ＭＲＩ装置
【課題】冷却管の配管にかかる手間を軽減することができるＭＲＩ装置を提供する。
【解決手段】被検体Ｐが載置される天板７１と、架台１０に設けられた開口部１１を貫通して配置され、天板７１を開口部１１内に導くレール７３と、レール７３を支持する内部に流路が形成されたフレーム７４と、架台１０を冷却する冷却部８０とを備え、冷却部８０は、架台１０で温度上昇する空気をフレーム７４及びこのフレーム７４に接続された架台１０外に配置される冷却管を介して排出する。
【解決手段】被検体Ｐが載置される天板７１と、架台１０に設けられた開口部１１を貫通して配置され、天板７１を開口部１１内に導くレール７３と、レール７３を支持する内部に流路が形成されたフレーム７４と、架台１０を冷却する冷却部８０とを備え、冷却部８０は、架台１０で温度上昇する空気をフレーム７４及びこのフレーム７４に接続された架台１０外に配置される冷却管を介して排出する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁場を発生する架台を冷却する機能を備えたＭＲＩ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＭＲＩ（Ｍａｇｎｅｔｉｃ・Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ・Ｉｍａｇｉｎｇ）装置は、磁場を発生する架台に設けた開口部内に天板上に載置された被検体を送り込んで撮像が行われる。この撮像では、静磁場及び傾斜磁場内の被検体に高周波コイルからのＲＦ（Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）波を照射して水素原子核スピンを励起し、この励起により水素原子核から放出されるＲＦ波を高周波コイルで受信して磁気共鳴（ＭＲ）信号を検出する。そして、検出したＭＲ信号に基づいて画像データを生成する。このように、被検体に対して無侵襲で、骨や空気による影響を受けることなく画像データを得ることができるため、今日の画像診断の分野では不可欠なものとなっている。
【０００３】
ところで、架台は開口部以外がカバーで覆われ、カバー内には撮像に関る多くの発熱部品を有する。そして、発熱部品により周囲の温度が上昇して、開口部内に送り込まれた被検体に不快感を与える恐れがある。この問題を解決するために、ＲＦ波を照射する高周波コイルの発熱により開口部内の温度が上昇するのを防止することができるＭＲＩ装置が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
このＭＲＩ装置では、天板を開口部内に導くレール内に形成されたダクト及びこのダクトに接続される架台外に配置された延長ダクトを介して、架台内の高周波コイルと架台外に配置されたファンが連通している。そして、ファンが高周波コイル内の温度上昇する空気を架台外に排出して冷却することにより、高周波コイルからの熱により開口部内の空気の温度が上昇するのを防止している。
【０００５】
また、開口部と架台外に配置されたファンとが、架台外に配置されるダクトホースを介して連通しているＭＲＩ装置がある。この装置では、架台内からの熱により開口部内の温度上昇する空気をファンが架台外に排出して冷却することにより、開口部内の温度上昇を防止している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−１４２６４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、架台には様々なユニットが配置されており、そのユニットを避けて延長ダクトやダクトホースなどの冷却管を配管する必要がある。このため、冷却管の配管に手間がかかる問題がある。
【０００８】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、冷却管の配管にかかる手間を軽減することができるＭＲＩ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明のＭＲＩ装置は、被検体に対して磁場を発生する架台を備えたＭＲＩ装置において、前記被検体が載置される天板を前記開口部内に導くレールと、前記レールを支持するフレームと、前記フレーム及びこのフレームに接続される前記架台外に配置された冷却管を介して前記架台を冷却する冷却手段とを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、架台の開口部内に天板を導くレールを支持するフレームに架台外に配置される冷却管を接続し、その冷却管及びフレームを介して架台を冷却することにより、冷却管の配管にかかる手間を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施例に係るＭＲＩ装置の構成を示すブロック図。
【図２】本発明の実施例に係る寝台部の構成の一例を示す図。
【図３】本発明の実施例に係るフレームの構成の一例を示す図。
【図４】本発明の実施例に係る第１のフレーム及び第１の冷却部の構成の詳細を示す図。
【図５】本発明の実施例に係る第２のフレーム及び第２の冷却部の構成の詳細を示す図。
【図６】本発明の実施例に係る第３のフレーム及び第３の冷却部の構成の詳細を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。
【実施例】
【００１３】
以下、本発明によるＭＲＩ装置の実施例を、図１乃至図６を参照して説明する。
【００１４】
図１は、本発明の実施例に係るＭＲＩ装置の構成を示したブロック図である。このＭＲＩ装置１００は、被検体Ｐに対して磁場を発生する架台１０と、この架台１０に磁場を発生させるための電力を供給する電源部２０と、架台１０で発生した磁場に基づいてＭＲ信号を検出する高周波コイルユニット１９と、高周波コイルユニット１９により検出されたＭＲ信号を受信する送受信部３０と、送受信部３０で受信されたＭＲ信号に基づいて画像データを生成するデータ処理部４０とを備えている。
【００１５】
また、ＭＲＩ装置１００は、データ処理部４０で生成された画像データを表示する表示部５０と、各種コマンド等の入力を行う操作部６０と、被検体Ｐが移動可能に載置される寝台部７０と、寝台部７０を介して架台１０を冷却する冷却部８０と、操作部６０からの入力信号に基づいて、電源部２０、送受信部３０、データ処理部４０、寝台部７０、及び冷却部８０を制御するシステム制御部９０とを備えている。
【００１６】
架台１０は、被検体Ｐが送り込まれる水平方向に貫通する円筒状の開口部１１を有し、開口部１１の外周に配置された静磁場を発生する磁石１２と、開口部１１と磁石１２の間に配置された傾斜磁場を発生する傾斜磁場コイルユニット１３と、開口部１１と傾斜磁場コイルユニット１３の間に配置されたＲＦ磁場を発生する例えばホールボディコイルなどの高周波コイルユニット１４と、磁石１２、傾斜磁場コイルユニット１３、及び高周波コイルユニット１４を覆うカバー１５とを備えている。
【００１７】
そして、磁石１２は、例えば超伝導磁石が用いられ、開口部１１内へ送り込まれた被検体Ｐに対して一様な静磁場を発生する。また、傾斜磁場コイルユニット１３は、磁石１２が発生した静磁場に傾斜磁場を発生する。また、高周波コイルユニット１４は、被検体Ｐに水素原子核を励起させるためのパルス状のＲＦ波を照射してＲＦ磁場を発生する。
【００１８】
電源部２０は、システム制御部９０から供給される制御信号に基づいて、架台１０の磁石１２に静磁場を発生させるための電力を供給する静磁場電源２１、及び傾斜磁場コイルユニット１３に傾斜磁場を発生させるための電力を供給する傾斜磁場電源２２を備えている。
【００１９】
高周波コイルユニット１９は、被検体Ｐ近傍に配置された例えばヘッドコイルであり、架台１０の高周波コイルユニット１４からのＲＦ波の照射に応じて、被検体Ｐから放出されるＲＦ波を受信してＭＲ信号を検出する。そして、検出したＭＲ信号を送受信部に出力する。
【００２０】
送受信部３０は、架台１０の高周波コイルユニット１４にパルス状のＲＦ波を照射させる駆動信号を供給する基準信号発振器、変調器、電力増幅器等を有する基板を備えた送信部３１と、高周波コイルユニット１９からのＭＲ信号を受信して処理を行う受信部３２とにより構成される。そして、受信部３２は、増幅器、中間周波数変換器、位相検波器、フィルタ、Ａ／Ｄ変換器等を有する基板を備え、送信部３１の高周波コイルユニット１４への駆動信号の供給に応じて高周波コイルユニット１９で検出されたＭＲ信号を受信する。そして、受信したＭＲ信号に対して中間周波数変換、位相検波、フィルタリング等の処理、更にはＡ／Ｄ変換を施したＭＲ信号をデータ処理部４０に出力する。
【００２１】
データ処理部４０は、送受信部３０の受信部３２から出力されたＭＲ信号を再構成して画像データを生成し、生成した画像データを表示部５０に出力する。
【００２２】
表示部５０は、ＣＲＴ又は液晶パネル等を備え、データ処理部４０から出力された画像データを表示する。また、操作部６０は、スイッチ、キーボード、マウス等の各種入力デバイスや表示パネルを備え、被検体Ｐの画像データを生成するための撮像条件の入力や、被検体Ｐを架台１０の開口部１１内に送り込むための入力などを行う。
【００２３】
図２は、寝台部７０の構成の一例を示した図である。この寝台部７０は、被検体Ｐが載置される天板７１と、天板７１を上下方向及び長手方向に移動可能に支持する床面上に配置された支持台７２と、天板７１を架台１０の開口部１１内に導くレール７３と、レール７３を支持するフレーム７４とを備えている。
【００２４】
天板７１は、支持台７２及びレール７３上を移動可能に配置され、ホームポジションにおいては架台１０の正面側に配置された支持台７２上に位置している。そして、レール７３に沿って開口部１１方向へ最大移動したとき、被検体Ｐの全身又は全身に近い広範囲に亘って撮像が可能なように、一端部が開口部１１を貫通して架台１０外の背面側に位置すると共に他端部が支持台７２上に位置する長さに形成されている。
【００２５】
支持台７２は、ホームポジションにおける天板７１を上下方向及び長手方向に移動可能に支持している。そして、システム制御部９０からの制御信号に基づいて天板７１をホームポジションから開口部１１方向へ移動し、天板７１が開口部１１方向へ最大移動した位置では、天板７１の他端部を支持している。
【００２６】
レール７３は、開口部１１を貫通して配置される。そして、一端部が架台１０正面側の支持台７２近傍に位置し、中央部分が架台１０のカバー１５の内の開口部１１を形成している部分に支持されている。また、他端部が開口部１１から突き抜けて架台１０背面側に位置し、フレーム７４に支持されている。
【００２７】
そして、レール７３は、中空部７３１、フレーム７４に支持された他端部の下面に設けられた中空部７３１に連通している開口７３２、及び開口部１１内の下面に設けられた中空部７３１に連通している開口７３３を有する。そして、中空部７３１は、開口７３２を介してフレーム７４に連通し、開口７３３を介して架台１０内の高周波コイルユニット１４に連通している。
【００２８】
図１の冷却部８０は、架台１０を冷却する第１乃至第３の冷却部８１乃至８３を備えている。そして、第１の冷却部８１は、寝台部７０のフレーム７４に接続される架台１０外に配置された冷却管８１１及び架台１０内に配置された連通管８１２，８１３と、冷却管８１１、フレーム７４、及び連通管８１２，８１３を介して架台１０の開口部１１内を冷却するファン８１４とを備えている。
【００２９】
また、第２の冷却部８２は、寝台部７０のフレーム７４に接続される架台１０外に配置された冷却管８２１及び架台１０内に配置された連通管８２２と、冷却管８２１、フレーム７４、及び連通管８２２を介して架台１０内に配置された送受信部３０の基板を冷却するファン８２３とを備えている。
【００３０】
更に、第３の冷却部８３は、寝台部７０のフレーム７４に接続される架台１０外に配置された冷却管８３１及び架台１０内に配置された連通管８３２と、冷却管８３１、フレーム７４、連通管８３２、及び寝台部７０のレール７３を介して架台１０の高周波コイルユニット１４を冷却するファン８３３を備えている。
【００３１】
システム制御部９０は、ＣＰＵや記憶回路を備え、操作部６０からの入力信号に基づいて、電源部２０、送受信部３０、データ処理部４０、寝台部７０、及び冷却部８０の各ユニットの制御やシステム全体の制御を行なう。そして、電源部２０における傾斜磁場電源２２の傾斜磁場コイルユニット１３への電力供給タイミングを制御する。また、送受信部３０における送信部３１の高周波コイルユニット１４への駆動信号を供給するタイミングや受信部３２のＭＲ信号を受信するタイミングを制御する。
【００３２】
以下、図１乃至図６を参照して寝台部７０及び冷却部８０の構成の詳細を説明する。
図３は、フレーム７４の構成の一例を示した図である。このフレーム７４は、架台１０背面側の床面上に配置され、例えば中空管状を成し、その中空が空気の流通する流路として形成された第１乃至第３のフレーム７５乃至７７及び２つの第４のフレーム７８，７９等により構成される。
【００３３】
第１のフレーム７５は、天板７１の長手方向に対して垂直に床面上に水平配置された中央部７５１と、床面に対して垂直配置された中央部７５１の一端に一端が連なる一端部７５２と、床面に対して垂直配置された中央部７５１の他端に一端が連なる他端部７５３とにより構成される。そして、中央部７５１の架台１０の開口部１１側とは反対側の側面両端が第２及び第３のフレーム７６，７７に接合されている。また、一端部７５２の開口部１１付近の高さに位置する端面が第４のフレーム７８に接合され、他端部７５３の一端部７５２端面と同じ高さに位置する端面が第４のフレーム７９に接合されている。
【００３４】
第２のフレーム７６は、第１のフレーム７５の開口部１１側とは反対側に配置され、床面上に配置されたＴ字状の一端部７６１と、床面に対して垂直配置された一端部７６１の一端に一端が連なる中央部７６２と、第１のフレーム７５の中央部７５１に対して平行配置され、上面が第１のフレーム７５の一端部７５２端面と同じ高さに位置して中央部７６２の他端に一端が連なる他端部７６３とにより構成される。そして、一端部７６１の開口部１１側の側面の一部が第１のフレーム７５に接合され、他端部７６３の上面一端が第４のフレーム７８に接合されている。また、他端部７６３の端面が第３のフレーム７７に接合されている。
【００３５】
第３のフレーム７７は、第１のフレーム７５の開口部１１側とは反対側に配置され、床面上に配置されたＬ字状の一端部７７１と、第２のフレーム７６の中央部７６２に対して平行配置され、端面が第１のフレーム７５の他端部７５３端面と同じ高さに位置して一端部７７１の一端に連なる他端部７７２とにより構成される。そして、一端部７７１の開口部１１側の側面が第１のフレーム７５に接合され、他端部７７２の端面が第４のフレーム７９に接合されている。
【００３６】
第４のフレーム７８は、第１及び第２のフレーム７５，７６上に水平に、且つ第２のフレーム７６の他端部７６３に対して垂直に配置され、一端に貫通孔が設けられている。そして、一端の下面が第１のフレーム７５に接合され、中央近傍の下面が第２のフレーム７６に接合されている。また、第４のフレーム７９は、第１及び第３のフレーム７５，７７上に水平に、且つ第２のフレーム７６の他端部７６３に対して垂直に配置され、一端に貫通孔が設けられている。そして、一端の下面が第１のフレーム７５に接合され、中央近傍の下面が第３のフレーム７７に接合されている。そして、第４のフレーム７８，７９上にレール７３が固定されている。
【００３７】
図４は、第１のフレーム７５及び第１の冷却部８１の構成の詳細を示した図である。この第１のフレーム７５は、中央部７５１の開口部１１側とは反対側の側面に設けられた第１の開口７５４、第４のフレーム７８，７９の貫通孔を貫通して一端部７５２及び他端部７５３端面上に設けられた第２の開口７５５，７５６を有する。そして、各第１及び第２の開口７５４，７５５，７５６が第１のフレーム７５内に形成された流路７５７で連通している。
【００３８】
第１の冷却部８１の冷却管８１１は、一端が第１のフレーム７５の第１の開口７５４に接続され、他端が架台１０から離間して、架台１０及び寝台部７０が配置される磁気シールドルーム内又はこの磁気シールドルーム外に配置されたファン８１４に接続されている。そして、冷却管８１１は、架台１０近傍においては、床面上（又は床に掘られたピット内）を例えば直線状に配管可能に配置される。また、連通管８１２は、一端が第１のフレーム７５の第２の開口７５５に接続され、他端が開口部１１内に配置されている。更に、連通管８１３は、一端が第１のフレーム７５の第２の開口７５６に接続され、他端が開口部１１内に配置されている。この連通管８１２，８１３により、架台１０の開口部１１と第１のフレーム７５の流路７５７とが連通されている。
【００３９】
そして、第１のフレーム７５、第１の冷却部８１の冷却管８１１の一端部、及び連通管８１２，８１３は架台１０のカバー１５内側に配置されている。また、冷却管８１１の一端部以外の部分及びファン８１４は、カバー１５外側に配置されている。
【００４０】
このように、開口部１１に連通する流路７５７を、レール７３を支持する第１のフレーム７５内に形成すると共に、流路７５７に連通する第１の開口７５４を第１のフレーム７５に設け、第１の開口７５４に冷却管８１１を接続することにより、配管を容易に行うことができる。これにより、配管にかかる手間を軽減することができる。
【００４１】
また、第１の開口７５４を第１のフレーム７５の開口部１１側とは反対側の側面に設けることにより、冷却管８１１を直線状に整然と配置することができる。これにより、架台１０近傍の冷却管８１１に必要な床面積を低減し、被検体Ｐへアクセスする通路の確保することができるため、作業性の向上を図ることができる。
【００４２】
ここで、ファン８１４は、例えば架台１０から離れた位置の空気を吸引して、冷却管８１１の他端内に送給する。この送給された空気は、冷却管８１１、第１の開口７５４、流路７５７、第２の開口７５５，７５６、及び連通管８１２，８１３を経由して、架台１０の背面側から開口部１１内に送給される。これにより、架台１０の傾斜磁場コイルユニット１３や高周波コイルユニット１４から伝達される熱により温度上昇する開口部１１内の空気は、架台１０の正面側から開口部１１外に排出される。このように、架台１０から離れた位置の空気を開口部１１内に供給することにより、開口部１１内の温度上昇を防止することができる。
【００４３】
図５は、第２のフレーム７６及び第２の冷却部８２の構成の詳細を示した図である。この第２のフレーム７６は、一端部７６１の架台１０の開口部１１側とは反対側の側面に設けられた第１の開口７６４、送受信部３０の一部の基板を覆うケース４３近傍に配置される他端部７６３下面に設けられた複数の第２の開口７６５、及び一端部７６１の開口部１１側の側面の他部に設けられた第３の開口７６６を有する。そして、各第１乃至第３の開口７６４乃至７６６が第２のフレーム７６内に形成された流路７６７で連通している。
【００４４】
第２の冷却部８２の冷却管８２１は、一端が第２のフレーム７６の第１の開口７６４に接続され、他端が架台１０から離間して磁気シールドルーム内又は外に配置されたファン８２３に接続されている。そして、冷却管８２１は、架台１０近傍においては、床面上（又は床に掘られたピット内）を第１の冷却部８１の冷却管８１１と並べて直線状に配置可能に配管される。また、連通管８２２は、一端が第２のフレーム７６の第３の開口７６６に接続され、他端が架台１０のカバー１５内側における磁石１２外周側面に配置された送受信部３０の一部の基板を覆うケース４４に接続されている。この連通管８２２により、ケース４４が第２のフレームの流路７６７に連通している。
【００４５】
そして、第２のフレーム７６、第２の冷却部８２の冷却管８２１の一端部、及び連通管８２２は、架台１０のカバー１５内側に配置されている。また、冷却管８２１の一端部以外の部分及びファン８２３は、カバー１５外側に配置されている。
【００４６】
このように、レール７３を支持する第２のフレーム７６のケース４３近傍に第２の開口７６５を設けると共に、第２の開口７６５及びケース４４に連通する流路７６７を第２のフレーム７６内に形成し、更に流路７６７に連通する第１の開口７６４を第２のフレーム７６に設け、第１の開口７６４に冷却管８２１を接続することにより、配管を容易に行うことができる。これにより、配管にかかる手間を軽減することができる。
【００４７】
また、第１の開口７６４を第２のフレーム７６の開口部１１側とは反対側の側面に設けることにより、冷却管８２１を直線状に整然と配置することができる。これにより、架台１０近傍の冷却管８２１に必要な床面積を低減し、被検体Ｐへアクセスする通路の確保することができるため、作業性の向上を図ることができる。
【００４８】
ここで、ファン８２３は、例えば冷却管８２１の他端内の空気を吸引する。この吸引により、架台１０外の空気がケース４４内に吸気されると共に、ケース４４内の基板により温度上昇する空気が、連通管８２２、第３の開口７６６、流路７６７、第１の開口７６４、及び冷却管８２１を経由して、ファン８２３から排出される。また、架台１０外の空気がケース４３内に吸気されると共に、ケース４３内の温度上昇する空気が、第２の開口７６５、流路７６７、第１の開口７６４、及び冷却管８２１を経由して、ファン８２３から排出される。
【００４９】
このように、ケース４３，４４を冷却することにより、ケース４３，４４から伝達される熱によって開口部１１内の空気の温度が上昇するのを防止することができる。
【００５０】
図６は、第３のフレーム７７及び第３の冷却部８３の構成の詳細を示した図である。この第３のフレーム７７は、一端部７７１の架台１０の開口部１１側とは反対側の側面に設けられた第１の開口７７３、及び他端部７７２の中央付近に設けられた第２の開口７７４を有する。そして、第１の開口７７３と第２の開口７７４が第３のフレーム７７内に形成された流路７７５で連通している。
【００５１】
第３の冷却部８３の冷却管８３１は、一端が第３のフレーム７７の第１の開口７７３に接続され、他端がファン８３３に接続されている。そして、冷却管８３１は、架台１０近傍においては、床面上（又は床に掘られたピット内）を第１及び第２の冷却部８１，８２の冷却管８１１，８２１と並べて直線状に配置可能に配管される。また、連通管８３２は、一端が寝台部７０におけるレール７３の開口７３２に接続され、他端が第３のフレーム７７の第２の開口７７４に接続されている。この連通管８３２及びレール７３を介して、架台１０の高周波コイルユニット１４が第３のフレーム７７の流路７７５に連通している。
【００５２】
そして、第３のフレーム７７、第３の冷却部８３の冷却管８３１の一端部及び連通管８３２は、架台１０のカバー１５内側に配置されている。また、冷却管８３１の一端部以外の部分及びファン８３３は、カバー１５外側に配置されている。
【００５３】
このように、レール７３を支持する第３のフレーム７７内に高周波コイルユニット１４に連通する流路７７５を形成すると共に、流路７７５に連通する第１の開口７７３を第３のフレーム７７に設け、第１の開口７７３に冷却管８３１を接続することにより、配管を容易に行うことができる。これにより、配管にかかる手間を軽減することができる。
【００５４】
また、第１の開口７７３を第３のフレーム７７の開口部１１側とは反対側の側面に設けることにより、冷却管８３１を直線状に整然と配置することができる。これにより、架台１０近傍の冷却管８３１に必要な床面積を低減し、被検体Ｐへアクセスする通路の確保することができるため、作業性の向上を図ることができる。
【００５５】
ここで、ファン８３３は、例えば冷却管８３１の他端内の空気を吸引する。この吸引により、高周波コイルユニット１４内の各素子により温度上昇する空気は、レール７３の開口７３３、中空部７３１、開口７３２、連通管８３２、第２の開口７７４、流路７７５、第１の開口７７３、及び冷却管８３１を経由して、ファン８３３から排出される。
【００５６】
このように、高周波コイルユニット１４を冷却することにより、高周波コイルユニット１４から伝達される熱によって開口部１１内の空気の温度が上昇するのを防止することができる。
【００５７】
以上述べた本発明の実施例によれば、開口部１１に連通する流路７５７を、レール７３を支持する第１のフレーム７５内に形成すると共に、流路７５７に連通する第１の開口７５４を第１のフレーム７５に設け、第１の開口７５４に冷却管８１１を接続することにより、配管を容易に行うことができる。また、レール７３を支持する第２のフレーム７６のケース４３近傍に第２の開口７６５を設けると共に、第２の開口７６５及びケース４４に連通する流路７６７を第２のフレーム７６内に形成し、更に流路７６７に連通する第１の開口７６４を第２のフレーム７６に設け、第１の開口７６４に冷却管８２１を接続することにより、配管を容易に行うことができる。更に、レール７３を支持する第３のフレーム７７内に高周波コイルユニット１４に連通する流路７７５を形成すると共に、流路７７５に連通する第１の開口７７３を第３のフレーム７７に設け、第１の開口７７３に冷却管８３１を接続することにより、配管を容易に行うことができる。以上により、配管にかかる手間を軽減することができる。
【００５８】
また、第１の開口７５４，７６４，７７３を第１乃至第３のフレーム７５，７６，７７の開口部１１側とは反対側の側面に設けることにより、冷却管８１１，８２１，８３１を直線状に整然と配置することができる。これにより、架台１０近傍の冷却管８１１，８２１，８３１に必要な床面積を低減し、被検体Ｐへアクセスする通路の確保することができるため、作業性の向上を図ることができる。
【符号の説明】
【００５９】
Ｐ 被検体
１０ 架台
１１ 開口部
１２ 磁石
１３ 傾斜磁場コイルユニット
１４，１９ 高周波コイルユニット
１５ カバー
２０ 電源部
２１ 静磁場電源
２２ 傾斜磁場電源
３０ 送受信部
４０ データ処理部
７０ 寝台部
７１ 天板
７２ 支持台
７３ レール
７４ フレーム
８０ 冷却部
８１ 第１の冷却部
８２ 第２の冷却部
８３ 第３の冷却部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁場を発生する架台を冷却する機能を備えたＭＲＩ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＭＲＩ（Ｍａｇｎｅｔｉｃ・Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ・Ｉｍａｇｉｎｇ）装置は、磁場を発生する架台に設けた開口部内に天板上に載置された被検体を送り込んで撮像が行われる。この撮像では、静磁場及び傾斜磁場内の被検体に高周波コイルからのＲＦ（Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）波を照射して水素原子核スピンを励起し、この励起により水素原子核から放出されるＲＦ波を高周波コイルで受信して磁気共鳴（ＭＲ）信号を検出する。そして、検出したＭＲ信号に基づいて画像データを生成する。このように、被検体に対して無侵襲で、骨や空気による影響を受けることなく画像データを得ることができるため、今日の画像診断の分野では不可欠なものとなっている。
【０００３】
ところで、架台は開口部以外がカバーで覆われ、カバー内には撮像に関る多くの発熱部品を有する。そして、発熱部品により周囲の温度が上昇して、開口部内に送り込まれた被検体に不快感を与える恐れがある。この問題を解決するために、ＲＦ波を照射する高周波コイルの発熱により開口部内の温度が上昇するのを防止することができるＭＲＩ装置が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
このＭＲＩ装置では、天板を開口部内に導くレール内に形成されたダクト及びこのダクトに接続される架台外に配置された延長ダクトを介して、架台内の高周波コイルと架台外に配置されたファンが連通している。そして、ファンが高周波コイル内の温度上昇する空気を架台外に排出して冷却することにより、高周波コイルからの熱により開口部内の空気の温度が上昇するのを防止している。
【０００５】
また、開口部と架台外に配置されたファンとが、架台外に配置されるダクトホースを介して連通しているＭＲＩ装置がある。この装置では、架台内からの熱により開口部内の温度上昇する空気をファンが架台外に排出して冷却することにより、開口部内の温度上昇を防止している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−１４２６４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、架台には様々なユニットが配置されており、そのユニットを避けて延長ダクトやダクトホースなどの冷却管を配管する必要がある。このため、冷却管の配管に手間がかかる問題がある。
【０００８】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、冷却管の配管にかかる手間を軽減することができるＭＲＩ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明のＭＲＩ装置は、被検体に対して磁場を発生する架台を備えたＭＲＩ装置において、前記被検体が載置される天板を前記開口部内に導くレールと、前記レールを支持するフレームと、前記フレーム及びこのフレームに接続される前記架台外に配置された冷却管を介して前記架台を冷却する冷却手段とを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、架台の開口部内に天板を導くレールを支持するフレームに架台外に配置される冷却管を接続し、その冷却管及びフレームを介して架台を冷却することにより、冷却管の配管にかかる手間を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施例に係るＭＲＩ装置の構成を示すブロック図。
【図２】本発明の実施例に係る寝台部の構成の一例を示す図。
【図３】本発明の実施例に係るフレームの構成の一例を示す図。
【図４】本発明の実施例に係る第１のフレーム及び第１の冷却部の構成の詳細を示す図。
【図５】本発明の実施例に係る第２のフレーム及び第２の冷却部の構成の詳細を示す図。
【図６】本発明の実施例に係る第３のフレーム及び第３の冷却部の構成の詳細を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。
【実施例】
【００１３】
以下、本発明によるＭＲＩ装置の実施例を、図１乃至図６を参照して説明する。
【００１４】
図１は、本発明の実施例に係るＭＲＩ装置の構成を示したブロック図である。このＭＲＩ装置１００は、被検体Ｐに対して磁場を発生する架台１０と、この架台１０に磁場を発生させるための電力を供給する電源部２０と、架台１０で発生した磁場に基づいてＭＲ信号を検出する高周波コイルユニット１９と、高周波コイルユニット１９により検出されたＭＲ信号を受信する送受信部３０と、送受信部３０で受信されたＭＲ信号に基づいて画像データを生成するデータ処理部４０とを備えている。
【００１５】
また、ＭＲＩ装置１００は、データ処理部４０で生成された画像データを表示する表示部５０と、各種コマンド等の入力を行う操作部６０と、被検体Ｐが移動可能に載置される寝台部７０と、寝台部７０を介して架台１０を冷却する冷却部８０と、操作部６０からの入力信号に基づいて、電源部２０、送受信部３０、データ処理部４０、寝台部７０、及び冷却部８０を制御するシステム制御部９０とを備えている。
【００１６】
架台１０は、被検体Ｐが送り込まれる水平方向に貫通する円筒状の開口部１１を有し、開口部１１の外周に配置された静磁場を発生する磁石１２と、開口部１１と磁石１２の間に配置された傾斜磁場を発生する傾斜磁場コイルユニット１３と、開口部１１と傾斜磁場コイルユニット１３の間に配置されたＲＦ磁場を発生する例えばホールボディコイルなどの高周波コイルユニット１４と、磁石１２、傾斜磁場コイルユニット１３、及び高周波コイルユニット１４を覆うカバー１５とを備えている。
【００１７】
そして、磁石１２は、例えば超伝導磁石が用いられ、開口部１１内へ送り込まれた被検体Ｐに対して一様な静磁場を発生する。また、傾斜磁場コイルユニット１３は、磁石１２が発生した静磁場に傾斜磁場を発生する。また、高周波コイルユニット１４は、被検体Ｐに水素原子核を励起させるためのパルス状のＲＦ波を照射してＲＦ磁場を発生する。
【００１８】
電源部２０は、システム制御部９０から供給される制御信号に基づいて、架台１０の磁石１２に静磁場を発生させるための電力を供給する静磁場電源２１、及び傾斜磁場コイルユニット１３に傾斜磁場を発生させるための電力を供給する傾斜磁場電源２２を備えている。
【００１９】
高周波コイルユニット１９は、被検体Ｐ近傍に配置された例えばヘッドコイルであり、架台１０の高周波コイルユニット１４からのＲＦ波の照射に応じて、被検体Ｐから放出されるＲＦ波を受信してＭＲ信号を検出する。そして、検出したＭＲ信号を送受信部に出力する。
【００２０】
送受信部３０は、架台１０の高周波コイルユニット１４にパルス状のＲＦ波を照射させる駆動信号を供給する基準信号発振器、変調器、電力増幅器等を有する基板を備えた送信部３１と、高周波コイルユニット１９からのＭＲ信号を受信して処理を行う受信部３２とにより構成される。そして、受信部３２は、増幅器、中間周波数変換器、位相検波器、フィルタ、Ａ／Ｄ変換器等を有する基板を備え、送信部３１の高周波コイルユニット１４への駆動信号の供給に応じて高周波コイルユニット１９で検出されたＭＲ信号を受信する。そして、受信したＭＲ信号に対して中間周波数変換、位相検波、フィルタリング等の処理、更にはＡ／Ｄ変換を施したＭＲ信号をデータ処理部４０に出力する。
【００２１】
データ処理部４０は、送受信部３０の受信部３２から出力されたＭＲ信号を再構成して画像データを生成し、生成した画像データを表示部５０に出力する。
【００２２】
表示部５０は、ＣＲＴ又は液晶パネル等を備え、データ処理部４０から出力された画像データを表示する。また、操作部６０は、スイッチ、キーボード、マウス等の各種入力デバイスや表示パネルを備え、被検体Ｐの画像データを生成するための撮像条件の入力や、被検体Ｐを架台１０の開口部１１内に送り込むための入力などを行う。
【００２３】
図２は、寝台部７０の構成の一例を示した図である。この寝台部７０は、被検体Ｐが載置される天板７１と、天板７１を上下方向及び長手方向に移動可能に支持する床面上に配置された支持台７２と、天板７１を架台１０の開口部１１内に導くレール７３と、レール７３を支持するフレーム７４とを備えている。
【００２４】
天板７１は、支持台７２及びレール７３上を移動可能に配置され、ホームポジションにおいては架台１０の正面側に配置された支持台７２上に位置している。そして、レール７３に沿って開口部１１方向へ最大移動したとき、被検体Ｐの全身又は全身に近い広範囲に亘って撮像が可能なように、一端部が開口部１１を貫通して架台１０外の背面側に位置すると共に他端部が支持台７２上に位置する長さに形成されている。
【００２５】
支持台７２は、ホームポジションにおける天板７１を上下方向及び長手方向に移動可能に支持している。そして、システム制御部９０からの制御信号に基づいて天板７１をホームポジションから開口部１１方向へ移動し、天板７１が開口部１１方向へ最大移動した位置では、天板７１の他端部を支持している。
【００２６】
レール７３は、開口部１１を貫通して配置される。そして、一端部が架台１０正面側の支持台７２近傍に位置し、中央部分が架台１０のカバー１５の内の開口部１１を形成している部分に支持されている。また、他端部が開口部１１から突き抜けて架台１０背面側に位置し、フレーム７４に支持されている。
【００２７】
そして、レール７３は、中空部７３１、フレーム７４に支持された他端部の下面に設けられた中空部７３１に連通している開口７３２、及び開口部１１内の下面に設けられた中空部７３１に連通している開口７３３を有する。そして、中空部７３１は、開口７３２を介してフレーム７４に連通し、開口７３３を介して架台１０内の高周波コイルユニット１４に連通している。
【００２８】
図１の冷却部８０は、架台１０を冷却する第１乃至第３の冷却部８１乃至８３を備えている。そして、第１の冷却部８１は、寝台部７０のフレーム７４に接続される架台１０外に配置された冷却管８１１及び架台１０内に配置された連通管８１２，８１３と、冷却管８１１、フレーム７４、及び連通管８１２，８１３を介して架台１０の開口部１１内を冷却するファン８１４とを備えている。
【００２９】
また、第２の冷却部８２は、寝台部７０のフレーム７４に接続される架台１０外に配置された冷却管８２１及び架台１０内に配置された連通管８２２と、冷却管８２１、フレーム７４、及び連通管８２２を介して架台１０内に配置された送受信部３０の基板を冷却するファン８２３とを備えている。
【００３０】
更に、第３の冷却部８３は、寝台部７０のフレーム７４に接続される架台１０外に配置された冷却管８３１及び架台１０内に配置された連通管８３２と、冷却管８３１、フレーム７４、連通管８３２、及び寝台部７０のレール７３を介して架台１０の高周波コイルユニット１４を冷却するファン８３３を備えている。
【００３１】
システム制御部９０は、ＣＰＵや記憶回路を備え、操作部６０からの入力信号に基づいて、電源部２０、送受信部３０、データ処理部４０、寝台部７０、及び冷却部８０の各ユニットの制御やシステム全体の制御を行なう。そして、電源部２０における傾斜磁場電源２２の傾斜磁場コイルユニット１３への電力供給タイミングを制御する。また、送受信部３０における送信部３１の高周波コイルユニット１４への駆動信号を供給するタイミングや受信部３２のＭＲ信号を受信するタイミングを制御する。
【００３２】
以下、図１乃至図６を参照して寝台部７０及び冷却部８０の構成の詳細を説明する。
図３は、フレーム７４の構成の一例を示した図である。このフレーム７４は、架台１０背面側の床面上に配置され、例えば中空管状を成し、その中空が空気の流通する流路として形成された第１乃至第３のフレーム７５乃至７７及び２つの第４のフレーム７８，７９等により構成される。
【００３３】
第１のフレーム７５は、天板７１の長手方向に対して垂直に床面上に水平配置された中央部７５１と、床面に対して垂直配置された中央部７５１の一端に一端が連なる一端部７５２と、床面に対して垂直配置された中央部７５１の他端に一端が連なる他端部７５３とにより構成される。そして、中央部７５１の架台１０の開口部１１側とは反対側の側面両端が第２及び第３のフレーム７６，７７に接合されている。また、一端部７５２の開口部１１付近の高さに位置する端面が第４のフレーム７８に接合され、他端部７５３の一端部７５２端面と同じ高さに位置する端面が第４のフレーム７９に接合されている。
【００３４】
第２のフレーム７６は、第１のフレーム７５の開口部１１側とは反対側に配置され、床面上に配置されたＴ字状の一端部７６１と、床面に対して垂直配置された一端部７６１の一端に一端が連なる中央部７６２と、第１のフレーム７５の中央部７５１に対して平行配置され、上面が第１のフレーム７５の一端部７５２端面と同じ高さに位置して中央部７６２の他端に一端が連なる他端部７６３とにより構成される。そして、一端部７６１の開口部１１側の側面の一部が第１のフレーム７５に接合され、他端部７６３の上面一端が第４のフレーム７８に接合されている。また、他端部７６３の端面が第３のフレーム７７に接合されている。
【００３５】
第３のフレーム７７は、第１のフレーム７５の開口部１１側とは反対側に配置され、床面上に配置されたＬ字状の一端部７７１と、第２のフレーム７６の中央部７６２に対して平行配置され、端面が第１のフレーム７５の他端部７５３端面と同じ高さに位置して一端部７７１の一端に連なる他端部７７２とにより構成される。そして、一端部７７１の開口部１１側の側面が第１のフレーム７５に接合され、他端部７７２の端面が第４のフレーム７９に接合されている。
【００３６】
第４のフレーム７８は、第１及び第２のフレーム７５，７６上に水平に、且つ第２のフレーム７６の他端部７６３に対して垂直に配置され、一端に貫通孔が設けられている。そして、一端の下面が第１のフレーム７５に接合され、中央近傍の下面が第２のフレーム７６に接合されている。また、第４のフレーム７９は、第１及び第３のフレーム７５，７７上に水平に、且つ第２のフレーム７６の他端部７６３に対して垂直に配置され、一端に貫通孔が設けられている。そして、一端の下面が第１のフレーム７５に接合され、中央近傍の下面が第３のフレーム７７に接合されている。そして、第４のフレーム７８，７９上にレール７３が固定されている。
【００３７】
図４は、第１のフレーム７５及び第１の冷却部８１の構成の詳細を示した図である。この第１のフレーム７５は、中央部７５１の開口部１１側とは反対側の側面に設けられた第１の開口７５４、第４のフレーム７８，７９の貫通孔を貫通して一端部７５２及び他端部７５３端面上に設けられた第２の開口７５５，７５６を有する。そして、各第１及び第２の開口７５４，７５５，７５６が第１のフレーム７５内に形成された流路７５７で連通している。
【００３８】
第１の冷却部８１の冷却管８１１は、一端が第１のフレーム７５の第１の開口７５４に接続され、他端が架台１０から離間して、架台１０及び寝台部７０が配置される磁気シールドルーム内又はこの磁気シールドルーム外に配置されたファン８１４に接続されている。そして、冷却管８１１は、架台１０近傍においては、床面上（又は床に掘られたピット内）を例えば直線状に配管可能に配置される。また、連通管８１２は、一端が第１のフレーム７５の第２の開口７５５に接続され、他端が開口部１１内に配置されている。更に、連通管８１３は、一端が第１のフレーム７５の第２の開口７５６に接続され、他端が開口部１１内に配置されている。この連通管８１２，８１３により、架台１０の開口部１１と第１のフレーム７５の流路７５７とが連通されている。
【００３９】
そして、第１のフレーム７５、第１の冷却部８１の冷却管８１１の一端部、及び連通管８１２，８１３は架台１０のカバー１５内側に配置されている。また、冷却管８１１の一端部以外の部分及びファン８１４は、カバー１５外側に配置されている。
【００４０】
このように、開口部１１に連通する流路７５７を、レール７３を支持する第１のフレーム７５内に形成すると共に、流路７５７に連通する第１の開口７５４を第１のフレーム７５に設け、第１の開口７５４に冷却管８１１を接続することにより、配管を容易に行うことができる。これにより、配管にかかる手間を軽減することができる。
【００４１】
また、第１の開口７５４を第１のフレーム７５の開口部１１側とは反対側の側面に設けることにより、冷却管８１１を直線状に整然と配置することができる。これにより、架台１０近傍の冷却管８１１に必要な床面積を低減し、被検体Ｐへアクセスする通路の確保することができるため、作業性の向上を図ることができる。
【００４２】
ここで、ファン８１４は、例えば架台１０から離れた位置の空気を吸引して、冷却管８１１の他端内に送給する。この送給された空気は、冷却管８１１、第１の開口７５４、流路７５７、第２の開口７５５，７５６、及び連通管８１２，８１３を経由して、架台１０の背面側から開口部１１内に送給される。これにより、架台１０の傾斜磁場コイルユニット１３や高周波コイルユニット１４から伝達される熱により温度上昇する開口部１１内の空気は、架台１０の正面側から開口部１１外に排出される。このように、架台１０から離れた位置の空気を開口部１１内に供給することにより、開口部１１内の温度上昇を防止することができる。
【００４３】
図５は、第２のフレーム７６及び第２の冷却部８２の構成の詳細を示した図である。この第２のフレーム７６は、一端部７６１の架台１０の開口部１１側とは反対側の側面に設けられた第１の開口７６４、送受信部３０の一部の基板を覆うケース４３近傍に配置される他端部７６３下面に設けられた複数の第２の開口７６５、及び一端部７６１の開口部１１側の側面の他部に設けられた第３の開口７６６を有する。そして、各第１乃至第３の開口７６４乃至７６６が第２のフレーム７６内に形成された流路７６７で連通している。
【００４４】
第２の冷却部８２の冷却管８２１は、一端が第２のフレーム７６の第１の開口７６４に接続され、他端が架台１０から離間して磁気シールドルーム内又は外に配置されたファン８２３に接続されている。そして、冷却管８２１は、架台１０近傍においては、床面上（又は床に掘られたピット内）を第１の冷却部８１の冷却管８１１と並べて直線状に配置可能に配管される。また、連通管８２２は、一端が第２のフレーム７６の第３の開口７６６に接続され、他端が架台１０のカバー１５内側における磁石１２外周側面に配置された送受信部３０の一部の基板を覆うケース４４に接続されている。この連通管８２２により、ケース４４が第２のフレームの流路７６７に連通している。
【００４５】
そして、第２のフレーム７６、第２の冷却部８２の冷却管８２１の一端部、及び連通管８２２は、架台１０のカバー１５内側に配置されている。また、冷却管８２１の一端部以外の部分及びファン８２３は、カバー１５外側に配置されている。
【００４６】
このように、レール７３を支持する第２のフレーム７６のケース４３近傍に第２の開口７６５を設けると共に、第２の開口７６５及びケース４４に連通する流路７６７を第２のフレーム７６内に形成し、更に流路７６７に連通する第１の開口７６４を第２のフレーム７６に設け、第１の開口７６４に冷却管８２１を接続することにより、配管を容易に行うことができる。これにより、配管にかかる手間を軽減することができる。
【００４７】
また、第１の開口７６４を第２のフレーム７６の開口部１１側とは反対側の側面に設けることにより、冷却管８２１を直線状に整然と配置することができる。これにより、架台１０近傍の冷却管８２１に必要な床面積を低減し、被検体Ｐへアクセスする通路の確保することができるため、作業性の向上を図ることができる。
【００４８】
ここで、ファン８２３は、例えば冷却管８２１の他端内の空気を吸引する。この吸引により、架台１０外の空気がケース４４内に吸気されると共に、ケース４４内の基板により温度上昇する空気が、連通管８２２、第３の開口７６６、流路７６７、第１の開口７６４、及び冷却管８２１を経由して、ファン８２３から排出される。また、架台１０外の空気がケース４３内に吸気されると共に、ケース４３内の温度上昇する空気が、第２の開口７６５、流路７６７、第１の開口７６４、及び冷却管８２１を経由して、ファン８２３から排出される。
【００４９】
このように、ケース４３，４４を冷却することにより、ケース４３，４４から伝達される熱によって開口部１１内の空気の温度が上昇するのを防止することができる。
【００５０】
図６は、第３のフレーム７７及び第３の冷却部８３の構成の詳細を示した図である。この第３のフレーム７７は、一端部７７１の架台１０の開口部１１側とは反対側の側面に設けられた第１の開口７７３、及び他端部７７２の中央付近に設けられた第２の開口７７４を有する。そして、第１の開口７７３と第２の開口７７４が第３のフレーム７７内に形成された流路７７５で連通している。
【００５１】
第３の冷却部８３の冷却管８３１は、一端が第３のフレーム７７の第１の開口７７３に接続され、他端がファン８３３に接続されている。そして、冷却管８３１は、架台１０近傍においては、床面上（又は床に掘られたピット内）を第１及び第２の冷却部８１，８２の冷却管８１１，８２１と並べて直線状に配置可能に配管される。また、連通管８３２は、一端が寝台部７０におけるレール７３の開口７３２に接続され、他端が第３のフレーム７７の第２の開口７７４に接続されている。この連通管８３２及びレール７３を介して、架台１０の高周波コイルユニット１４が第３のフレーム７７の流路７７５に連通している。
【００５２】
そして、第３のフレーム７７、第３の冷却部８３の冷却管８３１の一端部及び連通管８３２は、架台１０のカバー１５内側に配置されている。また、冷却管８３１の一端部以外の部分及びファン８３３は、カバー１５外側に配置されている。
【００５３】
このように、レール７３を支持する第３のフレーム７７内に高周波コイルユニット１４に連通する流路７７５を形成すると共に、流路７７５に連通する第１の開口７７３を第３のフレーム７７に設け、第１の開口７７３に冷却管８３１を接続することにより、配管を容易に行うことができる。これにより、配管にかかる手間を軽減することができる。
【００５４】
また、第１の開口７７３を第３のフレーム７７の開口部１１側とは反対側の側面に設けることにより、冷却管８３１を直線状に整然と配置することができる。これにより、架台１０近傍の冷却管８３１に必要な床面積を低減し、被検体Ｐへアクセスする通路の確保することができるため、作業性の向上を図ることができる。
【００５５】
ここで、ファン８３３は、例えば冷却管８３１の他端内の空気を吸引する。この吸引により、高周波コイルユニット１４内の各素子により温度上昇する空気は、レール７３の開口７３３、中空部７３１、開口７３２、連通管８３２、第２の開口７７４、流路７７５、第１の開口７７３、及び冷却管８３１を経由して、ファン８３３から排出される。
【００５６】
このように、高周波コイルユニット１４を冷却することにより、高周波コイルユニット１４から伝達される熱によって開口部１１内の空気の温度が上昇するのを防止することができる。
【００５７】
以上述べた本発明の実施例によれば、開口部１１に連通する流路７５７を、レール７３を支持する第１のフレーム７５内に形成すると共に、流路７５７に連通する第１の開口７５４を第１のフレーム７５に設け、第１の開口７５４に冷却管８１１を接続することにより、配管を容易に行うことができる。また、レール７３を支持する第２のフレーム７６のケース４３近傍に第２の開口７６５を設けると共に、第２の開口７６５及びケース４４に連通する流路７６７を第２のフレーム７６内に形成し、更に流路７６７に連通する第１の開口７６４を第２のフレーム７６に設け、第１の開口７６４に冷却管８２１を接続することにより、配管を容易に行うことができる。更に、レール７３を支持する第３のフレーム７７内に高周波コイルユニット１４に連通する流路７７５を形成すると共に、流路７７５に連通する第１の開口７７３を第３のフレーム７７に設け、第１の開口７７３に冷却管８３１を接続することにより、配管を容易に行うことができる。以上により、配管にかかる手間を軽減することができる。
【００５８】
また、第１の開口７５４，７６４，７７３を第１乃至第３のフレーム７５，７６，７７の開口部１１側とは反対側の側面に設けることにより、冷却管８１１，８２１，８３１を直線状に整然と配置することができる。これにより、架台１０近傍の冷却管８１１，８２１，８３１に必要な床面積を低減し、被検体Ｐへアクセスする通路の確保することができるため、作業性の向上を図ることができる。
【符号の説明】
【００５９】
Ｐ 被検体
１０ 架台
１１ 開口部
１２ 磁石
１３ 傾斜磁場コイルユニット
１４，１９ 高周波コイルユニット
１５ カバー
２０ 電源部
２１ 静磁場電源
２２ 傾斜磁場電源
３０ 送受信部
４０ データ処理部
７０ 寝台部
７１ 天板
７２ 支持台
７３ レール
７４ フレーム
８０ 冷却部
８１ 第１の冷却部
８２ 第２の冷却部
８３ 第３の冷却部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体に対して磁場を発生する架台を備えたＭＲＩ装置において、
前記被検体が載置される天板を前記開口部内に導くレールと、
前記レールを支持するフレームと、
前記フレーム及びこのフレームに接続される前記架台外に配置された冷却管を介して前記架台を冷却する冷却手段とを
備えたことを特徴とするＭＲＩ装置。
【請求項２】
前記フレームは中空管状を成し、その中空が流路として形成されていることを特徴とする請求項１に記載のＭＲＩ装置。
【請求項３】
前記レールは、前記開口部を貫通して配置され、一端部が前記天板を移動可能に支持する前記支持台近傍に位置し、他端部が前記開口部から突き抜けて前記フレームに支持されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のＭＲＩ装置。
【請求項４】
前記開口部内に導かれた前記天板上の前記被検体に対して磁場を発生する前記架台内に配置された磁場発生手段、及び前記流路に連通する前記フレームに設けられた第１の開口を有し、
前記冷却手段は、前記磁場発生手段からの熱により温度上昇する前記開口部内の空気を、前記開口部に連通する前記流路、前記第１の開口、及びこの第１の開口に接続される前記冷却管を介して排出するようにしたことを特徴とする請求項３に記載のＭＲＩ装置。
【請求項５】
前記開口部内に導かれた前記天板上の前記被検体に対してＲＦ磁場を発生する前記架台内に配置された高周波コイルユニット、及び前記流路に連通する前記フレームに設けられた第１の開口を有し、
前記冷却手段は、前記高周波コイルユニット内で温度上昇する空気を、前記レールに形成された前記高周波コイルに連通する中空部、この中空部に連通する前記流路、前記第１の開口、及びこの第１の開口に接続される前記冷却管を介して排出するようにしたことを特徴とする請求項３に記載のＭＲＩ装置。
【請求項６】
前記開口部内に導かれた前記天板上の前記被検体に対してＲＦ磁場を発生させる駆動信号を生成すると共に前記ＲＦ磁場の発生に応じて検出されるＭＲ信号を受信する基板を備えた送受信手段、並びに前記流路に連通する前記フレームに設けられた第１及び第２の開口を有し、
前記冷却手段は、前記第２の開口近傍に配置された前記基板により温度上昇する空気を、前記第２の開口、前記流路、前記第１の開口、及びこの第１の開口に接続される前記冷却管を介して排出するようにしたことを特徴とする請求項３に記載のＭＲＩ装置。
【請求項７】
前記第１の開口は、前記フレームの前記開口部側とは反対側の側面に設けられていることを特徴とする請求項４乃至請求項６のいずれかに記載のＭＲＩ装置。
【請求項１】
被検体に対して磁場を発生する架台を備えたＭＲＩ装置において、
前記被検体が載置される天板を前記開口部内に導くレールと、
前記レールを支持するフレームと、
前記フレーム及びこのフレームに接続される前記架台外に配置された冷却管を介して前記架台を冷却する冷却手段とを
備えたことを特徴とするＭＲＩ装置。
【請求項２】
前記フレームは中空管状を成し、その中空が流路として形成されていることを特徴とする請求項１に記載のＭＲＩ装置。
【請求項３】
前記レールは、前記開口部を貫通して配置され、一端部が前記天板を移動可能に支持する前記支持台近傍に位置し、他端部が前記開口部から突き抜けて前記フレームに支持されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のＭＲＩ装置。
【請求項４】
前記開口部内に導かれた前記天板上の前記被検体に対して磁場を発生する前記架台内に配置された磁場発生手段、及び前記流路に連通する前記フレームに設けられた第１の開口を有し、
前記冷却手段は、前記磁場発生手段からの熱により温度上昇する前記開口部内の空気を、前記開口部に連通する前記流路、前記第１の開口、及びこの第１の開口に接続される前記冷却管を介して排出するようにしたことを特徴とする請求項３に記載のＭＲＩ装置。
【請求項５】
前記開口部内に導かれた前記天板上の前記被検体に対してＲＦ磁場を発生する前記架台内に配置された高周波コイルユニット、及び前記流路に連通する前記フレームに設けられた第１の開口を有し、
前記冷却手段は、前記高周波コイルユニット内で温度上昇する空気を、前記レールに形成された前記高周波コイルに連通する中空部、この中空部に連通する前記流路、前記第１の開口、及びこの第１の開口に接続される前記冷却管を介して排出するようにしたことを特徴とする請求項３に記載のＭＲＩ装置。
【請求項６】
前記開口部内に導かれた前記天板上の前記被検体に対してＲＦ磁場を発生させる駆動信号を生成すると共に前記ＲＦ磁場の発生に応じて検出されるＭＲ信号を受信する基板を備えた送受信手段、並びに前記流路に連通する前記フレームに設けられた第１及び第２の開口を有し、
前記冷却手段は、前記第２の開口近傍に配置された前記基板により温度上昇する空気を、前記第２の開口、前記流路、前記第１の開口、及びこの第１の開口に接続される前記冷却管を介して排出するようにしたことを特徴とする請求項３に記載のＭＲＩ装置。
【請求項７】
前記第１の開口は、前記フレームの前記開口部側とは反対側の側面に設けられていることを特徴とする請求項４乃至請求項６のいずれかに記載のＭＲＩ装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１１−１６７４６８（Ｐ２０１１−１６７４６８Ａ）
【公開日】平成２３年９月１日（２０１１．９．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−３６４４５（Ｐ２０１０−３６４４５）
【出願日】平成２２年２月２２日（２０１０．２．２２）
【出願人】（０００００３０７８）株式会社東芝 (54,554)
【出願人】（５９４１６４５４２）東芝メディカルシステムズ株式会社 (4,066)
【出願人】（５９４１６４５３１）東芝医用システムエンジニアリング株式会社 (892)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年９月１日（２０１１．９．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年２月２２日（２０１０．２．２２）
【出願人】（０００００３０７８）株式会社東芝 (54,554)
【出願人】（５９４１６４５４２）東芝メディカルシステムズ株式会社 (4,066)
【出願人】（５９４１６４５３１）東芝医用システムエンジニアリング株式会社 (892)
【Ｆターム（参考）】
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