【課題】 医農薬中間体等に有用な２−トリフルオロメチル−５−フルオロベンズアルデヒドおよびその誘導体の、工業規模で有利な製造方法を提供する。
【解決手段】 ３，４−ジメチルフルオロベンゼンを塩素（Ｃｌ₂）によって塩素化し、２−トリクロロメチル−５−フルオロベンザルクロリドと２−トリクロロメチル−４−フルオロベンザルクロリドの異性体混合物（塩素化反応混合物）を得る。得られた異性体混合物をフッ化水素（ＨＦ）と接触させ、フッ素化反応混合物を得る。フッ素化反応混合物を蒸留に付すことにより、２−トリフルオロメチル−５−フルオロベンザルクロリドが効率的に単離できる。得られた２−トリフルオロメチル−５−フルオロベンザルクロリドを加水分解すると、２−トリフルオロメチル−５−フルオロベンズアルデヒドを得られる。２−トリフルオロメチル−５−フルオロベンズアルデヒドは、その後、各種誘導体に変換できる。 （もっと読む）

【課題】有機高分子を有する基板にＩＴＯ透明導電膜を成膜する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】真空チャンバーに設置された圧力勾配型プラズマガンを使用するイオンプレーティング装置によるＩＴＯ透明導電膜の成膜方法において、成膜前の基板の温度を８０〜１４５℃とし、ＩＴＯ蒸発原料から基板に、単位時間単位面積あたり入射する輻射熱を、１．５〜１０Ｊ／ｃｍ^２・ｍｉｎの範囲にして、ＩＴＯ透明導電膜を成膜する。真空チャンバー内の圧力を０．０５〜０．３Ｐａとする。ＩＴＯ透明導電膜が酸化インジウムにスズを酸化物換算で５〜１０ｗｔ％添加したものであり、比抵抗が１．２×１０^―４〜３．０×１０^―４Ω・ｃｍの範囲にある。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量％でＳiＯ_２を２〜１８、Ｂ_２Ｏ_３を２５〜５５、ＺｎＯを１０〜４５、Ｒ_２Ｏ（Ｌi_２Ｏ＋Ｎa_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を２０．１〜３５、ＣｕＯを０．１〜２含み、ＭｎＯ_２を０〜２、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を０〜１０含み、更にＣｏ又はＭｎを酸化物として０〜２含むことを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｒ_２Ｏ−ＣｕＯ系無鉛低融点ガラスである。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（９５．１〜１２０）×10^−７／℃、軟化点が４５０℃以上６００℃以下である特徴を有す。 （もっと読む）

【課題】
可視光線反射率、反射膜のガラスへの密着性、反射膜の硬度、耐高温・高湿性に関し、リアプロジェクションテレビに用いることのできる性能を有する表面鏡を提供する。
【解決手段】
ガラス基板にＣｒ膜、Ａｌ膜、ＳｎＯｘ(ただし０＜ｘ≦２)膜、ＴｉＯｙ（ただし０＜ｙ≦２）膜を、この順にスパッタリング法を用いて積層し、可視光線反射率が９０％以上で、Ａｌ膜が、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｎｄの１種以上を５重量％以下でＡｌに含まれてなる表面鏡。 （もっと読む）

【課題】 工業的規模での製造に適したオクタフルオロシクロペンテンの製造方法を提供する。
【解決手段】
次の第一工程および第二工程によって、オクタフルオロシクロペンテンを製造する。
第一工程：一般式（１）Ｃ₅Ｃｌ_AＦ_8-A（Ａは１〜８の整数を表す。）で表されるパーハロゲン化シクロペンテンを、気相中で、クロム、アンチモン、鉄、亜鉛、コバルト、ニッケル、銅、マンガン、およびアルミニウムからなる群より選ばれたフッ素化触媒存在下、フッ化水素でフッ素化し、一般式（２）Ｃ₅Ｃｌ_BＦ_8-B（Ｂは０〜７の整数を表し、Ａ＞Ｂである。）で表されるパーハロゲン化シクロペンテンの混合物を得る工程。
第二工程：第一工程で得られた一般式（２）で表されるパーハロゲン化シクロペンテンの混合物を、金属フッ素化物によってフッ素化し、オクタフルオロシクロペンテンを得る工程。 （もっと読む）

【課題】ルイス酸存在の保存条件下（例えばガラス製容器内）においても、フルオロエーテル系麻酔薬セボフルランの分解が起きない安定性の優れた麻酔薬組成物の提供。
【解決手段】ルイス酸の空軌道に電子を供与する性質があり生理学的に許容可能なルイス酸抑制剤（例えば、水、ブチル化ヒドロキシトルエン、メチルパラベン、プロピルパラベン、プロポホール、チモール）及び一定量のセボフルランを容器に加えることによって調製された麻酔薬組成物。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ装置用基板ガラスで、歪点が高く、かつ高耐熱性、高靭性、低密度であり、さらに大量生産可能なフロート法で溶融できる組成のものが望まれている。
【解決手段】実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が６３〜６９、Ａｌ_２Ｏ_３が０．５〜３、Ｎａ_２Ｏが２〜６、Ｋ_２Ｏが１２〜１６、ＭｇＯが１０〜１５、ＣａＯが０．２〜２、ＳｒＯが０〜２、ＢａＯが０〜１、ＺｒＯ_２が０．５〜３．５からなり、ガラスの１０^２ポイズ温度が１５６０℃以下、１０^４ポイズ温度が１１８０℃以下であり、１０^４ポイズ温度−失透温度の温度差が３０℃以上ことを特徴とするフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ透明導電膜の成膜後、基板がそることのない、ガラス基板上に成膜されるＩＴＯ透明導電膜と同程度の低抵抗のＩＴＯ透明導電膜付きフィルムを得ることを課題とする。
【解決手段】ポリエチレンナフタレートを主とするフィルム基板を用い、プラズマガンを用いるイオンプレーティング法で、成膜時のフィルム基板の温度を９０℃〜１４５℃の温度範囲に保ってＩＴＯ透明導電膜を成膜される、比抵抗が１．１×１０^―４〜３．０×１０^―４Ω・ｃｍの範囲にあるＩＴＯ透明導電膜付きフィルムである。また、膜面の算術平均粗さＲａ（ｉ）が、フィルム基板表面の算術平均粗さＲａ（ｆ）に対し、Ｒａ（ｉ）−Ｒａ（ｆ）≦２ｎｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
加熱工程を必要とせず、処理剤の基材への乾燥、及び乾燥後の払拭作業で被膜を形成で
き、得られる被膜の撥水性、滑水性及び耐久性を優れたものとすること。
【解決手段】
少なくとも一つの末端に加水分解可能な官能基を２個又は３個有し、且つジメチルシロ
キサンユニット（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）の数が３０〜４００である直鎖状ポリジメチルシ
ロキサン、及び加水分解可能な官能基を有し、且つフルオロカーボンユニット（ＣＦ_２又
はＣＦ_３）の数が６〜１２であるフルオロアルキルシラン、そして少なくとも有機溶媒、
酸、及び水を有する溶液を混合してなる処理剤であり、処理剤の総量に対し、重量濃度で
前記直鎖状ポリジメチルシロキサンが０．２〜３．０重量％、前記フルオロアルキルシラ
ンが０．２〜２．０重量％、さらに、前記直鎖状ポリジメチルシロキサンと前記フルオロ
アルキルシランとの総量が０．５〜３．５重量％混入されること。 （もっと読む）

【課題】イネ苗病害であるイネ苗立枯細菌病、イネ籾枯細菌病に対して防除効果が高く、環境汚染のないイネ苗病害の防除剤および防除方法を提供する。
【解決手段】本発明における発病抑制能を有するバチルス属シンプレクス(Bacillus simplex)CGF2856菌株を有効成分として含む防除剤をイネ苗病害に対して用いることで解決される。現在使用されている化学薬剤と同等以上の効果を持ち、さらに、既存の化学薬剤のように農薬による環境汚染を引き起こすことはない。本発明の防除剤は、浸種時あるいは催芽時の種籾を浸漬処理したり、浸種前、催芽前あるいは播種前の種籾を湿粉衣処理したり、用土または覆土に土壌混和したり、あるいは播種した後に上記防除剤の希釈液を土壌かん注して使用する。 （もっと読む）