【課題】研磨速度を低下させることなく、研磨傷の発生が抑制された化学機械研磨用水系分散体及び当該水系分散体を用いて微細化素子分離工程における余分の絶縁膜の除去を行う化学機械研磨方法を提供すること。
【解決手段】化学機械研磨用水系分散体は、セリアを含有する砥粒を１．５質量％以下の濃度で含有する水系分散体であって、該砥粒の平均分散粒径が１．０μｍ以上である。
化学機械研磨方法は、上記の化学機械研磨用水系分散体を用いて、絶縁膜を研磨することを特徴とする （もっと読む）

【課題】 従来の液晶ディスプレイは、部品点数が多くて製造コストの低減が困難である。更に、大面積の基板は、搬送に問題があった。
【解決手段】 本発明は、有機樹脂からなる長尺状の薄膜状フィルムに、各光学機能フィルム・ＴＦＴ素子、発光素子を形成し、該フィルを転写により積層することで液晶パネルを製造するものである。
液晶パネルの基板となるベースフィルムは、厚さが１０μｍから２００μｍで、曲率半径が４０ｍｍ以下の可撓性を有し、熱膨張率が５０ｐｐｍ／℃以下であることが好ましい。更に、少なくとも２００℃の熱履歴に対し、機械的及び、光学的な特性の変化が±５％以下であることがより好ましい。 （もっと読む）

【課題】多色圧縮成形時に混色がなく、発泡成形時にエアーポケット（成形加工時脱気が不十分で架橋が十分に掛からず成形外観・性能を損なう状態）、エアースコーチ（部分的に過架橋で気泡が発生する状態）などのトラブルがなく、組成物の混練り後の分出しシーティング肌が美麗なため、金型仕込み時の生地計量精度が高く、混色がなく、発泡サイズの安定した成形が可能を可能とする圧縮成形方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）ガラス転移温度（Ｔｇ）が−５０℃〜−２０℃である１，２−ポリブタジエン１０〜９０重量％、（Ｂ）沸騰ｎ−ヘキサン不溶分１〜２５重量％，沸騰ｎ−ヘキサン可溶分９９〜７５重量％であるビニル・シスブタジエンゴム（ＶＣＲ）９０〜１０重量％、および（Ｃ）上記（Ａ）〜（Ｂ）成分以外の熱可塑性重合体０〜５０重量％〔ただし、（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）＝１００重量％〕の合計量１００重量部に対し、（Ｄ）発泡剤０．５〜２０重量部、および（Ｅ）架橋剤０．０２〜２０重量部を含有する発泡体用組成物を圧縮成形する。 （もっと読む）

【課題】低加速電子線リソグラフィー用帯電防止層を形成できる導電性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される化合物および下記一般式（２）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物の加水分解物または縮合物もしくは加水分解・縮合物、ならびに（Ｂ）４級窒素原子を含む塩を含有する導電性組成物。
Ｒ¹_aＳｉ（ＯＲ²）_4-a （１）
（Ｒ¹は水素原子、フッ素原子または１価の有機基を示し、Ｒ²は１価の有機基を示し、ａは０〜２の整数を表す。）
Ｒ³_b（Ｒ⁴Ｏ）_3-bＳｉ−（Ｒ⁷）_d−Ｓｉ（ＯＲ⁵）_3-cＲ⁶_c （２）
（Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ１価の有機基を示し、ｂおよびｃは、同一でも異なっていてもよく、０〜２の数を示し、Ｒ⁷は酸素原子または−（ＣＨ₂）_n−を示し、ｄは０または１を示し、ｎは１〜６の数を示す。） （もっと読む）

【課題】ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができる微細パターンの形成方法と、それに有効な電場（電界）印加時の露光後ベーク用媒体を提供する。
【解決手段】化学増幅型ポジレジスト又は化学増幅型ネガレジストを用いた高感度な微細パターンの形成方法であって、前記化学増幅型ポジレジスト又は化学増幅型ネガレジストからなるレジスト膜１１を基板１０の上に形成する工程と、前記レジスト膜１１に放射線を照射し、酸を発生させる工程と、前記放射線照射後の加熱時に、レジスト膜１１上に下記（I）及び（II）を満足する媒体１２を配置して、前記レジスト膜１１に電場を印加する工程とを含む。
（I）電気伝導率が０．０１μＳ／ｃｍ以上である。
（II）レジスト膜に対する溶解性が低く、次式を満たす。
媒体を２３℃で６０秒間放置し、水で除去後のレジスト膜厚／媒体配置前のレジスト膜厚×１００≧９５ （もっと読む）

【課題】低加湿条件下および低温条件下においても優れたプロトン伝導性を有するプロトン伝導膜、および該プロトン伝導膜の作製に適したプロトン伝導体組成物を提供すること。
【解決手段】本発明に係るプロトン伝導体組成物は、（ａ）イオン性液体と、（ｂ）スルホン酸基を有するポリアリーレンとを含有することを特徴とする。上記イオン性液体（ａ）は、プロトン供与体を含むこと、ならびに、上記スルホン酸基を有するポリアリーレン（ｂ）１００重量部に対して０．５〜２００重量部の量で含有されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 被検査体の電極又は接続端子部と確実に接触して電気特性を効率的に検査できると共に、繰り返し使用に耐え得るプローブカード及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のプローブカード１Ａは、プローブカード本体２と、該プローブカード本体２の一方の表面に突出して設けられた保持部３と、該保持部３を介して該プローブカード本体２と接合されているプローブ４と、を備えるプローブカードであって、上記プローブ４は、梁部４２と、該梁部４２の上記プローブカード本体２側とは反対の方向に突出するように設けられ、被検査体と電気的に接触する接触子４１と、を備え、該梁部４２の端部が上記保持部３を介して上記プローブカード本体２と接合されており、該梁部４２は、上記プローブカード本体２の表面Ｓ１から離反して間隙部５を有する状態で配置されており、上記間隙部５には、高分子材料層６が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 近赤外線カット能に優れ、吸湿性が低く、異物や反りの少ない、特にＣＣＤ、ＣＭＯＳなどの固体撮像素子の視感度補正に好適に用いることができる近赤外線カットフィルターを得ることを課題とする。
【解決手段】
特定のガラス転移点および熱膨張率を有する熱可塑性樹脂製の透明基板の両面に誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜などを有することを特徴とする近赤外線カットフィルターを製造する。 （もっと読む）

【課題】 ポリアミック酸のイミド化を従来よりも低い温度で行う。
【解決手段】 ２，５−ジアザビシクロ[２.２.１]ヘプタン、１，５−ジアザビシクロ[４.３.０]ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ[２.２.２]オクタンおよび１，８-ジアザビシクロ[５.４.０]−７−ウンデセンからなる群から選ばれる塩基性化合物の存在下にポリアミック酸をイミド化する。 （もっと読む）

【課題】 光透過率およびコントラスト比が高い赤色画素を形成することができ、かつ大型基板塗布に適したレオロジー特性を有するカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）顔料、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能性単量体、（Ｅ）感放射線性ラジカル発生剤および（Ｆ）溶媒を含有する感放射線性組成物。（Ａ）顔料がＣ．Ｉ．ピグメントオレンジ３８を２０重量％以上含み、（Ａ）顔料の平均粒径ｒ（単位ｎｍ）が５０≦ｒ≦２００でありそして（Ｂ）分散剤がリビング重合を経て得られる、アミン価（単位ｍｇＫＯＨ／ｇ）＞０のアクリル系ブロック共重合体である。 （もっと読む）