【課題】 冷却工程において、成形型の上昇現象を抑止することにより、生産性を向上させることができるモールドプレス成形装置及び成形体の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】 モールドプレス成形装置１００は、プレス室Ｐ５でプレスされたガラス成形体４０´が収容された成形型４を冷却する冷却ガス管８０と、この冷却ガス管８０が成形型４を冷却している際に発生する成形型４の上昇を抑止するストッパ８３とを具備した構成としてある。 （もっと読む）

【課題】浮上量が１０ｎｍ以下の低浮上量で磁気ヘッドを浮上飛行させても安全に記録再生ができる磁気ディスク及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ディスク状基板１上に順次形成された少なくとも磁性層と保護層とを有する磁気ディスクであって、前記基板１におけるデータが記録される主面１１と、側面部分１２とが保護層で被覆されてなり、主面１１上の保護層に比べて側面部分１２の保護層が薄い膜である。前記基板１の側面部分１２は、側壁面１２ａと、該側壁面１２ａと主面１１との間に介在する面取面１２ｂとを含み、少なくとも面取面１２ｂ上の保護層は、主面１１上の保護層に比べて薄い膜である。 （もっと読む）

【課題】少ない修正回数で、所望形状のレンズを成形できる成形型を作製し、この成形型を用いて、成形品を製造する方法を提供する。
【解決手段】凸面形状を含む第一成形面と凹面形状を含む第二成形面とを有する成形型を用いて加熱により軟化した成形素材をプレス成形することを含む、凹面形状を含む第一面と、凸面形状を含む第二面を備えた成形品を得る製造方法。一次成形型を用いて加熱軟化した成形素材をプレス成形して暫定成形品を得る第一成形工程と、暫定成形品の形状と一次成形型の成形面形状との相違から暫定成形品における第一及び第二成形面側の収縮率を把握する工程と、これらの収縮率に基づいて所望成形品を得るための二次成形型の成形面の形状を決定し、決定した形状に基づいて二次成形型を作製する二次成形型作製工程と、二次成形型を用いて成形素材をプレス成形して最終成形品を得る第二成形工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 エンドミルのずれによる加工精度の低下を防止する。
【解決手段】 レンズ保持ユニットに保持されたレンズ１の周面をカッタ１３１
で加工する手段と、カッタで周面加工されたレンズの周面にエンドミル１４１に
よって溝加工あるいは面取り加工する手段と、レンズをカッタやエンドミルに対
して位置制御する制御手段とを備え、制御手段が、エンドミルに対してレンズを
位置制御するとき、予め検出してあるカッタ中心に対してのエンドミルの高さの
ずれ量に基づいて補正しながらレンズの位置制御を行う。 （もっと読む）

【課題】 反射率の熱的安定性を向上させることができる反射型マスクブランクを提供すること。
【解決手段】 基板と、当該基板上に形成されて露光光を反射する多層反射膜２と、当該多層反射膜上に形成されて露光光を吸収する吸収体膜とを有する反射型マスクブランクであって、上記多層反射膜は、シリコン層７とモリブデン層６とを交互に積層した材料から構成され、上記シリコン層７とモリブデン層６との間に、モリブデンと炭素を含む材料からなる拡散防止層８、例えば炭化モリブデン、炭化二モリブデンまたはそれらの窒化物からなる拡散防止層が形成されたものである。 （もっと読む）

大型でかつ微細なパターンが要求されるブランクを取り扱うに際して、パーティクルの発生を防止できるようにする。透光性基板１の主表面上における周縁１Ｓを除く部分のみに遮光膜２が形成され、該周縁部１Ｓが遮光膜２の未成膜領域とされてなるフォトマスクブランクにおいて、前記透光性基板１のサイズが、一辺が３００ミリメートル以上であると共に、前記未成膜領域Ｓの幅が３ミリメートル以上であり、前記遮光膜２がレーザ描画を用いてパターニングされるようにしたことを特徴とするフォトマスクブランクを提供する。
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【課題】１０ｎｍ以下の低浮上量で磁気ヘッドを浮上飛行させてもフライスティクション障害や腐食障害などの発生を防止でき、またロードアンロード方式の磁気ディスク装置に好適な高信頼性の磁気ディスクを提供する。
【解決手段】中央に円孔を有する磁気ディスクの表面に潤滑剤層を塗布成膜する磁気ディスクの製造方法である。潤滑剤を含む塗布液に磁気ディスクを浸漬させた後、塗布液の液面に対して磁気ディスクの主面を傾斜させ、前記液面に対して磁気ディスクを相対的に引き上げ、磁気ディスクの表面に潤滑剤層を塗布成膜する。塗布液の液面に対する磁気ディスクの主面の傾斜角度は、０（零）度を超え８７度以下の角度とする。 （もっと読む）

【課題】 屈折率及びアッベ数が高く、かつ耐熱性、透明性に優れており、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録媒体基板、着色フィルター、赤外線吸収フィルター等に好適に用いられる光学製品を提供すること。
【解決手段】 一般式（１）で表されるスルフィド化合物を必須モノマー成分として得られる重合体からなる光学製品である。
【化１】


（式中、Ｒ₁は、アルカン残基、シクロアルカン残基、ヘテロ環式化合物残基又は芳香族化合物残基を示す。） （もっと読む）

【課題】サーボ信号を書き込みやすく、且つ高情報記録密度を可能とする磁気ディスク及びその製造方法を提供する。
【解決手段】中心部に円孔が形成されたディスク状基板の主表面上に磁性層を備え、磁気ディスク装置に搭載して使用される磁気ディスクであって、 その主表面上に、所望の情報を記録再生するための記録再生用領域と、磁気ディスク装置制御用サーボ信号が記録されるサーボ信号記録領域とを有し、サーボ信号記録領域の磁性層は、記録再生用領域の磁性層の保磁力よりも低い保磁力とする。面内で保磁力を変えるために、サーボ信号記録領域の磁性層を、記録再生用領域の磁性層よりも低い温度で成膜する。 （もっと読む）

【課題】 特にロードアンロード方式用として好適な、１２ｎｍ以下の極狭浮上量においても、フライスティクション障害や磁気ヘッド表面のコンタミなどを抑制し得る潤滑層を備えた磁気ディスクを与える潤滑剤の製造方法、この方法で得られた潤滑剤を用いてなる磁気ディスクを提供する。
【解決手段】 磁気ディスクの表面に成膜される潤滑層を形成するための潤滑剤を製造する方法であって、含リン化合物を含む原料潤滑剤から、該含リン化合物を除去する磁気ディスク用潤滑剤の製造方法、および基板上に、少なくとも磁性層と、保護層と、前記方法で得られた磁気ディスク用潤滑剤を用いて成膜されてなる潤滑層とが順に設けられた磁気ディスクである。 （もっと読む）