの両者をビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の溶融温度まで上昇させた後に混合する必要がある。
なお、上記基本液状タイプであってもかなりの高い粘度のため、ベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキとの混合性があまり良くない。このため、更に、寒天状のもので、シリコーンなどの離型性をもった（コンパウンド）（腰切り剤）またはモノマーからなる（レジューサ）（希釈剤）の添加を行なうことにより高い均一混合性が得られる。コンパウンドインキ（腰切り剤）又はレジューサ（希釈剤）の添加量は通常の推奨範囲内での使用が望ましい。
このとき、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を一旦、コンパウンドインキ（腰切り剤）又はレジューサ（希釈剤）と混合させ、粘度を低下させた後、ベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキと混合させることが混合均一性を更に向上させることとなる。
インキの混合方法は、極少量の場合はヘラで練る方法で良いが、通常の量では攪拌羽根による混合、または容器を回転（時公転）させる方式が有効である。
上記ＵＶ硬化型オフセットインキとしては、例えば Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製のＵＶ ＶＥＣＴＡカートン シリーズ、ＵＶ Ｌカートン シリーズ、ＵＶ ＶＥＣＴＡカートン ハイブラック、ＵＶ Ｌ ＳＷ 墨 シリーズ、ＵＶ ＥＰ シリーズ、ＵＶ ＯＦＳ−ＬＥＤ シリーズ、ＵＶ ＶＮＬ−ＬＥＤ シリーズ、ＵＶ ＢＦ シリーズ、ＵＶ １６１ シリーズ、ＵＶ １６１ ハイコンクブラック、ＵＶ １６１ 静電防止 ＯＰニス Ｓ、ＵＶ １６１ 墨 Ｓ−ＭＰ、ＵＶ ＶＮＬ シリーズ、ＵＶ ＶＮＬ ＲＩＣＥシリーズ、ＵＶ ＶＰ シリーズ、ＵＶ ＳＴＰ シリーズ、ＵＶ ＳＴＰ シリーズ、Ｎｏ．２ ＵＶ ＳＯＹＡ シリーズ、Ｎｏ．２ ＵＶ ＳＯＹＡ−ＲＮＣ、ＵＶ ＳＯＹＡ ＨＹ−ＢＤ シリーズ、ＵＶ ＳＯＹＡ−ＮＶＲ、ＵＶ ＲＮＣ シリーズ、Ｎｏ．２ ＵＶ ＳＯＹＡ−ＲＮＣ、ＵＶ フラッシュリード 墨、ＵＶ フラッシュライト対応 墨 シリーズ、ＵＶ ＮＶＲ シリーズ、ＵＶ ＮＶＲ Ｎｏ．２ シリーズ、ＵＶ ＳＯＹＡ−ＮＶＲ、ＵＶ フラッシュライト対応 墨 シリーズ、ＵＶ ＯＬＳＤ シリーズ、ＵＶ １７１ シリーズ、ＵＶ １７１ ＣＴ 各色 Ｍ−ＮＷ、ＵＶ Ｓ シリーズ、ＵＶ ＣＭ シリーズ、ＵＶ ＫＳ シリーズ、ＵＶ ＣＭ マーク墨 Ｓ−２、ＵＶ ＳＡ シリーズ、ＵＶ ＫＳ ＮＳ シリーズ、ＵＶ ＫＦＩ シリーズ、ＵＶ フレキソ ５００ シリーズ、ＵＶ ＬＳ−Ｎフレキソ ＰＨＡ−ＬＯ シリーズ、ＵＶ ＬＳフレキソ ＰＨＡ−ＬＯ３ シリーズ、ＵＶ フレキソ ＰＨＡ シリーズ、ＵＶ フレキソ ゴールド ＆ シルバー ５００Ｓ、ＵＶ ロータリースクリーン シリーズ、ＵＶ ゴールド ＭＧ、ＵＶ ゴールド ＴＫ-ＳＯ、ＵＶ Ｎｏ．３ シルバー、ＵＶ シルバー ＴＫ-ＳＯ、ＵＶ ウルトラパール、ＵＶ 蛍光 Ｐ シリーズ、ＵＶ 蛍光−ＳＥ シリーズや、東洋インキ製のＦ非吸収原反用 ＦＤ ＴＣ ＯＰニス、ＦＤ Ｏ ニュー 各色 ＨＦ１、フレキソ印刷用 ＦＤ ＦＬシリーズ、フォーム印刷用 ＦＤ フォーム Ｘ各色、シール印刷用 ＦＤ Ｓ 多色 ＯＰニス ＴＫ、ＦＤ Ｓ 各色 ＴＫ、カルトン印刷用 ＦＤ ＯＬＰ 多色ＯＰニス Ｍ１、ＦＤ カルトン ＡＣＥ ＯＰニス、ＦＤ カルトン ＡＣＥ マットＯＰニス、ＦＤ カルトン Ｘ各色、ＦＤ カルトン ＡＣＥ ＳＯＹ 各色、カルトン印刷／薄紙枚葉印刷用 ＦＤ ＨＢエコーＳＯＹ各色、ＦＤ ＨＢアクワレスＳＯＹ各色、ＦＤ Ｏ ウェットＯＰニス Ｋ１や、ＤＩＣ製のダイキュア アビリオ、ダイキュア アビリオ ＬＥＤ、ダイキュア アビリオ ＫＨＢ、ダイキュア アビリオ ＳＥ、ダイキュア ＲＴ−８、ダイキュア ＲＴＸ、ダイキュア ハイブライト、ダイキュア ハイブライトＹＰ等を使用することが出来る。具体的には、例えばＴ＆Ｋ ＴＯＫＡ製 ＵＶ１６１インキ等を好ましく使用することができる。
【００２６】
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の含有量は、ＵＶ硬化型オフセットインキ全重量の好ましくは１０ないし６０重量％、さらに好ましく２０〜５０重量％である。ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の含有量が１０重量％未満であると、熱溶融性インクとの接着性が向上せず、６０重量％を超えると、ＵＶ硬化型オフセットインキ自体の硬化性が不十分となる傾向がある。
【００２７】
ＵＶ硬化型オフセット印刷インキにビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を添加する方法としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を予めコンパウンドインキ（腰切り剤）またはレジューサ（希釈剤）と混合後、ＵＶ硬化型インキと混合することができる。
【００２８】
実施形態においては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂はベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキに常温で均一混合することが望まれる。
【００２９】
市販のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂には、基本液状タイプ及び基本固体タイプがある。常温で均一に混合させるためには、常温粘度で９ないし１５０ポイズの基本液状タイプが実施形態に好適に使用できる。９ポイズ未満の粘度域ではＵＶ硬化オフセットインキのＵＶ硬化後の基材に対する接着強度の低下、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の浸みだしが発生する傾向がある。インキ中に希釈剤を含有する場合には更に浸みだしが顕著になる傾向がある。
【００３０】
また、１５０ポイズを超えるものを用いると、インキとしての粘度が高すぎることにより印刷が困難となる傾向がある。基本固形タイプを使用する場合は、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂及びベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキの両者をビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の溶融温度まで上昇させた後に混合する必要があり、取り扱いが困難となる傾向がある。
【００３１】
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂は、たとえ上記基本液状タイプであっても、かなりの高い粘度であるため、ベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキとの混合性があまり良好ではない。このため、ＵＶ硬化型オフセットインキに、更にコンパウンド（腰切り剤）またはレジューサの添加を行うことにより高い均一混合性が得られる。
【００３２】
コンパウンドインキ（腰切り剤）又はレジューサ（希釈剤）の添加量は、ＵＶ硬化型オフセットインキ全重量に対し、コンパウンドインキは１％ないし２０％、レジューサは１％ないし７％であることが望ましい。
【００３３】
また、このとき、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を一旦、コンパウンドインキ（腰切り剤）又はレジューサ（希釈剤）と混合させ、粘度を低下させた後、ベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキに混合すると、混合均一性を更に向上させることができる。
【００３４】
また、レジューサとしては、モノマー等の低粘度の液体を添加することが出来る。具体的には、アクリルモノマー、オリゴマーであるＴ＆Ｋ ＴＯＫＡ製 ＵＶ ＤＧレジューサ、ＵＶ１６１レジューサ、ＵＶ ＴＮＳレジューサ、東洋インキ製 ＦＤレジューサＡＰ、ＦＤレジューサＯＰ、及びＦＤレジューサＧ等を用いることができる。
【００３５】
インキの混合方法は、極少量の場合はヘラで練る方法で良いが、通常の量では撹拌羽根による混合、または容器を回転させる方式等が有効である。
【００３６】
保護層の形成方法としては、支持シート上に形成された保護層を熱圧接により印刷物上に転写する方法が挙げられる。
【００３７】
保護層としては、好ましくはＵＶ硬化型樹脂を含むＵＶ硬化型保護膜が使用される。ＵＶ硬化型樹脂としては、エポキシ系ＵＶ硬化型樹脂、あるいはアクリル系ＵＶ硬化型樹脂が使用できる。
【００３８】
ＵＶ硬化型保護層に使用可能なＵＶ硬化型樹脂化合物としては、例えば３官能以上のアルコールの（メタ）アクリル酸エステルがあげられる。３官能以上の紫外線硬化型樹脂化合物は、複数のものを組み合わせて使用しても良いし、混合物であっても良い。
【００３９】
保護層は、使用されるＵＶ硬化型オフセットインキを考慮して選択することが出来る。
【００４０】
例えば、ＵＶ硬化型オフセットインキとして、アクリルモノマー、オリゴマーを使用する場合には、保護層としても、同様のアクリルモノマー、オリゴマーを選択することが出来る。このような組合せを用いると、より親和性を上げ、保護層の転写性を安定して上げることができる。
【００４１】
ＵＶ硬化型保護層を形成するための組成物中には、光反応開始剤、バインダー樹脂、及び微粒子等を添加することができる。
【００４２】
光反応開始剤の例として、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類等が挙げられる。
【００４３】
バインダー樹脂としては、紫外線硬化性化合物組成物と相溶しても非相溶でもよく、膜を形成し得る種々の樹脂を用いることができる。このようなバインダー樹脂として、例えばポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ボリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。
【００４４】
この保護層は、例えばバインダー樹脂と紫外線硬化性化合物組成物とを溶剤中に溶解または分散させて塗布液を調製し、支持体シートの片面にこれを塗布し、乾燥することにより形成することができる。保護層の乾燥膜厚は１〜５０μｍが好ましい。
【００４５】
また、微粒子としては、ポリエチレン、シリコーン粒子、アクリル、ナイロン、ガラスビーズ等が挙げられ、粒径は１〜５０μｍの範囲が好ましい。
【００４６】
保護層の形成方法としては、転写型紫外線硬化膜を熱転写後、紫外線硬化させる方法を使用し得る。
【００４７】
実施形態では、ＵＶ硬化型インキ層の形成のために、オフセット印刷機を用いることが出来る。
【００４８】
図５に、実施形態に使用可能なオフセット印刷機の一例の構造を表す概略図を示す。
【００４９】
図示するように、このオフセット印刷機３０は、インキを収容するインキ壺３１、インキ壺３の下流に設けられた、インキを練るための複数のインキ練りローラ３２、インキを版胴３４に着肉させるために設けられた複数のインキ着肉ローラ３３、版胴３４、ブランケット胴３５，基材３６を介して対向して設けられる圧胴３７を有する。
【００５０】
オフセット印刷機３０では、インキ壺３１のインクが、版胴３４からブランケット胴３５へ転写され、圧胴３７によりブランケット胴３５と基材３６を圧接せしめ、印刷を行う。
【実施例】
【００５１】
以下、実施例を示し、実施形態を具体的に説明する。
【００５２】
実施例１
ＩＤカード基材として、打ち抜き時のバリ・ダレが２０〜５０μｍ程度ある、かつ、カード片側の表面全体に受像層（イソシアネートで硬化させたポリビニルブチラール樹脂）のある５４．０ｍｍ×８６．０ｍｍの大きさのＰＥＴカードを準備した。
【００５３】
以下の組成を有するＵＶ硬化型オフセットインキを撹拌容器にいれ、スリーワンモーターを用い撹拌羽根で混合を行い、ＵＶ硬化型オフセットインキを作成した。
【００５４】
ＵＶ硬化型オフセットインキ組成１
着色材：Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製 ＵＶ１６１青インキ ７０重量部
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂：
油化シェルエポキシ製 エピコート８２５
（２５℃粘度４０〜６０ポイズ） ２０重量部
腰切り剤：ＵＶ補助剤)(Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製 NO.2コンテックス)
１０重量部
得られたＵＶ硬化型オフセットインキを枚葉のオフセット印刷機に適用した。
【００５５】
オフセット印刷機に使用した原版を表す模式図を図６に示す。
【００５６】
この原版を用い、カード基材の全周囲、カード端面から０．３ｍｍに印刷し、ＵＶ硬化型オフセットインキ層を形成した。
【００５７】
その後、得られたＵＶ硬化オフセットインキ層に、１．５ｋＷのＵＶ照射ランプを用い、１２０Ｗ／ｃｍの強度で１ないし５秒の条件で紫外線照射を行い、オフセット印刷カードを作成した。
【００５８】
得られたＩＤカード表面に昇華型インクリボンを用い、サーマルヘッドによりフルカラーの人物画像を形成した。次に、転写型熱溶融性黒インクリボンを用い、サーマルヘッドにより文字情報を形成した。
【００５９】
次に、下記組成の塗布液を準備し、バーコーターにて１２μｍＰＥＴ支持体上に塗布し、１４０℃で２分間加熱乾燥することにより、膜厚が１０μｍの紫外線硬化型保護膜を有する保護膜転写シート（以下、保護膜リボン）を作成した。
【００６０】
紫外線硬化型保護層塗布液組成
ポリアクリル系バインダー樹脂：ダイヤナールＢＲ８７ …１００重量部
紫外線硬化型化合物：ペンタエリスリトールトリアクリレート …６０重量部
光反応開始剤：イルガキュア６５１…１０重量部
ポリエチレン微粒子・フロービーズＣＬ２０８０ …１０重量部
人物画像及び文字情報を形成した上記ＩＤカード、及び、保護膜リボンを準備し、以下条件の転写装置において保護膜を人物画像及び文字情報を形成した面に熱転写し、ＩＤカード上に保護層を形成し、最終形態の完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００６１】
転写装置
ヒートローラ温度：１６０℃
搬送速度：２１ｍｍ／ｓｅｃ
押厚：１６ｋｇ／ｃｍ２
転写後の紫外線照射量：強度１２０Ｗ／ｃｍを５秒間
カードの搬送方向：短辺（カード横）搬送
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００６２】
得られた結果を、下記表１に示す。
【００６３】
実施例２
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材の全周囲、カード端面から０．５ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００６４】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００６５】
得られた結果を下記表１に示す。
【００６６】
実施例３
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材の全周囲、カード端面から１．０ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００６７】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００６８】
得られた結果を表１に示す。
【００６９】
実施例４
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材の全周囲、カード端面から５．０ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００７０】
図７に、印刷されたＵＶ硬化型オフセットインキ層１３ａの様子を表す模式図を示す。
【００７１】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００７２】
得られた結果を表１に示す。
【００７３】
実施例５
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材の全周囲、カード端面から１０．０ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００７４】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００７５】
得られた結果を表１に示す。
【００７６】
実施例６
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更した。
【００７７】
図８に、使用した原版を表す模式図を示す。
【００７８】
図示するような原版を用いてカード基材のカード上下辺端面から０．３ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００７９】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００８０】
得られた結果を表１に示す。
【００８１】
実施例７
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材のカード上下辺端面から０．５ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００８２】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００８３】
得られた結果を下記表１に示す。
【００８４】
実施例８
上記実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材のカード上下辺端面から１．０ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００８５】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００８６】
得られた結果を表１に示す。
【００８７】
実施例９
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材のカード上下辺端面から５．０ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００８８】
図９に、ＵＶ硬化型オフセットインキ層１３ｂが印刷された様子を表す模式図を示す。
【００８９】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００９０】
得られた結果を下記表１に示す。
【００９１】
実施例１０
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材のカード上下辺端面から１０．０ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００９２】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００９３】
得られた結果を表１に示す。
【００９４】
実施例１１〜２０
実施例１〜１０に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用る原版を変更し、外側に０．３ｍｍ印刷領域を増やすことにより、上記実施例１〜１０の印刷領域に更に加えてカード基材の側面０．３ｍｍについてもＵＶ硬化型オフセットインキ層を形成して、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００９５】
図１０に、実施例１１に使用される原版を表す模式図を示す。
【００９６】
また、図１１に、実施例１６に使用される原版を表す模式図を示す。
【００９７】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００９８】
得られた結果を表１に示す。
【００９９】
比較例１
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷を実施しない以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【０１００】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けがあった。
【０１０１】
得られた結果を表１に示す。
【０１０２】
比較例２
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷を実施しないこと、及び、転写装置のヒートローラ温度を１７０℃に設定して保護層を形成すること以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【０１０３】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けがあった。
【０１０４】
得られた結果を表１に示す。
【０１０５】
比較例３
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷を実施しないこと、及び、転写装置のヒートローラ温度を１８０℃に設定して保護層を形成すること以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【０１０６】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けがあった。
【０１０７】
得られた結果を表１に示す。
【表１】
【０１０８】
表１から明らかなように、バリ、ダレなどの多いＩＤカードにおいて、ＩＤカード基材上のカード端面の一部ないしは全周囲において、端面から０．１ｍｍ以上１０．００ｍｍ以内に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有するＵＶ硬化型インキにより印刷された無色透明のＵＶ硬化型インキ層を具備する実施例に示す完成カード（ＩＤカード）はいずれも、保護膜の転写性は良好であった（転写欠けは無かった）。
【０１０９】
しかしながら、バリ、ダレなどの多いＩＤカードにおいて、ＩＤカード基材上のカード端面の一部ないしは全周囲にビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有するＵＶ硬化型インキにより印刷された無色透明のＵＶ硬化型インキ層を具備しなかった比較例に示す完成カード（ＩＤカード）はいずれも、保護膜の転写欠けが確認された。
【０１１０】
実施形態を用いるとバリ、ダレなどの多いＩＤカードにおいても、（紫外線硬化型）転写膜の熱転写性において、その安定した転写性を得られる。
【０１１１】
実施形態のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【０１１２】
１０…ＩＤカード、１１…カード基材、１２…受像層、１３…ＵＶ硬化型インキ層、１４…情報記録層、１５…保護層
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、ＩＤカードに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、自動車運転免許証や従業員証等、資格所有者本人の確認が必要なＩＤカード類に、熱溶融転写型記録を用いて氏名・住所・生年月日等の個人文字情報、パターン情報または、顔写真を記録したプラスチックＩＤカードが実用されている。
【０００３】
このようなＩＤカードの製造においては、一般的にカードサイズよりも大きい大判シートを複数層用いて熱プレスを施し、カードの厚さを整えた後、カードの型を用いて打ち抜きプレス機により打ち抜き、カードを形成することができる。
【０００４】
その後、罫線、共通模様などの共通情報を印刷したプラスチックカードに、各カード個別の写真情報、文字情報、パターン情報を記録し、更に、カード全体を破損や偽造から防護するために、最表面に、透明な保護層を形成する。
【０００５】
この保護層を熱転写方式により形成する際に、ＩＤカード製造時に発生するバリやダレなどのカード端面及び側面の形状に起因する転写欠けが発生するという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−３４５３５０号公報
【特許文献２】特開２０１０−７６３９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
実施形態は、ＩＤカード表面に熱転写方式により設けられる保護層の転写性を良好にすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
実施形態によれば、矩形のカード基材と、
カード基材上に設けられた情報記録層と、
該カード基材の端部から該カード基材の隣接する二辺の合計の長さの１／１４００ないし１／１４の幅以内の周縁領域の少なくとも１部にオフセット印刷された、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有する紫外線硬化型インキ層と、
該情報記録層及び紫外線硬化型インキ層を介して該カード基材上に熱転写された保護層とを具備するＩＤカードが提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施形態のＩＤカードの一例を表す正面図である。
【図２】実施形態のＩＤカードの一例を表す断面図である。
【図３】実施形態のＩＤカードの他の一例を表す断面図である。
【図４】実施形態のＩＤカードの製造の一例を表すフローである。
【図５】実施形態に用いられるオフセット印刷機の例を表す図である
【図６】実施形態に用いられる原版の一例を表す図である。
【図７】実施形態のＩＤカードの製造工程の一例表す図である。
【図８】実施形態に用いられる原版の他の一例を表す図である。
【図９】実施形態のＩＤカードの製造工程の他の一例表す図である。
【図１０】実施形態に用いられる原版のさらに他の一例を表す図である。
【図１１】実施形態に用いられる原版のさらにまた他の一例を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、実施形態について、図面を参照して説明する。
【００１１】
図１に、実施形態のＩＤカードの一例を表す正面図を示す。
【００１２】
図２に、図１のＸ−Ｘ断面を表す模式図を示す。
【００１３】
図１に示すように、実施形態にかかるＩＤカード１０は、ポリビニルブチラール樹脂をイソシアネート化合物で硬化させた受像層１２で被覆された、四隅に丸み形状を持つ矩形のカード基材と、カード基材上には昇華型インクにより形成された人物画像層、熱転写型黒インクなどの情報記録層１４が設けられている。
【００１４】
図２に示すように、受像層１２で被覆されたカード基材１１の端部からカード基材の隣接する二辺の合計の長さの１／１４００ないし１／１４の幅以内の周縁領域の少なくとも１部として、カード基材１１の端面上に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有する無色透明の紫外線（ＵＶ）硬化型インキ層１３がオフセット印刷されている。さらに、情報記録層及びＵＶ硬化型インキ層を介して受像層１２で被覆されたカード基材１１上に保護層１５が熱転写されている。紫外線（ＵＶ）硬化型インキ層１３を設けることにより、ＩＤカードの製造時に発生するバリやダレなどのカード表面及び側面の形状に起因する保護層の転写欠けが発生し難くなる。
【００１５】
カード基材として、例えば縦５４ｍｍ×横８６ｍｍ×厚さ０．７８ｍｍのＰＥＴ製カード基材を用いることが出来る。
【００１６】
このとき、周縁領域の幅は、０．１ｍｍないし１０ｍｍにすることができる。
【００１７】
例えば０．１ｍｍ未満というようなカードの端部からの距離が短い場合には、保護層の転写欠けを防止する効果が低下し得る。
【００１８】
カード端部からある程度の距離、例えば１０ｍｍを超えると、情報記録層等を印刷するための有効領域が狭くなり、かつ情報記録層等の印刷品質が低下する傾向がある。
【００１９】
また、図３に、実施形態のＩＤカードの他の一例の断面を表す模式図を示す。
【００２０】
図示するように、このＩＤカードは、カード基材１１の端面上のみならず、カード基材１１側面に亘り、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有する無色透明の紫外線（ＵＶ）硬化型インキ層がオフセット印刷されていること以外は、図２と同様の構成を有する。
【００２１】
このような構成を有することにより、図２に示す構成のＩＤカードと比較して、ＩＤカードの製造時に発生するバリやダレなどのカード表面及び側面の形状に起因する保護層の転写欠けが、さらに発生し難くなるという利点がある。
【００２２】
図４に、実施形態にかかるＩＤカードの製造方法の一例を表すフローを示す。
【００２３】
図示するように、このＩＤカードの製造方法では、まず、矩形のカード基材上に、情報記録層を形成する（ブロック１）、カード基材の端部からカード基材の隣接する二辺の合計の長さの１／１４００ないし１／１４の幅以内の周縁領域の少なくとも１部に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有する紫外線硬化型インキ層をオフセット印刷により形成ｄ（ブロック２）、情報記録層及び紫外線硬化型インキ層を介してカード基材上に保護層を熱転写する（ブロック３）。
【００２４】
実施形態に使用されるビスフェノールＡ型エポキシ樹脂は、一般に熱溶融転写型リボンインキ及びＵＶ硬化オフセットインキ中のオリゴマーやモノマーとの親和性が良く、且つ、ＵＶ硬化オフセットインキ中に含有されるＵＶ反応開始剤と共存状態でＵＶ照射を行っても重合反応を起さず、また、ＵＶ硬化性オリゴマー、モノマーの重合反応を阻害もしない。
このためＵＶ照射によりＵＶ硬化オフセットインキ中に含有されるＵＶ硬化性オリゴマー、モノマーが十分に硬化しても、ＵＶ硬化オリゴマーやモノマーにより形成される３次元網目構造の中にビスフェノールＡ型エポキシ樹脂はそのままの状態で残ることになる。
ＩＤカード表面上に保護膜を熱圧着、熱溶融し硬化したＵＶ硬化型オフセットインキパターンに接触するとき、それぞれの溶融物が、硬化したＵＶ硬化型オフセットインキパターン中に分布するビスフェノールＡ型エポキシ樹脂と相溶することにより、高い接着性が得られる。
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては基本液状タイプ、基本固体タイプがあるが、実施形態に使用するためには、ベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキへの常温での均一混合が必要なため常温粘度で９〜１５０ポイズの基本液状タイプが望ましい。
これ以下の粘度域のではＵＶ硬化オフセットインキのＵＶ硬化後の基材に対する接着強度の低下、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の浸みだしのある場合がある。含有希釈剤が有る場合には更にこの傾向が顕著になる。
【００２５】
また、基本固形タイプを使用する場合は、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂及びベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキの両者をビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の溶融温度まで上昇させた後に混合する必要がある。
なお、上記基本液状タイプであってもかなりの高い粘度のため、ベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキとの混合性があまり良くない。このため、更に、寒天状のもので、シリコーンなどの離型性をもった（コンパウンド）（腰切り剤）またはモノマーからなる（レジューサ）（希釈剤）の添加を行なうことにより高い均一混合性が得られる。コンパウンドインキ（腰切り剤）又はレジューサ（希釈剤）の添加量は通常の推奨範囲内での使用が望ましい。
このとき、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を一旦、コンパウンドインキ（腰切り剤）又はレジューサ（希釈剤）と混合させ、粘度を低下させた後、ベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキと混合させることが混合均一性を更に向上させることとなる。
インキの混合方法は、極少量の場合はヘラで練る方法で良いが、通常の量では攪拌羽根による混合、または容器を回転（時公転）させる方式が有効である。
上記ＵＶ硬化型オフセットインキとしては、例えば Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製のＵＶ ＶＥＣＴＡカートン シリーズ、ＵＶ Ｌカートン シリーズ、ＵＶ ＶＥＣＴＡカートン ハイブラック、ＵＶ Ｌ ＳＷ 墨 シリーズ、ＵＶ ＥＰ シリーズ、ＵＶ ＯＦＳ−ＬＥＤ シリーズ、ＵＶ ＶＮＬ−ＬＥＤ シリーズ、ＵＶ ＢＦ シリーズ、ＵＶ １６１ シリーズ、ＵＶ １６１ ハイコンクブラック、ＵＶ １６１ 静電防止 ＯＰニス Ｓ、ＵＶ １６１ 墨 Ｓ−ＭＰ、ＵＶ ＶＮＬ シリーズ、ＵＶ ＶＮＬ ＲＩＣＥシリーズ、ＵＶ ＶＰ シリーズ、ＵＶ ＳＴＰ シリーズ、ＵＶ ＳＴＰ シリーズ、Ｎｏ．２ ＵＶ ＳＯＹＡ シリーズ、Ｎｏ．２ ＵＶ ＳＯＹＡ−ＲＮＣ、ＵＶ ＳＯＹＡ ＨＹ−ＢＤ シリーズ、ＵＶ ＳＯＹＡ−ＮＶＲ、ＵＶ ＲＮＣ シリーズ、Ｎｏ．２ ＵＶ ＳＯＹＡ−ＲＮＣ、ＵＶ フラッシュリード 墨、ＵＶ フラッシュライト対応 墨 シリーズ、ＵＶ ＮＶＲ シリーズ、ＵＶ ＮＶＲ Ｎｏ．２ シリーズ、ＵＶ ＳＯＹＡ−ＮＶＲ、ＵＶ フラッシュライト対応 墨 シリーズ、ＵＶ ＯＬＳＤ シリーズ、ＵＶ １７１ シリーズ、ＵＶ １７１ ＣＴ 各色 Ｍ−ＮＷ、ＵＶ Ｓ シリーズ、ＵＶ ＣＭ シリーズ、ＵＶ ＫＳ シリーズ、ＵＶ ＣＭ マーク墨 Ｓ−２、ＵＶ ＳＡ シリーズ、ＵＶ ＫＳ ＮＳ シリーズ、ＵＶ ＫＦＩ シリーズ、ＵＶ フレキソ ５００ シリーズ、ＵＶ ＬＳ−Ｎフレキソ ＰＨＡ−ＬＯ シリーズ、ＵＶ ＬＳフレキソ ＰＨＡ−ＬＯ３ シリーズ、ＵＶ フレキソ ＰＨＡ シリーズ、ＵＶ フレキソ ゴールド ＆ シルバー ５００Ｓ、ＵＶ ロータリースクリーン シリーズ、ＵＶ ゴールド ＭＧ、ＵＶ ゴールド ＴＫ-ＳＯ、ＵＶ Ｎｏ．３ シルバー、ＵＶ シルバー ＴＫ-ＳＯ、ＵＶ ウルトラパール、ＵＶ 蛍光 Ｐ シリーズ、ＵＶ 蛍光−ＳＥ シリーズや、東洋インキ製のＦ非吸収原反用 ＦＤ ＴＣ ＯＰニス、ＦＤ Ｏ ニュー 各色 ＨＦ１、フレキソ印刷用 ＦＤ ＦＬシリーズ、フォーム印刷用 ＦＤ フォーム Ｘ各色、シール印刷用 ＦＤ Ｓ 多色 ＯＰニス ＴＫ、ＦＤ Ｓ 各色 ＴＫ、カルトン印刷用 ＦＤ ＯＬＰ 多色ＯＰニス Ｍ１、ＦＤ カルトン ＡＣＥ ＯＰニス、ＦＤ カルトン ＡＣＥ マットＯＰニス、ＦＤ カルトン Ｘ各色、ＦＤ カルトン ＡＣＥ ＳＯＹ 各色、カルトン印刷／薄紙枚葉印刷用 ＦＤ ＨＢエコーＳＯＹ各色、ＦＤ ＨＢアクワレスＳＯＹ各色、ＦＤ Ｏ ウェットＯＰニス Ｋ１や、ＤＩＣ製のダイキュア アビリオ、ダイキュア アビリオ ＬＥＤ、ダイキュア アビリオ ＫＨＢ、ダイキュア アビリオ ＳＥ、ダイキュア ＲＴ−８、ダイキュア ＲＴＸ、ダイキュア ハイブライト、ダイキュア ハイブライトＹＰ等を使用することが出来る。具体的には、例えばＴ＆Ｋ ＴＯＫＡ製 ＵＶ１６１インキ等を好ましく使用することができる。
【００２６】
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の含有量は、ＵＶ硬化型オフセットインキ全重量の好ましくは１０ないし６０重量％、さらに好ましく２０〜５０重量％である。ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の含有量が１０重量％未満であると、熱溶融性インクとの接着性が向上せず、６０重量％を超えると、ＵＶ硬化型オフセットインキ自体の硬化性が不十分となる傾向がある。
【００２７】
ＵＶ硬化型オフセット印刷インキにビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を添加する方法としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を予めコンパウンドインキ（腰切り剤）またはレジューサ（希釈剤）と混合後、ＵＶ硬化型インキと混合することができる。
【００２８】
実施形態においては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂はベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキに常温で均一混合することが望まれる。
【００２９】
市販のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂には、基本液状タイプ及び基本固体タイプがある。常温で均一に混合させるためには、常温粘度で９ないし１５０ポイズの基本液状タイプが実施形態に好適に使用できる。９ポイズ未満の粘度域ではＵＶ硬化オフセットインキのＵＶ硬化後の基材に対する接着強度の低下、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の浸みだしが発生する傾向がある。インキ中に希釈剤を含有する場合には更に浸みだしが顕著になる傾向がある。
【００３０】
また、１５０ポイズを超えるものを用いると、インキとしての粘度が高すぎることにより印刷が困難となる傾向がある。基本固形タイプを使用する場合は、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂及びベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキの両者をビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の溶融温度まで上昇させた後に混合する必要があり、取り扱いが困難となる傾向がある。
【００３１】
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂は、たとえ上記基本液状タイプであっても、かなりの高い粘度であるため、ベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキとの混合性があまり良好ではない。このため、ＵＶ硬化型オフセットインキに、更にコンパウンド（腰切り剤）またはレジューサの添加を行うことにより高い均一混合性が得られる。
【００３２】
コンパウンドインキ（腰切り剤）又はレジューサ（希釈剤）の添加量は、ＵＶ硬化型オフセットインキ全重量に対し、コンパウンドインキは１％ないし２０％、レジューサは１％ないし７％であることが望ましい。
【００３３】
また、このとき、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を一旦、コンパウンドインキ（腰切り剤）又はレジューサ（希釈剤）と混合させ、粘度を低下させた後、ベースとなるＵＶ硬化型オフセットインキに混合すると、混合均一性を更に向上させることができる。
【００３４】
また、レジューサとしては、モノマー等の低粘度の液体を添加することが出来る。具体的には、アクリルモノマー、オリゴマーであるＴ＆Ｋ ＴＯＫＡ製 ＵＶ ＤＧレジューサ、ＵＶ１６１レジューサ、ＵＶ ＴＮＳレジューサ、東洋インキ製 ＦＤレジューサＡＰ、ＦＤレジューサＯＰ、及びＦＤレジューサＧ等を用いることができる。
【００３５】
インキの混合方法は、極少量の場合はヘラで練る方法で良いが、通常の量では撹拌羽根による混合、または容器を回転させる方式等が有効である。
【００３６】
保護層の形成方法としては、支持シート上に形成された保護層を熱圧接により印刷物上に転写する方法が挙げられる。
【００３７】
保護層としては、好ましくはＵＶ硬化型樹脂を含むＵＶ硬化型保護膜が使用される。ＵＶ硬化型樹脂としては、エポキシ系ＵＶ硬化型樹脂、あるいはアクリル系ＵＶ硬化型樹脂が使用できる。
【００３８】
ＵＶ硬化型保護層に使用可能なＵＶ硬化型樹脂化合物としては、例えば３官能以上のアルコールの（メタ）アクリル酸エステルがあげられる。３官能以上の紫外線硬化型樹脂化合物は、複数のものを組み合わせて使用しても良いし、混合物であっても良い。
【００３９】
保護層は、使用されるＵＶ硬化型オフセットインキを考慮して選択することが出来る。
【００４０】
例えば、ＵＶ硬化型オフセットインキとして、アクリルモノマー、オリゴマーを使用する場合には、保護層としても、同様のアクリルモノマー、オリゴマーを選択することが出来る。このような組合せを用いると、より親和性を上げ、保護層の転写性を安定して上げることができる。
【００４１】
ＵＶ硬化型保護層を形成するための組成物中には、光反応開始剤、バインダー樹脂、及び微粒子等を添加することができる。
【００４２】
光反応開始剤の例として、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類等が挙げられる。
【００４３】
バインダー樹脂としては、紫外線硬化性化合物組成物と相溶しても非相溶でもよく、膜を形成し得る種々の樹脂を用いることができる。このようなバインダー樹脂として、例えばポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ボリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。
【００４４】
この保護層は、例えばバインダー樹脂と紫外線硬化性化合物組成物とを溶剤中に溶解または分散させて塗布液を調製し、支持体シートの片面にこれを塗布し、乾燥することにより形成することができる。保護層の乾燥膜厚は１〜５０μｍが好ましい。
【００４５】
また、微粒子としては、ポリエチレン、シリコーン粒子、アクリル、ナイロン、ガラスビーズ等が挙げられ、粒径は１〜５０μｍの範囲が好ましい。
【００４６】
保護層の形成方法としては、転写型紫外線硬化膜を熱転写後、紫外線硬化させる方法を使用し得る。
【００４７】
実施形態では、ＵＶ硬化型インキ層の形成のために、オフセット印刷機を用いることが出来る。
【００４８】
図５に、実施形態に使用可能なオフセット印刷機の一例の構造を表す概略図を示す。
【００４９】
図示するように、このオフセット印刷機３０は、インキを収容するインキ壺３１、インキ壺３の下流に設けられた、インキを練るための複数のインキ練りローラ３２、インキを版胴３４に着肉させるために設けられた複数のインキ着肉ローラ３３、版胴３４、ブランケット胴３５，基材３６を介して対向して設けられる圧胴３７を有する。
【００５０】
オフセット印刷機３０では、インキ壺３１のインクが、版胴３４からブランケット胴３５へ転写され、圧胴３７によりブランケット胴３５と基材３６を圧接せしめ、印刷を行う。
【実施例】
【００５１】
以下、実施例を示し、実施形態を具体的に説明する。
【００５２】
実施例１
ＩＤカード基材として、打ち抜き時のバリ・ダレが２０〜５０μｍ程度ある、かつ、カード片側の表面全体に受像層（イソシアネートで硬化させたポリビニルブチラール樹脂）のある５４．０ｍｍ×８６．０ｍｍの大きさのＰＥＴカードを準備した。
【００５３】
以下の組成を有するＵＶ硬化型オフセットインキを撹拌容器にいれ、スリーワンモーターを用い撹拌羽根で混合を行い、ＵＶ硬化型オフセットインキを作成した。
【００５４】
ＵＶ硬化型オフセットインキ組成１
着色材：Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製 ＵＶ１６１青インキ ７０重量部
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂：
油化シェルエポキシ製 エピコート８２５
（２５℃粘度４０〜６０ポイズ） ２０重量部
腰切り剤：ＵＶ補助剤)(Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製 NO.2コンテックス)
１０重量部
得られたＵＶ硬化型オフセットインキを枚葉のオフセット印刷機に適用した。
【００５５】
オフセット印刷機に使用した原版を表す模式図を図６に示す。
【００５６】
この原版を用い、カード基材の全周囲、カード端面から０．３ｍｍに印刷し、ＵＶ硬化型オフセットインキ層を形成した。
【００５７】
その後、得られたＵＶ硬化オフセットインキ層に、１．５ｋＷのＵＶ照射ランプを用い、１２０Ｗ／ｃｍの強度で１ないし５秒の条件で紫外線照射を行い、オフセット印刷カードを作成した。
【００５８】
得られたＩＤカード表面に昇華型インクリボンを用い、サーマルヘッドによりフルカラーの人物画像を形成した。次に、転写型熱溶融性黒インクリボンを用い、サーマルヘッドにより文字情報を形成した。
【００５９】
次に、下記組成の塗布液を準備し、バーコーターにて１２μｍＰＥＴ支持体上に塗布し、１４０℃で２分間加熱乾燥することにより、膜厚が１０μｍの紫外線硬化型保護膜を有する保護膜転写シート（以下、保護膜リボン）を作成した。
【００６０】
紫外線硬化型保護層塗布液組成
ポリアクリル系バインダー樹脂：ダイヤナールＢＲ８７ …１００重量部
紫外線硬化型化合物：ペンタエリスリトールトリアクリレート …６０重量部
光反応開始剤：イルガキュア６５１…１０重量部
ポリエチレン微粒子・フロービーズＣＬ２０８０ …１０重量部
人物画像及び文字情報を形成した上記ＩＤカード、及び、保護膜リボンを準備し、以下条件の転写装置において保護膜を人物画像及び文字情報を形成した面に熱転写し、ＩＤカード上に保護層を形成し、最終形態の完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００６１】
転写装置
ヒートローラ温度：１６０℃
搬送速度：２１ｍｍ／ｓｅｃ
押厚：１６ｋｇ／ｃｍ２
転写後の紫外線照射量：強度１２０Ｗ／ｃｍを５秒間
カードの搬送方向：短辺（カード横）搬送
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００６２】
得られた結果を、下記表１に示す。
【００６３】
実施例２
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材の全周囲、カード端面から０．５ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００６４】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００６５】
得られた結果を下記表１に示す。
【００６６】
実施例３
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材の全周囲、カード端面から１．０ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００６７】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００６８】
得られた結果を表１に示す。
【００６９】
実施例４
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材の全周囲、カード端面から５．０ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００７０】
図７に、印刷されたＵＶ硬化型オフセットインキ層１３ａの様子を表す模式図を示す。
【００７１】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００７２】
得られた結果を表１に示す。
【００７３】
実施例５
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材の全周囲、カード端面から１０．０ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００７４】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００７５】
得られた結果を表１に示す。
【００７６】
実施例６
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更した。
【００７７】
図８に、使用した原版を表す模式図を示す。
【００７８】
図示するような原版を用いてカード基材のカード上下辺端面から０．３ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００７９】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００８０】
得られた結果を表１に示す。
【００８１】
実施例７
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材のカード上下辺端面から０．５ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００８２】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００８３】
得られた結果を下記表１に示す。
【００８４】
実施例８
上記実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材のカード上下辺端面から１．０ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００８５】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００８６】
得られた結果を表１に示す。
【００８７】
実施例９
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材のカード上下辺端面から５．０ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００８８】
図９に、ＵＶ硬化型オフセットインキ層１３ｂが印刷された様子を表す模式図を示す。
【００８９】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００９０】
得られた結果を下記表１に示す。
【００９１】
実施例１０
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用する原版を変更することにより、カード基材のカード上下辺端面から１０．０ｍｍにＵＶ硬化型オフセットインキ層を印刷する以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００９２】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００９３】
得られた結果を表１に示す。
【００９４】
実施例１１〜２０
実施例１〜１０に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷時に使用る原版を変更し、外側に０．３ｍｍ印刷領域を増やすことにより、上記実施例１〜１０の印刷領域に更に加えてカード基材の側面０．３ｍｍについてもＵＶ硬化型オフセットインキ層を形成して、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【００９５】
図１０に、実施例１１に使用される原版を表す模式図を示す。
【００９６】
また、図１１に、実施例１６に使用される原版を表す模式図を示す。
【００９７】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けは見られなかった。
【００９８】
得られた結果を表１に示す。
【００９９】
比較例１
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷を実施しない以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【０１００】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けがあった。
【０１０１】
得られた結果を表１に示す。
【０１０２】
比較例２
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷を実施しないこと、及び、転写装置のヒートローラ温度を１７０℃に設定して保護層を形成すること以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【０１０３】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けがあった。
【０１０４】
得られた結果を表１に示す。
【０１０５】
比較例３
実施例１に記載のＵＶ硬化型オフセットインキを用いたオフセット印刷を実施しないこと、及び、転写装置のヒートローラ温度を１８０℃に設定して保護層を形成すること以外は、実施例１と同様にして、完成カード（ＩＤカード）を得た。
【０１０６】
得られた完成カード（ＩＤカード）について、転写層の転写欠けの有無を目視確認したところ、転写欠けがあった。
【０１０７】
得られた結果を表１に示す。
【表１】
【０１０８】
表１から明らかなように、バリ、ダレなどの多いＩＤカードにおいて、ＩＤカード基材上のカード端面の一部ないしは全周囲において、端面から０．１ｍｍ以上１０．００ｍｍ以内に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有するＵＶ硬化型インキにより印刷された無色透明のＵＶ硬化型インキ層を具備する実施例に示す完成カード（ＩＤカード）はいずれも、保護膜の転写性は良好であった（転写欠けは無かった）。
【０１０９】
しかしながら、バリ、ダレなどの多いＩＤカードにおいて、ＩＤカード基材上のカード端面の一部ないしは全周囲にビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有するＵＶ硬化型インキにより印刷された無色透明のＵＶ硬化型インキ層を具備しなかった比較例に示す完成カード（ＩＤカード）はいずれも、保護膜の転写欠けが確認された。
【０１１０】
実施形態を用いるとバリ、ダレなどの多いＩＤカードにおいても、（紫外線硬化型）転写膜の熱転写性において、その安定した転写性を得られる。
【０１１１】
実施形態のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【０１１２】
１０…ＩＤカード、１１…カード基材、１２…受像層、１３…ＵＶ硬化型インキ層、１４…情報記録層、１５…保護層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形のカード基材と、
カード基材上に設けられた情報記録層と、
該カード基材の端部から該カード基材の隣接する二辺の合計の長さの１／１４００ないし１／１４の幅以内の周縁領域の少なくとも１部にオフセット印刷された、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有する紫外線硬化型インキ層と、
該情報記録層及び紫外線硬化型インキ層を介して該カード基材上に熱転写された保護層とを具備するＩＤカード。
【請求項２】
前記ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂は、紫外線硬化型インキ全重量に対し、１０ないし６０重量％含まれることを特徴とする請求項１に記載ののＩＤカード。
【請求項３】
矩形のカード基材上に、情報記録層を形成する工程、
該カード基材の端部から該カード基材の隣接する二辺の合計の長さの１／１４００ないし１／１４の幅以内の周縁領域の少なくとも１部に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有する紫外線硬化型インキ層をオフセット印刷する工程、
情報記録層及び紫外線硬化型インキ層を介して該カード基材上に保護層を熱転写する工程を具備するＩＤカードの製造方法。
【請求項４】
前記ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂は、紫外線硬化型インキ全重量に対し、１０ないし６０重量％含まれることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項１】
矩形のカード基材と、
カード基材上に設けられた情報記録層と、
該カード基材の端部から該カード基材の隣接する二辺の合計の長さの１／１４００ないし１／１４の幅以内の周縁領域の少なくとも１部にオフセット印刷された、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有する紫外線硬化型インキ層と、
該情報記録層及び紫外線硬化型インキ層を介して該カード基材上に熱転写された保護層とを具備するＩＤカード。
【請求項２】
前記ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂は、紫外線硬化型インキ全重量に対し、１０ないし６０重量％含まれることを特徴とする請求項１に記載ののＩＤカード。
【請求項３】
矩形のカード基材上に、情報記録層を形成する工程、
該カード基材の端部から該カード基材の隣接する二辺の合計の長さの１／１４００ないし１／１４の幅以内の周縁領域の少なくとも１部に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を含有する紫外線硬化型インキ層をオフセット印刷する工程、
情報記録層及び紫外線硬化型インキ層を介して該カード基材上に保護層を熱転写する工程を具備するＩＤカードの製造方法。
【請求項４】
前記ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂は、紫外線硬化型インキ全重量に対し、１０ないし６０重量％含まれることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１２−６１７７３（Ｐ２０１２−６１７７３Ａ）
【公開日】平成２４年３月２９日（２０１２．３．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２０８６３３（Ｐ２０１０−２０８６３３）
【出願日】平成２２年９月１６日（２０１０．９．１６）
【出願人】（０００００３０７８）株式会社東芝 (54,554)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年３月２９日（２０１２．３．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月１６日（２０１０．９．１６）
【出願人】（０００００３０７８）株式会社東芝 (54,554)
【Ｆターム（参考）】
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