【課題】速硬化性、深部硬化性に優れた脱アルコールタイプの２液混合型オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】下記第１、第２組成物を混合することにより硬化する２液混合型オルガノポリシロキサン組成物。
（Ａ）式（１）のオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）式（２）のケテンシリルアセタール型化合物、式（３）の２−メチルジアルコキシシリルプロピオン酸エステル及びそれらの部分加水分解物から選ばれる化合物、
（Ｃ）分子内に１個以上の窒素原子を有する有機化合物及び／又はシラン化合物、
（Ｄ）式（４）のシラン化合物又はその部分加水分解縮合物、
（Ｅ）式（５）のケテンシリルアセタール型化合物、式（６）の２−トリアルコキシシリルプロピオン酸エステル及びそれらの部分加水分解物から選ばれる化合物
を含有する第１組成物、
（Ｆ）式（７）のオルガノポリシロキサン、
（Ｇ）有機スズ触媒、
（Ｈ）水
を含有してなる第２組成物。 （もっと読む）

【課題】少なくとも、ファラデー素子と偏光ガラスとが接着層を介して接合された光アイソレータ用積層体において、接着層の厚さバラツキが小さく、かつその内部に気泡状の介在物を含まない高品質で、特に耐湿性に優れた光アイソレータ用積層体や、該積層体から切り出したチップ状素子を用いて作製された高性能な光アイソレータとそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、ビスマス置換鉄ガーネット結晶からなるファラデー素子と、該ファラデー素子の光透過面の両側に接着層を介して光透過面で貼り合わされた偏光ガラスからなる積層体であって、前記接着層が、光硬化性ではなく室温で硬化する接着剤からなるものであることを特徴とする光アイソレータ用積層体。 （もっと読む）

【課題】溶液や廃液中のＳｉＣやＳｉを排水汚濁なく回収可能し、研削材、砥粒、研磨材として利用可能な炭化珪素を製造する。
【解決手段】ＳｉＣ微粒子及び／又はＳｉ微粒子を少なくとも含む溶液又は廃液を、炭素粉及び酸化珪素粉を少なくとも含む分離助材を用いて固液分離して固体分を得るステップと、この固体分を必要に応じて炭素粉及び／又は酸化珪素粉を含む添加剤と混合するステップと、炭化珪素を得るために、この固体分又は添加剤と混合された固体分を、非酸化性雰囲気で１８５０℃を超えて２４００℃未満に加熱反応させるステップとを少なくとも含んでなる炭化珪素の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高解像度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位ａ、スルホニウム塩を有する繰り返し単位ｂ１及びｂ２のいずれか１つ以上、アミノ基を有する繰り返し単位ｃを有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【化１】
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【解決手段】下記式（１）で表される構造単位を一分子中に２個以上持ち、該構造単位相互がＳｉＨ基を含有しない構造単位により連結されたオルガノハイドロジェンポリシロキサン。


（式中、Ｒ¹は非置換又は置換の炭素数１〜１０の１価炭化水素基、ａは２以上の整数である。）
【効果】本発明のオルガノハイドロジェンポリシロキサンを付加硬化型組成物中の架橋剤として使用すると、プラスチック基材に対する優れた密着性と硬化性を両立することができる。 （もっと読む）

【課題】硬化性を阻害することなく、造膜性、耐クラック性、可撓性、水蒸気バリアー性に優れた硬化皮膜を形成し得るコーティング用組成物及びその組成物の硬化皮膜が形成されてなる被覆物品を提供する。
【解決手段】（Ａ）ビスフェノールＡタイプのアルコキシシラン加水分解縮合物、（Ｂ）シリカコロイドゾル、及び（Ｃ）硬化触媒を必須成分とするコーティング用組成物、及びこの組成物の硬化皮膜が形成されてなる被覆物品。 （もっと読む）

【課題】封止樹脂で封止され、特に、硫化ガス雰囲気下での反射効率の耐久性に優れた光半導体装置を提供する。
【解決手段】リードフレームと一体成形したカップ状のプレモールドパッケージ内部に、光半導体素子の電極を導電性接着剤又は導電性ワイヤーを介して前記リードフレームに接続、実装し、前記プレモールドパッケージ内部を封止樹脂で封止する光半導体装置であって、前記リードフレームを、中心線平均粗さ（Ｒａ）：０．３μｍ以下且つ１０点平均粗さ（Ｒｚ）：２μｍ以下の表面を有する銀メッキで被覆したことを特徴とする光半導体装置。 （もっと読む）

【課題】有機樹脂基材に直接塗工でき、硬化塗膜の透明性に優れ、耐擦傷性を発現し、更に長期の密着性が良好なシリコーンコーティング組成物及び該組成物を被覆した被覆物品を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（１）：Ｒ¹_mＲ²_nＳｉ（ＯＲ³）_4-m-n（１）（Ｒ¹及びＲ²はＨ又は一価炭化水素基、置換基同士が相互に結合していてもよく、Ｒ³はアルキル基、ｍ，ｎは０又は１、かつｍ＋ｎは０，１又は２）で表されるアルコキシシラン又はその部分加水分解縮合物を（共）加水分解・縮合することにより得られた加水分解縮合物、（Ｂ）コロイダルシリカ、（Ｃ）ポリカーボネート系及び／又はポリエステル系のウレタン変性ビニル系重合体、（Ｄ）硬化触媒、（Ｅ）溶剤を含有し、（Ｃ）ウレタン変性ビニル系重合体の固形分量が（Ａ）加水分解縮合物及び（Ｂ）コロイダルシリカの合計固形分量に対して１〜３０質量％である耐摩耗性シリコーンコーティング組成物。 （もっと読む）

【課題】高解像度でありながら高感度であり、なおかつ露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される、酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位ａ、スルホニウム塩を有する繰り返し単位ｂ１及びｂ２のいずれか１つ以上、アミノ基を有する繰り返し単位ｃを有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【化１】
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【課題】硼素不純物や燐不純物を含有するクロロシラン類から高純度のクロロシラン類を得るための方法を提供すること。
【解決手段】芳香族アルデヒドを添加してクロロシラン類の精製を行う際の固形分の副生原因が鉄イオンあるいは錆び状の鉄による触媒反応であるとの知見に基づき、マスク効果のあるルイス塩基をクロロシラン類に加えることとした。ルイス塩基としては、２価のイオウ含有化合物やアルコキシシラン類が例示される。前者はＲ−Ｓ−Ｒ´（Ｒ：炭素数１〜２０の脂肪族又は芳香族骨格を含む炭化水素基、Ｒ´：炭素数１〜２０の脂肪族又は芳香族骨格を含む炭化水素基あるいは炭素数１〜２０の脂肪族又は芳香族骨格を含む炭化水素基が置換されたカルボニル基、Ｒ及びＲ´が有する炭素数の合計は７以上）が好ましく、後者はＲ_ｘＳｉ（ＯＲ´）_４−ｘ(Ｒ及びＲ´は炭素数１〜２０のアルキル基、ｘ＝０、１、２、又は３）が好ましい。 （もっと読む）