【課題】耐熱性、気密性能、低融点特性を同時に満たす有機無機ハイブリッドガラス状物質が、種々の分野で求められていた。
【解決手段】出発原料を混合し、作成したゲルを有機溶媒に溶解後アルカリ水溶液を加え、有機層と水層に分離し、この有機層を乾燥後溶融することによって目的とする物質を得ることを特徴とする有機無機ハイブリッドガラス状物質の製造方法。ゾルゲル原料にフェニル基を持つ物質が少なくとも１種類含まれる特徴もある。また、この方法で製造されたことを特徴とする有機無機ハイブリッドガラス状物質。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ装置用基板ガラスで、歪点が高く、かつ高耐熱性、高靭性、低密度のものが望まれている。
【解決手段】実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が６３〜６９、Ａｌ_２Ｏ_３が０．５〜５、Ｎａ_２Ｏが２〜７、Ｋ_２Ｏが１４〜１７、ＭｇＯが１０〜１８、ＣａＯが０〜７、ＳｒＯが０〜３、ＢａＯが０〜３、ＺｒＯ_２が０．５〜７からなり、かつ歪点が５７０℃以上であることを特徴とするフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。３０℃〜３００℃における平均線熱膨張係数が（８６〜９０）×１０^−７／℃、破壊靭性Ｋ_ＩＣが０．７ＭＰａ・ｍ^１／２以上で、密度が２．６ｇ／ｃｍ^３未満である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、壁と幅木との間に隙間を覆い、シーラントによる施工をする必要がない幅木を提供する。
【解決手段】 床基盤上に防音材を介して床材を載設した防音床において、壁面と床面との境界部に設置する幅木であって、壁面に付設して設けた幅木上部に壁面と幅木の間に生じる隙間を覆うための、壁面と当接する軟質部材を備えたことを特徴とする幅木およびその幅木を用いてなることを特徴とする防音二重床または防音直貼り床。 （もっと読む）

【課題】医薬および光学材料の重要中間体である光学活性α−フルオロカルボン酸エステル誘導体の工業的な製造方法を提供する。
【解決手段】光学活性α−ヒドロキシカルボン酸エステル誘導体をトリエチルアミン等の工業的に安価で且つ汎用されている有機塩基の存在下にトリフルオロメタンスルホニルフルオリドと反応させることにより光学活性α−フルオロカルボン酸エステル誘導体を製造する。また、得られた光学活性α−フルオロカルボン酸エステル誘導体をハイドライド還元剤と反応させることにより光学活性２−フルオロアルコール誘導体を製造する。 （もっと読む）

【課題】熱衝撃試験において、破壊始点の発生位置を予め定めることができれば、熱衝撃試験の実験精度を上げることができ、熱衝撃試験の有用性は益々増加している。従来の方法では破壊始点の発生位置を予め定めることができなかったし、破壊始点の発生位置を予め定めることができる測定装置もなかった。
【解決手段】直方体試料の片面に平板状発熱体を密着加熱し、直方体試料の中に熱応力を発生させることによって熱衝撃強度を求める熱衝撃試験方法において、発熱体の幅Ｗ_１と発熱体を密着するための負荷応力を変えることにより、直方体試料の破壊始点の発生位置を調整する熱衝撃試験方法及びその熱衝撃試験装置。 （もっと読む）

【課題】 紫外線領域から近赤外線領域に至るまでの幅広い波長領域で高い透明性を有し、かつ基板への高い密着性及び成膜性、耐熱性、耐溶剤性、誘電特性、機械的安定性、さらには高いエッチング耐性を有したレジスト材料や感光性材料に有用な新規な含フッ素重合性単量体、含フッ素高分子化合物を提供する。
【解決手段】 一般式（１）
【化１】


で表される含フッ素重合性単量体（式中、Ｒ^１は、水素、炭素数１〜４のフッ素を含有しても良い炭化水素基、フッ素、塩素、シアノ基であり、Ｒ^２は水素、フッ素、ヒドロキシ基、メチル基、又は炭素数１〜１０の分岐、環状構造を有しても良い炭化水素基、またはアルコキシ基であって、一部又は全部にフッ素を含有しても良い。Ｒ^３は、水素又は保護基であって、エーテル構造、エステル構造、フッ素を含んでも良い。）およびこれを用いて得られる高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】医薬、農薬及び含フッ素重合体等の機能性材料の合成中間体として有用な５，５，５−トリフルオロ−３−ペンテン−１−イン類の工業的な製造方法を提供する。また新規化合物である数種の５，５，５−トリフルオロ−３−ペンテン−１−イン類を提供する。
【解決手段】１−クロロ−２−トリフルオロメチル−エチレン類を、パラジウム触媒と塩基性物質の存在下、種々の末端アセチレン類を反応させる。用いる塩基としては、ピペリジン、ジエチルアミンなどの有機アミン類が特に好ましい。 （もっと読む）

【課題】 半導体分野で有用な酸化ハフニウム、酸化珪素ハフニウム、酸化アルミニウムハフニウム等のハフニウム酸化物を成膜する装置において、内壁、冶具等の反応器内部に堆積したこれらの不要な酸化物を除去するクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 反応器内部に堆積した不要なハフニウム含有酸化物を除去するに際し、ヘキサフルオロアセチルアセトンと、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＩ、Ｆ_２、Ｃｌ_２、Ｂｒ_２、Ｉ_２、またはＣｌＦ_３とを少なくとも含む混合ガスで反応除去する。 （もっと読む）

【課題】住居内の水周りで使用される部材に最適な付着した汚染物を容易に除去せしめる耐アルカリ性に優れる易洗浄性の物品を提供すること
【解決手段】基材、及び基材上に形成された被膜とからなる物品であり、該被膜がマトリクッスとしてのシリカ、及びフルオロアルキルシラン、並びにジメチルシリコーンからなり、前記フルオロアルキルシランの含有量がシリカに対して重量比で０．１０倍量〜０．３０倍量、前記ジメチルシリコーンの含有量がシリカに対して重量比で０．００１倍量〜０．０５０倍量とすること。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、新規なラクトン化合物、ラクトン含有単量体、それを用いた高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】 一般式（１）で表されるラクトン含有単量体（式中、ＸはＣＨ_２、ＣＨ_２ＣＨ_２、Ｏ、Ｓ、ＮＲ^１を示す。Ｒ^１〜Ｒ^４は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。そのアルキル基の水素の一部あるいは全部がフッ素原子に置換されてもよく、さらにアルキル基の一部に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、炭素―炭素二重結合、カルボニル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基を含有する原子団を含んでもよい。Ｒ^５は単結合、ＣＨ_２、カルボニル基を表す。）。
【化１】


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