【課題】 ＡｒＦエキシマレーザ等硫酸アンモニウムからなる異物の生成反応を促進するような高出力露光手段を露光した際に、硫酸アンモニウムの析出を抑制することができるリソグラフィーマスク及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 半透過部形成工程のレジスト剥離洗浄工程(工程５)及び遮光帯形成工程のレジスト剥離洗浄工程（工程１０）で、硫酸系洗浄剤を用いた洗浄を行い、その後、パターンの硫酸イオンが吸着された表層部の一部又は全部を除去する硫酸除去工程を行って、吸着した硫酸イオンを効果的に除去する。 （もっと読む）

【課題】 累進多焦点レンズ等で、視線移動時に感じられるユレを定量評価可能にする。
【解決手段】 任意の視線方向および任意の物体距離にある物体を注視した場合を想定し、そこから微小角ｄωだけ離れた近傍点を眼鏡を通して見たときの、像側主光線からの偏角ｄω’を求め、（ｄω’）／（ｄω）を眼鏡倍率Ｍと定義する。さらに、ある方向に沿って視線を移動させたときの眼鏡倍率Ｍの変化率として、（ｄＭ）／（ｄω）を算出し、この値に基づいてユレを定量評価する。ここでｄωは視線の移動方向に沿った微小視角を意味する。 （もっと読む）

【課題】Ｒｕ保護膜成膜時やその後の加熱処理等によって多層反射膜の最上層とＲｕ保護膜との拡散層の形成を抑制させ、反射率の低下を防止した反射型マスクブランクス及び反射型マスクを提供する。
【解決手段】基板１と、該基板上に順次形成された、露光光を反射する多層反射膜２と、多層反射膜２上の保護膜６と、バッファー層３と、露光光を吸収する吸収体膜４とを有する反射型マスクブランクス１０であって、前記保護膜６は実質的にルテニウムからなり、多層反射膜２の最上層表面は水素終端化処理し、或いは多層反射膜２と保護膜６との間に水素化非晶質膜を形成する。反射型マスク２０は、この反射型マスクブランクス１０の吸収体膜４に転写パターン４ａが形成されている。 （もっと読む）

【課題】 精密モールドプレスにより、成形部材との融着や、モールドプレスにより、成形型部材との融着や、偏肉などが抑制され、光学性能の高い光学素子を製造するのに好適なモールドプレス用ガラス素材及び光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 リン酸塩を含み、所定形状に予備加工したガラス素材の表面にアルカリ処理を施した後に、炭素含有膜を形成してなるモールドプレス用ガラス素材、および前記モールドプレス用ガラス素材を、加熱により軟化した状態でプレス成形する光学素子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 洗浄品質及び作業効率を向上させ、かつ、省スペース化を実現することのできる洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 被洗浄物１０を収納する洗浄槽本体２と、この洗浄槽本体２の下部から、洗浄液又はリンス液を選択的に供給する液供給手段４と、洗浄槽本体２内に貯めた洗浄液又はリンス液を超音波振動させる超音波振動装置７と、洗浄槽本体２の下部に設けられ、洗浄液又はリンス液を排出する液排出手段５と、被洗浄物１０に、洗浄液又はリンス液を噴射するシャワー装置６と、洗浄槽本体２の上部に設けられたオーバーフロー槽３と、を具備した構成としてある。 （もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドの低浮上量の下で、フライスティクション障害等を防止し、浮上安定性、LUL（ロードアンロード）耐久性に優れた、高い信頼性を有する、高記録密度化に好適な磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供する。
【解決手段】研磨部材には予めその表面を調整する処理を施す。該研磨部材表面の調整処理は、表面に砥粒１３を備えた平板状の部材で、端面Ａには面取り面を設けた調整板１０を用い、両面研磨装置のキャリアに保持された調整板１０に上記研磨部材の表面を押し当てて、研磨部材と調整板１０とを相対的に移動させて研磨部材表面を磨く処理である。 また、かかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られるガラス基板上に少なくとも磁性層を形成することで、磁気ディスクを製造する。 （もっと読む）

【課題】畜光剤に外光が当たり易く、採光性および残光性を向上させることができ、また眼鏡部品の両面で形状や色などの異なった発光模様が得られるようにした眼鏡フレームの発光構造を提供する。
【解決手段】テンプル８の所定箇所に発光部１０を形成する。この発光部１０は、テンプル８に形成された表裏面に貫通する貫通孔１２に積層形成された第１、第２の樹脂層１３，１４とで構成されている。第１の樹脂層１３は、畜光剤１７を含む透光性樹脂によって形成されている。第２の樹脂層１４は、畜光剤を含まない透明樹脂によって形成されている。また、第１の樹脂層１３の表面には模様１５が形成され、この模様１５を透明な保護膜１６によって覆っている。貫通孔１２は、第１の樹脂層１３が形成される第１の穴部１２Ａと、第２の樹脂層１４が形成される第２の穴部１２Ｂとで構成されている。 （もっと読む）

【課題】高精度なグレートーン部のパターンを有するグレートーンマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】グレートーンマスクの製造方法において、透明基板上に遮光膜を有するマスクブランクス上に形成された感光性材料層にパターン描画を施す描画工程を含み、該描画工程は、表示装置用基板の画素パターンに対応する繰り返しパターンに対し、略同一の描画条件にてエネルギービーム照射を行って描画するとともに、繰り返しパターン中のグレートーン部領域において最適な描画条件となるように描画位置を選定して描画する。グレートーン部は、グレートーンマスクを使用して露光を行うために用いる露光機の解像限界以下の遮光パターンが形成された領域である。 （もっと読む）

【課題】光量値のピーク近傍での電子銃の電力を正確に行って、薄膜の形成速度が極めて遅い場合でも、蒸着を正確かつ自動的に行って、製品の品質の確保と生産性の向上を図る。
【解決手段】薄膜が形成された被成膜体に所定の光を照射したときの透過又は反射した光量値が、予め設定した規準光量値が近似もしくは等しくなるように、加熱部の出力をフィードバック制御により調整する手順と、光量値が極大値または極小値近傍で予め設定したしきい値Ｂ２に達したときに、フィードバック制御を終了する手順と、フィードバック制御終了時点の出力を時間ｔｘだけ保持する手順と、時間ｔｘ内に光量値が極大値または極小値となっていない場合には、加熱部への出力をΔＰｗだけ増大する手順とを含む。 （もっと読む）

【課題】省スペースで処理能力の高い、しかも均一性の高い処理が可能な基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板２０主表面が斜め上方を向くように傾斜させた状態で基板２０を所定範囲の傾斜角度に保持する基板保持手段と、傾斜させた状態の基板２０の少なくとも一辺方向に対して略均等に処理液を供給し、基板２０主表面の全域に処理液を満たす処理液供給手段と、上記基板２０と上記処理液供給手段とを相対的に移動させる移動手段とを備える。上記基板保持手段による水平方向に対する基板２０の傾斜角度（α）は２５〜８０度の範囲である。上記処理液供給手段は、基板２０の一辺方向に対して略均等に処理液を供給可能なノズル３０からなり、上記移動手段は、ノズル３０を前記一辺方向と直交する基板２０主表面上を移動させる手段である。 （もっと読む）