【課題】 優れた耐衝撃性を有する硬化物を与えることのできる光硬化性液状樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 下記成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含有してなることを特徴とする光硬化性液状樹脂組成物。
（Ａ）分子内に重合性炭素−炭素二重結合を１個有する、下記式（２）で表される化合物
【化１０】


（式中、Ｒ^４は重合性の炭素−炭素二重結合を有する有機基、Ｒ^５は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ^６及びＲ^７は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数６〜２０の１価の脂環族基を示す。）
（Ｂ）カチオン重合性化合物
（Ｃ）カチオン性光重合開始剤 （もっと読む）

【課題】印刷光沢、平滑性、白紙光沢、吸水着肉性及びインキセット性が良好な塗工紙の製造方法、及びその塗工紙の製造方法で製造された塗工紙を提供する。
【解決手段】顔料とバインダーとを含有する下塗り塗工用組成物を塗工原紙に塗工して下塗り塗工層を形成し、下塗り塗工層上に顔料とバインダーとを含有する上塗り塗工用組成物を塗工して上塗り塗工層を形成する塗工工程を有する塗工紙の製造方法であって、下塗り塗工用組成物中に、顔料１００質量部に対してバインダー５〜１３質量部が含有され、下塗り塗工用組成物に含有される顔料が、中空プラスチックピグメント３〜２０質量部及び重質炭酸カルシウム６０〜９５質量部を含有する（顔料全体を１００質量部とする）塗工紙の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 半導体素子などにおいて好適に用いられる膜形成用組成物ならびにシリカ系膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（Ａ）で表される化合物から選ばれた１種のシラン化合物と、
下記一般式（Ｂ）で表される化合物および下記一般式（Ｃ）で表される化合物から選ばれた１種のシラン化合物とを、加水分解、縮合した加水分解縮合物ならびに有機溶媒を含む、熱および紫外線を用いて硬化する半導体装置の絶縁膜形成用組成物。


（Ｒ^９）_ａ−Ｓｉ−（ＯＲ^１０）_４−ａ・・・（Ｂ）
Ｒ^１１_ｂ（Ｒ^１２Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^１５）_ｄ−Ｓｉ（ＯＲ^１３）_３−ｃＲ^１４_ｃ・・・（Ｃ） （もっと読む）

【課題】極薄膜のルテニウム膜を形成する場合であっても良質なルテニウム膜を得ることができる化学的気相成長材料及びその化学的気相成長材料を用いてルテニウム膜を形成する簡易な方法を提供すること。
【解決手段】化学気相成長材料は、下記式（２）
【化１】


ここで、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基又は炭素数１〜１０の炭化水素基である。
で表される配位子を有するルテニウム化合物である。化学気相成長方法は、上記のルテニウム化合物を使用する。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れた無機粉体含有樹脂組成物、該樹脂組成物からなる層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたＰＤＰ用部材の製造方法の提供。
【解決手段】無機粉体含有樹脂組成物は、（Ａ）無機粉体、（Ｂ）下記式（１）で表される構成単位を有する重合体、（Ｃ）多官能性（メタ）アクリレートおよび（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする。


（式（１）中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基であり、Ｒ² は炭素数１〜５のアルキル基であり、ｍおよびｎは１〜５の整数、かつ、ｍ≠ｎであり、ａは１〜１００の整数であり、ｂは０〜１００の整数である。） （もっと読む）

【課題】ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができる微細パターンの形成方法と、それに有効な電場（電界）印加時の露光後ベーク用媒体を提供する。
【解決手段】化学増幅型ポジレジスト又は化学増幅型ネガレジストを用いた高感度な微細パターンの形成方法であって、前記化学増幅型ポジレジスト又は化学増幅型ネガレジストからなるレジスト膜１１を基板１０の上に形成する工程と、前記レジスト膜１１に放射線を照射し、酸を発生させる工程と、前記放射線照射後の加熱時に、レジスト膜１１上に下記（I）及び（II）を満足する媒体１２を配置して、前記レジスト膜１１に電場を印加する工程とを含む。
（I）電気伝導率が０．０１μＳ／ｃｍ以上である。
（II）レジスト膜に対する溶解性が低く、次式を満たす。
媒体を２３℃で６０秒間放置し、水で除去後のレジスト膜厚／媒体配置前のレジスト膜厚×１００≧９５ （もっと読む）

【課題】低加湿条件下および低温条件下においても優れたプロトン伝導性を有するプロトン伝導膜、および該プロトン伝導膜の作製に適したプロトン伝導体組成物を提供すること。
【解決手段】本発明に係るプロトン伝導体組成物は、（ａ）イオン性液体と、（ｂ）スルホン酸基を有するポリアリーレンとを含有することを特徴とする。上記イオン性液体（ａ）は、プロトン供与体を含むこと、ならびに、上記スルホン酸基を有するポリアリーレン（ｂ）１００重量部に対して０．５〜２００重量部の量で含有されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 被検査体の電極又は接続端子部と確実に接触して電気特性を効率的に検査できると共に、繰り返し使用に耐え得るプローブカード及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のプローブカード１Ａは、プローブカード本体２と、該プローブカード本体２の一方の表面に突出して設けられた保持部３と、該保持部３を介して該プローブカード本体２と接合されているプローブ４と、を備えるプローブカードであって、上記プローブ４は、梁部４２と、該梁部４２の上記プローブカード本体２側とは反対の方向に突出するように設けられ、被検査体と電気的に接触する接触子４１と、を備え、該梁部４２の端部が上記保持部３を介して上記プローブカード本体２と接合されており、該梁部４２は、上記プローブカード本体２の表面Ｓ１から離反して間隙部５を有する状態で配置されており、上記間隙部５には、高分子材料層６が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 近赤外線カット能に優れ、吸湿性が低く、異物や反りの少ない、特にＣＣＤ、ＣＭＯＳなどの固体撮像素子の視感度補正に好適に用いることができる近赤外線カットフィルターを得ることを課題とする。
【解決手段】
特定のガラス転移点および熱膨張率を有する熱可塑性樹脂製の透明基板の両面に誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜などを有することを特徴とする近赤外線カットフィルターを製造する。 （もっと読む）

【課題】 ポリアミック酸のイミド化を従来よりも低い温度で行う。
【解決手段】 ２，５−ジアザビシクロ[２.２.１]ヘプタン、１，５−ジアザビシクロ[４.３.０]ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ[２.２.２]オクタンおよび１，８-ジアザビシクロ[５.４.０]−７−ウンデセンからなる群から選ばれる塩基性化合物の存在下にポリアミック酸をイミド化する。 （もっと読む）