説明

株式会社ディスコにより出願された特許

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【課題】 気孔率が高い砥石であっても欠けの発生を防止することができるビトリファイドボンド砥石を提供する。
【解決手段】 超砥粒をビトリファイドボンドで結合するとともに無数の気孔を備え、該気孔の気孔率が75〜95容量%であるビトリファイドボンド砥石であって、少なくとも研削作用面を除いた他の面に防水被膜が被覆されている。 (もっと読む)


【課題】 ウエーハの表面に樹脂による保護被膜を均一に被覆することができる保護被膜の被覆方を提供する。
【解決手段】 ウエーハの加工面に樹脂による保護被膜を被覆する保護被膜の被覆方法であって、ウエーハをスピンナーテーブルに加工面を上側にして保持するウエーハ保持工程と、スピンナーテーブルに保持されたウエーハの加工面の中央領域に所定量の液状樹脂を滴下する樹脂滴下工程と、スピンナーテーブルを回転するとともにウエーハの加工面の中央領域を通して外周に向けてエアーを吹き付け、ウエーハの加工面の中央領域に滴下された液状樹脂を外周に向けて流動せしめる保護被膜被覆工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】 気孔率が高い砥石を用いてウエーハを研削しても砥石に欠けが生じないようにしたウエーハの研削方法を提供する。
【解決手段】 超砥粒をビトリファイドボンドで結合するとともに無数の気孔を備え、該気孔の気孔率が75〜95容量%であるビトリファイドボンド砥石を装備した研削ホイールを用いて、ウエーハを所定量研削除去するウエーハの研削方法であって、ウエーハを研削除去すべき厚さをtとした場合、0.5〜0.95tの厚さを研削除去する第1の研削工程と、第1の研削工程によって研削除去されずに残存する0.5〜0.05tの厚さを研削除去する第2の研削工程とを含み、第1の研削工程において供給する研削水の単位時間当たりの供給量は第2の研削工程において供給する研削水の単位時間当たりの供給量より少量に設定されている。 (もっと読む)


【課題】切削手段と光学手段とが一体となって下降する際に、切削時には光学手段が、撮像時には切削ブレードが、それぞれ被加工物に接触しないようにする。
【解決手段】切削装置10において、切削ブレード29を備えた切削手段12を切り込み方向に移動させる切り込み駆動手段14には切り込み方向に移動可能な移動基台27を備え、この移動基台27には切削手段12が固定されると共に、対物レンズ32a、32bを介して被加工物の表面を撮像する光学手段13がエアーピストン31によって切り込み方向に移動可能に配設される。光学手段13は、エアーピストン31による駆動により、対物レンズ32a、32bの焦点が被加工物の表面に合致した時の位置である撮像位置と、切削ブレード29による被加工物の切削時において切削ブレード29が最下点に位置する時に対物レンズが被加工物に接触しない位置である退避位置とに選択的に位置付けられる。 (もっと読む)


【課題】 被加工物をレーザ切削加工しながら,被加工物の表面に酸化膜を形成し,形成された酸化膜上にデブリを付着させて,酸化膜を剥がすことによって容易にデブリを除去できるレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】 被加工物10にレーザ光を照射して,加工点でアブレーション反応を起こして被加工物10を切削し,加工点を移動させて被加工物10に切削溝90を形成する。このとき,被加工物10の加工点付近に,不活性ガスおよび酸素ガスを供給する,または被加工物10が大気中に置かれた状態で加工点付近に不活性ガスを供給することによって,被加工物10の表面に切削溝90を形成しながら,被加工物10のレーザ入射面側の表面上において切削溝90の両側に酸化膜91を形成する。そして,酸化膜91上にデブリ923を付着させ,酸化膜91を剥がすと同時にデブリ923を除去する。 (もっと読む)


【課題】 成膜層の剥離を一定範囲内に抑えつつメカニカルブレーキングによる割断が容易に行える深さのレーザー加工溝を形成することができるウエーハの分割方法を提供する。
【解決手段】 基板の表面に積層された成膜層によって複数のデバイスが形成されたウエーハを、デバイスを区画する複数のストリートに沿ってレーザー加工するウエーハのレーザー加工方法であって、ウエーハに対して吸収性を有する第1のレーザー光線をウエーハのストリートに沿って所定の間隔を設けて照射し、成膜層を分断する2条の膜剥がれ防止溝を形成する第1のレーザー加工溝形成工程と、第1のレーザー加工溝形成工程によってウエーハのストリートに沿って形成された2条の膜剥がれ防止溝間の中央部にウエーハに対して吸収性を有する第2のレーザー光線をウエーハのストリートに沿って照射し、成膜層および基板に所定深さの分割溝を形成する第2のレーザー加工溝形成工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】 レーザー光線照射手段の集光器から照射されるレーザー光線の集光点と高さ検出手段との位置関係を検出することができる機能を備えたレーザー加工装置を提供する。
【解決手段】 被加工物を保持するチャックテーブルと、チャックテーブルに保持された被加工物にレーザー光線を照射する集光器を備えたレーザー光線照射手段と、集光器を移動する集光点位置調整手段と、チャックテーブルに保持された被加工物の上面の高さ位置を検出する高さ位置検出手段と、高さ位置検出手段によって検出された高さ位置信号に基づいて集光点位置調整手段を制御する制御手段とを具備するレーザー加工装置であって、集光器から照射される集光点検出用レーザー光線の集光点と高さ位置検出手段との位置関係を検出するための集光点検出テーブルがチャックテーブルに隣接して配設されている。 (もっと読む)


【課題】 簡単な機構で前面及び背面ノズルを切削ブレードから同時に退避可能なブレードカバー装置を提供すること。
【解決手段】
本発明のブレードカバー装置40は,切削ブレード22の外周を覆う固定基台部44と,固定基台部44に対し略水平方向にスライド可能に配設された移動カバー部42とからなる。さらに,移動カバー部42は,切削ブレード22の前面/背面に対して切削液を供給する前面及び背面ノズル27a,27bを備え,スライド時に固定基台部44の上面44c及びY軸方向の背面44bによって案内されるように,固定基台部44の上面44c及び背面44bを覆うように配設され,案内孔425を貫通する係止部材53によって固定基台部44に取り付けられている。これにより,移動カバー部42をX軸方向にスライドさせることで,前面及び背面ノズル27a,27bを切削ブレード22に対してX軸方向に同時に移動させることができる。 (もっと読む)


【課題】被加工物の切削によって生じた切削屑を完全に排除できるようにして被加工物が汚染されるのを防止する。
【解決手段】スピンドル83の先端に切削ブレード80が装着された構成の切削手段8において、高圧エアーによって洗浄水を洗浄水噴出部88から噴出して被加工物Wに形成された切削溝Gを含む領域を洗浄する2流体洗浄手段99と、滞留した切削水を切削ブレード80の回転に起因して切削水が飛散する側に強制的に流し去る水流形成手段100とを備えることにより、切削水を確実に除去して被加工物の品質を向上させる。 (もっと読む)


【課題】 レーザー加工溝の外側を被加工物の加工面に対して垂直状に形成することができるレーザー加工装置を提供する。
【解決手段】 被加工物を保持するチャックテーブルと、チャックテーブルに保持された被加工物にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段と、チャックテーブルとレーザー光線照射手段を相対移動する加工送り手段とを具備するレーザー加工装置であって、レーザー光線照射手段の集光器は、レーザー光線発振手段から発振されたレーザー光線を断面が半円状の第1のレーザー光線と第2のレーザー光線に2分割するとともに第1のレーザー光線と第2のレーザー光線の左右を入れ替える第1のプリズムと、第1のプリズムによって2分割された第1のレーザー光線と第2のレーザー光線の光路を平行に修正する第2のプリズムと、第2のプリズムによって光路が平行に修正された第1のレーザー光線と第2のレーザー光線のスポットをそれぞれ直線部を外側に円弧部を内側にして結像する結像レンズとを具備している。 (もっと読む)


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