説明

信越化学工業株式会社により出願された特許

1,031 - 1,040 / 3,361


【課題】化粧料製造時に100℃以上での加熱の必要がなく、また、優れた感触を示し、さらに他の増粘剤とも併用可能な、シリコーン変性ワックス組成物及び該組成物を含む化粧料を提供する。
【解決手段】融点100℃以上のシリコーン変性ワックスと、融点80℃以下の油剤からなり、該シリコーン変性ワックスの融点以上の温度で該シリコーン変性ワックスと該油剤とを溶解混合した後、冷却することにより調製された、化粧料用の組成物。 (もっと読む)


【課題】フォトレジストパターンの側壁にスペーサーを形成する際のパターンの変形やLWRの増大を防ぐことができるパターン形成方法。
【解決手段】フォトレジストパターン4の側壁にスペーサー7を形成して基板1上にパターンを形成するパターン形成方法において、フォトレジスト膜を成膜する工程は、塩基発生剤を含有するフォトレジスト膜材料を用いてフォトレジスト膜を形成し、フォトレジストパターンの側壁にスペーサーを形成する工程は、フォトレジストパターン上にシロキサン結合を有する珪素化合物を含む溶液を塗布した後、ベークによってフォトレジストパターン内に塩基発生剤よりアミン化合物を発生させ、該アミン化合物を触媒としてフォトレジストパターンの外側に珪素化合物の架橋部6を形成し、その後、未架橋の珪素化合物を除去することによりスペーサーを形成する。 (もっと読む)


【課題】 ロッド下部に堆積したガラス層表面にざらつきが発生せず、長手方向に安定して大きな比屈折率差を有する光ファイバプリフォームの製造方法を提供する。
【解決手段】 高周波誘導熱プラズマトーチに少なくともガラス原料、ドーパント原料及び酸素を供給し、プラズマ火炎中で合成されたガラス微粒子を、回転しつつプラズマトーチに対して相対的に往復運動するガラスロッド表面に付着堆積させる光ファイバプリフォームの製造方法において、該往復運動の往路のみガラス原料を供給し、該往路でのプラズマパワーを往路初期の所定時間その後の定常状態時のプラズマパワーよりも大きくし、生成したガラス微粒子をガラスロッド上に堆積させることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】シリコーンオイル、極性の高い成分、及び粉体を含む化粧料における分散状態を安定に維持し、且つ、皮膚親和性に優れた化粧料を与えるオルガノポリシロキサン及びそれを含む化粧料を提供する。
【解決手段】下記式(1)で示されるオルガノポリシロキサン。


[式(1)中、R1は、互いに独立して炭素数1から30のアラルキル基、炭素数1から30のフッ素置換アルキル基、炭素数6から30のアリール基、および炭素数6から30のアラルキル基から選ばれる基であり、R2はスクシニル基から誘導されたカルボキシル基およびエステル基を含有する基。] (もっと読む)


【課題】転写後の表面に防汚処理層を付与することの出来る硬化樹脂層の製造方法を提供する。
【解決手段】離型基材上に、含フッ素化合物を含む硬化性樹脂組成物を塗工し、次いで、硬化または部分硬化させた後に該離型基材と硬化樹脂層を剥離して、あるいは該離型基材と硬化樹脂層を剥離した後に硬化性樹脂組成物を硬化または部分硬化して、硬化樹脂層を製造する方法において、離型基材の表面部分が含フッ素化合物を含有しているところの上記方法。 (もっと読む)


【課題】べたつき感を与えることなく、皮膚との親和性及び密着性に優れるオルガノポリシロキサン、及び該オルガノポリシロキサンを含む化粧料を提供する。
【解決手段】下記式(1)で示されるオルガノポリシロキサン。


[式(1)中、Rは、互いに独立に、C1−30アルキル基、C1−30フッ素置換アルキル基、C6−30アリール基、及びC6−30アラルキル基から選ばれる基であり、Rは、無水アリルコハク酸の反応生成物であり,さらに2−アミノ1.3−プロパンジオールとの反応生成物である。Aはポリジアルキルシロキサンの反応生成物である。 (もっと読む)


【課題】モノマー含有量及び高分子量体も少なく、分子量分布がシャープであり、環状体ポリシロキサン成分の多いオルガノポリシロキサン及びその製造方法を提供する。
【解決手段】式(1)XSi(OR13・・・(1)(Xは官能基を含んでいてもよい1価炭化水素基、R1は1価炭化水素基)で表される有機ケイ素化合物及び/又はその部分加水分解縮合物を含む有機ケイ素化合物原料を加水分解、重縮合することによって得られるオルガノポリシロキサンであって、Mw/Mnが1.2以下であり、ケイ素核磁気共鳴スペクトル分析における式(1)で表される化合物由来のピークのアルコキシ基が2つ加水分解縮合し、シロキサン単位となった成分(T2)において、環状体成分を表すピーク成分(T2a)とリニア体成分を表すピーク成分(T2b)との比率(T2a/T2b)が0.9以上であるオルガノポリシロキサン。 (もっと読む)


【課題】ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなリソグラフィ用ペリクルを提供すること。
【解決手段】ペリクルフレームの一端面にペリクル膜が張設され、他端面に粘着層が設けられ、前記粘着層の気泡含有率が10〜90容量%であることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル、好ましくは、前記粘着層に含有される気泡の数平均直径が10〜200μmである。 (もっと読む)


【解決手段】合成石英ガラスブロックを複数個積み重ねて、これらを雰囲気炉内で熱処理する合成石英ガラスの熱処理方法であって、上記合成石英ガラスブロックが多角柱又は円柱であって、その高さがこの多角柱の底面の対角線よりも短い又は円柱の底面の外径よりも短いものであり、これらブロック間に空隙を設けてブロック同士を接触させずに積み重ね、熱処理する合成石英ガラスの熱処理方法。
【効果】本発明によれば、例えば、エキシマレーザ、特にはArFエキシマレーザ用、更にはArF液浸技術等に使用されるフォトマスク用合成石英マスク基板材用途、所謂レチクル材用に使用され、良好な透過率及び均一な透過率分布を有し、しかも劣化の少ない上、更には複屈折率の低いエキシマレーザ用合成石英ガラス基板、また高精細ディスプレイ用の光部品用基板等の素材となる合成石英ガラスを提供できる。 (もっと読む)


【課題】電荷輸送層の表面クリーニング性を高め、印刷済みコピー用紙の裏面利用やリサイクル用再生紙の繰り返し使用などで感光体表面に著しい負荷がかかった後でも、画像欠陥が極めて少ない高画質画像印刷性を有する電子写真感光体を提供する。
【解決手段】導電性基体上に感光層を有する電子写真感光体において、該感光層のバインダー樹脂材料として、ケイ素原子に結合する全有機置換基中のフェニル基の含有量が40〜90モル%、軟化点が60℃以上である常温で固体状のシリコーン樹脂を、ポリカーボネート樹脂などのバインダー樹脂に対して0.05〜10質量%含有したバインダー樹脂組成物を用いる。 (もっと読む)


1,031 - 1,040 / 3,361