【課題】プルーフに記載された修正指示に基づく修正が実行されたか否かを容易かつ正確に判断できる検版装置を提供する。
【解決手段】修正前後の印刷データをそれぞれＲＩＰ処理したデータの差分として第１差分データＤＤ１を得る（ステップＳ１）。プルーフをイメージスキャナで読み取り修正指示データＤＣを得る（ステップＳ２）。修正指示データＤＣから修正指示を抽出し、第２差分データＤＤ２を得る（ステップＳ３）。抽出された修正指示の配置位置を調整し領域調整データＤＤ３を得る（ステップＳ４）。第１差分データＤＤ１と領域調整データＤＤ３とをレイヤー化して検版データＤＩを得る（ステップＳ５）。検版データＤＩによって表現される像を対象に検版処理を行う（ステップＳ６）。差分領域と修正指示領域との重なりの有無で、修正処理が修正指示に応じてなされたか否かが判断できる。 （もっと読む）

【課題】大まかな差異を検出可能であり、サイズの異なる画像間の比較を行うことができる画像処理装置および画像処理プログラムを提供する。
【解決手段】校正支援システム１Ａは、画像入力部２５、平均濃度導出部２６および画像比較部２７を備える。平均濃度導出部２６は、出力見本２３７およびプルーフ２３８を同一の分割数で縦横両方向に分割し、分割により得られたブロックごとの平均濃度を出力見本データ２３３およびプルーフデータ２３４から導出する。画像比較部２７は、平均濃度の画像内分布を出力見本２３７およびプルーフ２３８の間で比較し、比較結果に基づいて出力見本２３７およびプルーフ２３８の間の差異に関する情報を検査結果として出力する。 （もっと読む）

【課題】処理液の吐出量を正確に設定することが可能でかつノズルからの処理液の吐出動作の変更が容易な基板処理装置を提供する。
【解決手段】制御部１３はレシピデータおよびサブライブラリを有する。サブライブラリにはポンプ駆動モータ７の駆動パターン、加減速時間、レジストノズル４からのレジスト液の吐出速度および吐出量が入力され、レシピデータにはレジストノズル４の吐出時間等の制御情報が入力部１２より入力されて格納される。また、レシピデータおよびサブライブラリの各制御情報は入力部１２から変更することができる。作業者が入力部１２からレジスト液９の吐出量、吐出速度、吐出時間、加速時間および減速時間の５つの制御情報のうち少なくとも４つの制御情報を入力すると、制御部１３は入力された４つの制御情報に基づいて残りの制御情報を算出する。 （もっと読む）

【課題】 ミスト状となった洗浄液の外部への漏れを防止でき、しかも、外部からのパーティクルの浸入を招くことがない基板処理装置を提供する。
【解決手段】 回転軸４と一体的に回転するファン９を回転軸４に取り付け、カバー５の外側であって貫通孔５ａ近傍における気流を、回転軸４の延びる方向に直交する方向であって、回転軸４の周囲方向に向かう方向に発生させる。これにより、カバー５の外側の貫通孔５ａ近傍に存在するミスト状の洗浄液を、ケーシング６内壁に沿わせて案内し、ミスト状の洗浄液がケーシング６の貫通孔６ａから外部に漏れることを防止する。また、外部からカバー５の貫通孔５ａに向かって浸入しようとする空気も、回転軸４の周囲方向に向けて案内して、カバー５内へのパーティクル浸入を防止する。 （もっと読む）

【課題】装置の省スペース化を容易に実現できる基板搬送装置およびそれを用いた基板処理装置を提供すること。
【解決手段】インデクサロボット１３には、第１ロボットアーム１６および第２ロボットアーム１７が備えられており、第１ロボットアーム１６および第２ロボットアーム１７は、いわゆる３リンク方式とされている。これにより、第１ロボットアーム１６および第２ロボットアーム１７を延ばした状態では、必要なリーチの長さを確保できる。よって、これらを折りたたんだ状態においては、インデクサロボット１３の占有面積を小さくすることができる。よって、回転昇降台を回転させた場合のインデクサロボット１３の旋回直径Ｌ１および移動範囲Ｐ１を小さくすることができ、基板搬送装置１のフットプリントを小さくして省スペース化を容易に実現できる。 （もっと読む）

【課題】 リンス液によるリンス処理に伴うウォーターマークの発生を防止する。
【解決手段】 ミキシングユニット５２ｂ，７２ｂはそれぞれ塩酸供給源５２ａ，７２ａに接続されており、純水供給部２００から供給される純水に対して希塩酸を混合可能となっている。そして、混合させる希塩酸の流量を制御することで混合液のｐＨが５以下に調整される。ミキシングユニット５２ｂ，７２ｂとミキシングユニット５５，７７の間にはそれぞれ窒素溶解ユニット５８，７８が配設されており、混合液を窒素溶解ユニット５８，７８に送り込むことで窒素豊富な流体が生成される。ミキシングユニット５５，７７はそれぞれノズル６，２５に接続されており、ノズル６，２５からｐＨが５以下に低下した窒素豊富な流体がリンス液として基板Ｗに供給される。このため、基板ＷからのＳｉの溶出が低減され、リンス処理に伴うウォーターマークの発生を防止できる。 （もっと読む）

【課題】装置の省スペース化を容易に実現できる基板搬送装置およびそれを用いた基板処理装置を提供する。
【解決手段】インデクサロボット６は、第１モータ１５の駆動により第１ボールねじ１４が回動することで、基台部８を左右方向に移動することができる。また、基板保持ハンド１１４または１２４を基板受け渡し位置Ｓまで進出させる場合には、基台部８が搬送路７と交差する方向に移動して基板受け渡し位置Ｓ寄りに位置することで、基板保持ハンド１１４または１２４の進出距離を短くすることができるので、第１ロボットアーム１１および第２ロボットアーム１２の各リンク部材の長さが大きくなるのを防ぐことができる。よって、移動範囲Ｐ１を小さくし、基板搬送装置１のフットプリントを小さくして省スペース化を容易に実現できる。 （もっと読む）

【課題】処理液を効率よく回収することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】ウエハＷに第１薬液が供給されている途中で、ウエハＷの回転速度が１５００ｒｐｍから５００ｒｐｍに下げられると、これに応答して、スプラッシュガード１８の位置が、１５００ｒｐｍの回転速度で回転されているウエハＷから飛散する第１薬液を最も効率よく第１回収捕獲口４４に捕獲させることのできる第１薬液捕獲上位置から、５００ｒｐｍの回転速度で回転されているウエハＷから飛散する第１薬液を最も効率よく第１回収捕獲口４４に捕獲させることのできる第１薬液捕獲下位置に変更される。 （もっと読む）

【課題】スループットを低下させることなくウォーターマークの発生を確実に抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】純水洗浄処理が終了した基板の主面全面に純水を液盛りし、純水の液層を形成する。次に、純水が液盛りされた基板の主面の中心部近傍に窒素ガスを吹き付けて当該中心部近傍に存在する純水を基板の周辺部に押し流す。その結果、基板中心部からは純水の液体成分が排除され、周辺部のみに純水液層が存在する状態へと移行する。この状態にて、基板の回転数を上昇させるとともに、窒素ガスを吐出するガスノズルを基板の回転中心直上から端縁部に向けてスキャンさせる。これにより、基板周辺部の純水が遠心力によって飛散するとともに、窒素ガスを吹き付ける範囲が拡大して基板主面に残留付着している微少な水滴も確実に乾燥することができる。 （もっと読む）

【課題】責了紙等による修正指示に基づく修正を確実に行えるとともに、該修正の内容を容易に確認できるレイアウト編集装置を提供する。
【解決手段】校正済プルーフをイメージスキャナによってスキャンし、修正指示データを取得する（ステップＳ１）。ＲＩＰ展開データとの間で差分処理を行い、差分データを抽出する（ステップＳ２）。校正前印刷データと差分データとをレイヤー化する（ステップＳ３）。修正対象レイヤーを仮想的に格子状に分割し、複数のブロックを生成する（ステップＳ４）。レイヤー化データと領域分割データとを得たうえで、差分レイヤーに記述された修正指示に従って印刷データを修正する（ステップＳ５）。その際、修正に関係するブロックを関連付けて修正履歴データを記録する。これにより、ブロック単位の修正履歴の確認と再修正、および個々の修正処理単位の修正の採否の選択が可能となる。 （もっと読む）