【課題】フラットパネルディスプレイ装置用基板ガラスで、歪点が高く、かつ高耐熱性、高靭性、低密度であり、さらに大量生産可能なフロート法で溶融できる組成のものが望まれている。
【解決手段】実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が６３〜６９、Ａｌ_２Ｏ_３が０．５〜３、Ｎａ_２Ｏが２〜６、Ｋ_２Ｏが１２〜１６、ＭｇＯが１０〜１５、ＣａＯが０．２〜２、ＳｒＯが０〜２、ＢａＯが０〜１、ＺｒＯ_２が０．５〜３．５からなり、ガラスの１０^２ポイズ温度が１５６０℃以下、１０^４ポイズ温度が１１８０℃以下であり、１０^４ポイズ温度−失透温度の温度差が３０℃以上ことを特徴とするフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ透明導電膜の成膜後、基板がそることのない、ガラス基板上に成膜されるＩＴＯ透明導電膜と同程度の低抵抗のＩＴＯ透明導電膜付きフィルムを得ることを課題とする。
【解決手段】ポリエチレンナフタレートを主とするフィルム基板を用い、プラズマガンを用いるイオンプレーティング法で、成膜時のフィルム基板の温度を９０℃〜１４５℃の温度範囲に保ってＩＴＯ透明導電膜を成膜される、比抵抗が１．１×１０^―４〜３．０×１０^―４Ω・ｃｍの範囲にあるＩＴＯ透明導電膜付きフィルムである。また、膜面の算術平均粗さＲａ（ｉ）が、フィルム基板表面の算術平均粗さＲａ（ｆ）に対し、Ｒａ（ｉ）−Ｒａ（ｆ）≦２ｎｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】水中投下法において、正確な熱衝撃の試験を行うことが大変困難なため、直方体試料の片面を急激に加熱して直方体試料内に熱応力を発生させ、該熱応力を反力として測定する熱衝撃試験方法が開発されたが、該熱衝撃試験方法においては、発熱体の面と直方体試料面との良好な接触が保てず、十分な精度が得られなかった。
【解決手段】バネ常数が５０〜１０００Ｎ／ｍであるバネを用いて、加熱体の両端付近をを、押すようにあるいは引張るように支持する。 （もっと読む）

【課題】 気相化学反応（ＣＶＤ）により薄膜を形成させるための原料として有用な、気化性、安定性に優れた含フッ素β−ジケトンＮｉ錯体の合成方法を提供する。
【解決手段】 Ｎｉの含フッ素β−ジケトン錯体を合成するに際し、Ｎｉ(Ｃ_５Ｈ_７Ｏ_２)_２無水塩を非プロトン性溶媒中に懸濁させ、含フッ素β−ジケトンを添加し反応させた後、６０〜１２０℃の温度範囲で還流しながら、不活性ガス中で反応させ、二層分離した溶液から上層溶媒を溜去した後、再度非プロトン性溶媒を添加し、６０〜１２０℃の温度範囲て還流後、−２０〜１５℃の温度範囲で冷却して結晶を析出させ、結晶を濾別後、再度非プロトン性溶媒を添加して６０〜１２０℃の温度範囲て還流した後、−２０〜１５℃の温度範囲で冷却して結晶を析出させる。 （もっと読む）

【課題】ルイス酸の存在下においても分解することのない、安定性の高い麻酔用フルオロエーテル組成物を提供する。
【解決手段】無水フルオロエーテル化合物に、生理学的に許容可能なルイス酸抑制剤として、水、ブチル化ヒドロキシトルエン（１，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−メチルフェノール）、メチルパラベン（４−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル）、プロピルパラベン（４−ヒドロキシ安息香酸プロピルエステル）、プロポホール（２，６−ジイソプロピルフェノール）、及びチモール（５−メチル−２−（１−メチルエチル）フェノール）等を添加することにより、麻酔薬組成物の安定性を改善した。 （もっと読む）

【課題】、携帯電話、無線ＬＡＮあるいはＥＴＣなどで使用されている、１〜１０ＧＨｚの周波数範囲の電磁波に対して、透明な電磁波吸収板を提供する。
【解決手段】本発明の電磁波吸収板は、透明な板状の誘電体と該誘電体の１つの表面に形成されている抵抗被膜とからなる電磁波吸収板において、誘電体の抵抗被膜が形成されていない表面から電磁波が入射するときの入射側のインピーダンスを用いて、電磁波吸収量を求め、電磁波吸収量が１０ｄＢ以上となるように誘電体の厚みと抵抗被膜の面積抵抗とが決定されて成ることを特徴とする電磁波吸収板。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ装置用基板ガラスで、歪点が高く、かつ高耐熱性、高靭性、低密度のものが望まれている。
【解決手段】実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が６４〜７０、Ａｌ_２Ｏ_３が０．５〜５、Ｎａ_２Ｏが１〜７、Ｋ_２Ｏが５〜２０、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが１０〜２０、ＭｇＯが３〜１７、ＣａＯが０〜１０、ＳｒＯが０〜５、ＢａＯが０〜５、ＲＯ（ただし、ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）が１０〜２０、ＺｒＯ_２が０〜５からなり、かつ密度が２．６ｇ・ｃｍ^−３未満、３０℃〜３００℃における平均線熱膨張係数が７０〜９０×１０^―７／℃、ヤング率Ｅが７０〜８０ＧＰａで、かつ密度／ヤング率が０．０３５５ｇ・ｃｍ^−３／ＧＰａ以下、ヤング率×熱膨張係数が６５００ＧＰａ×１０^−７／℃以下であることを特徴とするフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。 （もっと読む）

【課題】 医薬・農薬の中間体として、また含フッ素重合体等の機能性材料の製造原料または合成中間体として有用なトリフルオロメチル基含有エナミンおよび３，３，３−トリフルオロプロピオンアルデヒドを工業的規模で製造する方法を提供する。
【解決手段】１−ハロゲノ−３，３，３−トリフルオロプロペンと環状２級アミンとを反応させて、トリフルオロメチル基含有エナミンを製造する。環状２級アミンとしては、モルホリン、ピペリジンなどが、特に好ましく用いられる。得られたトリフルオロメチル基含有エナミンを、酸の存在下、加水分解すれば３，３，３−トリフルオロプロピオンアルデヒドを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】大掛かりな装置を必要とせずに簡便な手段で、室温でレーザー光照射によるガラス端部の加工方法を提供とすることを課題とする。
【解決手段】レーザー光の照射による加熱でガラス端部の少なくとも角部を軟化させ、その後該軟化部を冷却することによって固化させるガラス端面部の加工方法において、レーザー光の照射により破断及び融解しない部材でガラスを挟持し、ガラス端部へのレーザー光の照射時に該部材にもレーザー光を照射することで、ガラスを予備加熱することなく室温でガラス端部の軟化及び固化を行うこと。 （もっと読む）

【課題】 医薬・農薬の中間体として、また含フッ素重合体等の機能性材料の製造原料または合成中間体として有用な３，３，３−トリフルオロプロピオン酸を工業的規模で製造する方法を提供する。
【解決手段】１−ハロゲノ−３，３，３−トリフルオロプロペンと環状２級アミンとを反応させて、トリフルオロメチル基含有エナミンを製造する。このトリフルオロメチル基含有エナミンを加水分解して、３，３，３−トリフルオロプロピオンアルデヒドを得る。さらに３，３，３−トリフルオロプロピオンアルデヒドを酸化剤によって酸化することにより、３，３，３−トリフルオロプロピオン酸を得ることができる。酸化剤としては硝酸が特に好適である。 （もっと読む）