【課題】 ガラス基板の主表面を簡易に、かつ、極めて平滑な面に研磨することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供し、安定した品質の磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することを可能にする。
【解決手段】 研磨液を供給し研磨布５，６とガラスディスク７とを相対的に摺動させてガラスディスク７の表面を研磨する研磨工程を含み、研磨布５，６としてガラスディスク７に対する摺接面に研磨液の流路となる溝９が形成されたものを用い、研磨工程の全行程において、研磨布５，６とガラスディスク７との相対的摺動方向を、溝９に交差する方向とする。 （もっと読む）

【課題】薄膜（マスク層）の下地に欠陥が発生するのを抑える。
【解決手段】下地（ハーフトーン膜１２）をエッチングによりパターニングする場合のマスク層として用いられる薄膜が透光性基板１０上に形成されたマスクブランクの製造方法において、薄膜は複数層（遮光膜１４、１６）からなり、薄膜を層ごとに複数回に分けて形成し、薄膜のそれぞれの層を形成するごとに各層表面の洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】プローブ部材において所定の高さばらつきから逸脱した高さのバンプ接点が存在することに起因するコンタクト不良の問題を解消できるプローブ部材の修正方法等を提供する。
【解決手段】絶縁性基板の一方の面に所定の高さばらつきに抑えるべく形成された多数の半球状或いは略半球状の形状を有するバンプ接点と、該絶縁性基板の何れかの面又は内部に設けられた導電性回路とが導通されてなる構造を有するプローブ部材における前記バンプ接点のうち、所定の高さばらつきから逸脱した高さの高いバンプ接点を修正するプローブ部材の修正方法であって、
前記所定の高さばらつきから逸脱した高さの高いバンプ接点の修正は、前記バンプ接点の表面を溶融又は除去可能なエネルギー（例えばレーザー）を前記バンプ接点の表面に照射して行うことを特徴とするプローブ部材の修正方法。 （もっと読む）

【課題】 プラスチックレンズを製造する際に、モノマー組成物の調合工程の減圧脱泡操作時に泡の吹き上がりを少なく抑え、短時間で十分な脱泡効果が得られ効率的にプラスチックレンズを製造することができるプラスチックレンズの製造方法及びプラスチックレンズを提供する。
【解決手段】 少なくとも１種のポリイソシアネート化合物と少なくとも１種のポリチオール化合物と添加剤とを含むモノマー組成物を反応させて得られるプラスチックレンズの製造方法において、前記モノマー組成物全量のうちの一部をタンクに入れて第１の減圧脱泡を行う工程と、前記モノマー組成物の残余を前記タンクに入れて第２の減圧脱泡を行う工程とを有するプラスチックレンズの製造方法、並びにこの方法により製造されてなるプラスチックレンズ。 （もっと読む）

屈折率（ｎｄ）が１．４６〜１．５８、アッベ数（νｄ）が６５〜７４の光学ガラスにおいて、
モル％表示で、Ｐ_２Ｏ_５ ４５〜６５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ８〜１９％、ＭｇＯ ５〜３０％、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏを合計で１〜２５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１６％、ＺｎＯ ０〜２５％、ＣａＯ ０〜２５％、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜３０％、Ｌａ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｙ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｙｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｌｕ_２Ｏ_３ ０〜１０％を含み、上記成分の合計含有量が９５％以上であり、特定の耐候性指数を有する、光学ガラスである。
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【課題】 外見上正常レンズと見分けのつかない不良レンズを、特別な分析装置を用いることなく、出荷前に見つけ出すための簡便な眼鏡用プラスチックレンズの製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも１種のポリイソシアネート化合物と少なくとも１種のポリチオール化合物とを含む組成物を準備する工程と、該組成物を複数のレンズ型に注入し、該複数のレンズ型を同一重合炉に入れる工程と、該組成物を重合して複数の眼鏡用プラスチックレンズを得る工程と、重合して得られた前記複数の眼鏡用プラスチックレンズのうち、任意の枚数のレンズを取り出して水浴中で染色し、その任意の枚数のレンズの染色濃度により、重合して得られた複数の眼鏡用プラスチックレンズの全てが、所望の物性を有しているか否を判定する検査工程とを有する眼鏡用プラスチックレンズの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 耐擦傷性及び撥水性の耐久性により優れた光学部材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 プラスチック基材と、このプラスチック基材上に真空蒸着法で形成された多層反射防止膜と、この多層反射防止膜上に形成された撥水層とを有する光学部材であって、前記多層反射防止膜の最外層が、二酸化ケイ素を含有する無機物質と、有機ケイ素化合物及び／又はケイ素非含有有機化合物とを蒸着原料として真空蒸着法で形成され、かつ酸素及び／又はアルゴンイオンが照射されてなるハイブリッド層であり、前記撥水層が、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水原料が電子銃による加熱処理で、前記最外層に蒸着されてなる層である光学部材である。 （もっと読む）

本発明は均一な高さを有する突条（２４）によって形成されるテクスチャー（２３）を有するガラス基板（２１）の効率的な製造方法を提供する。その方法は、ガラス板（２１ａ）に耐薬品性の低下された表面層（２７）を形成する工程（Ｓ１４）と、前記表面層に含まれる上部を有する複数の突条を含むテクスチャーを形成する工程（Ｓ１５）と、前記表面層を選択的に除去する工程（Ｓ１６）とを備える。
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ガラス転移温度（Ｔｇ）が６００℃以上であり、かつ温度４５℃に保持された濃度１．７２重量％のケイフッ酸水溶液に対するエッチング速度が０．１μｍ／分以下のガラスからなる高耐熱性、高耐酸性を備えた、情報記録媒体用基板、および該情報記録媒体用基板上に、情報記録層を有する情報記録媒体である。 （もっと読む）

【課題】 位相欠陥となる微小な凸欠陥や、透過光量の低下を引き起こす微小な凹欠陥を低減できるマスクブランク用基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】 マスクブランク用基板１０の主表面１９に、研磨剤を含む研磨液を凍結させた第１凍結体１１を接触させて摺動させ、上記主表面を研磨してマスクブランク用基板を製造する。上記主表面の研磨加工は、当該主表面を精密加工した後欠陥検査を行って当該主表面上の欠陥を特定し、この特定された欠陥に対して実施するものである。 （もっと読む）