【課題】 不良基板の発生、生産性の低下、プロセス不良の発生、装置構成や基板搬送制御の複雑化を生じさせず、さらに、二酸化炭素を無駄に消費することもないようにして、純水に二酸化炭素を溶解させるか否かを切り換えることを可能にする。
【解決手段】 CO₂洗浄モジュールよりも上流側の剥離処理モジュールで基板が検知され（Ｓ１でＹＥＳ）、その基板の洗浄に純水への二酸化炭素の溶解が不要である場合であっても（Ｓ４でＮＯ）、その時点で洗浄モジュール内に存在している別の基板に対して二酸化炭素の溶解された純水が供給されている場合は（Ｓ５でＹＥＳ）、この二酸化炭素の溶解された純水の供給を受けている基板が下流側の基板処理モジュールに移動するまでは、洗浄モジュールの溶解機構による純水への二酸化炭素の溶解を停止させないようになっている（Ｓ５，Ｓ６，Ｓ７３，Ｓ７４）。 （もっと読む）

【課題】オペレータが基板の欠陥を検査するために適した照明を提供することにより、オペレータが欠陥を確認する際の作業効率を向上させる。
【解決手段】目視確認装置の制御部に照明制御部４８６を設ける。さらに、照明制御部４８６に方向決定部４８６ａおよび光量決定部４８６ｂを設ける。また、照明機構４６を複数の光源がリング状に配置された分割リング照明とする。方向決定部４８６ａおよび光量決定部４８６ｂは、欠陥に関する情報である欠陥データ１００に応じて照明方向および照明光量を決定する。照明制御部４８６は、照明機構４６の複数の光源のうち点灯する光源を選択することにより方向決定部４８６ａが決定した照明方向となるように照明機構４６を制御する。また、点灯する光源の光量を光量決定部４８６ｂが決定した照明光量となるように照明機構４６を制御する。 （もっと読む）

【課題】回転する基板から飛散した処理液の跳ね返りを抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗはスピンベース１０上に水平姿勢にて保持されて回転される。基板Ｗの下面には下側処理液ノズル１５から処理液を供給することができる。また、基板Ｗの上面は雰囲気遮断板３０によって覆われている。スプラッシュガード５０は基板Ｗを囲繞するように配置されており、その回収ポート５２ｆの鉛直断面がスプラッシュガード５０の中心部に向かって開口した略コの字形状となるように、ガード５２を屈曲形成して回収ポート５２ｆの最大内径部分をガード５３に近づけるようにしている。回収ポート５２ｆの内壁面と基板Ｗとの間隔が広くなり、回転する基板Ｗから飛散した処理液の跳ね返りを抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】 デジタルアーカイブ時等において、文化財等の被着色部材に塗布された顔料や染料等の色素の推定を実行することができる色素の推定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 色素に対する分光反射率を、複数の色素について測定して得た分光反射率データを記憶するデータ記憶工程と、被着色部材を撮像手段により走査して、その被着色部材における特定の色に対する分光反射率を特定する分光反射率曲線特定行程と、分光反射率特定行程で得た分光反射率と、データ記憶工程で記憶した分光反射率データとを比較することにより、被着色部材における特定の色に使用された色素を推定する色素推定工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の表面のレジスト膜を、基板の表面にダメージを与えることなく除去可能な状態にすることができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウエハの表面にレジスト液が供給されることにより、ウエハの表面にほぼ均一な膜厚のレジスト膜が形成されて、そのウエハの表面のレジスト膜が選択的に露光され、さらにウエハの表面のレジスト膜の現像が行われた後、レジスト膜の表面に微細な凹凸が形成される。その後、レジスト膜の表面に凹凸が形成されたウエハは、レジスト膜のパターンをマスクとした処理（たとえば、レジスト膜のパターンをマスクとするエッチング処理、レジスト膜のパターンをマスクとするイオン注入処理）を受ける。そして、その処理後のウエハの表面にレジスト剥離液が供給されることによって、ウエハの表面から不要になったレジスト膜が剥離されて除去される。 （もっと読む）

【課題】パーティクル汚染および基板欠けを抑制して、基板を浮揚状態で搬送する。
【解決手段】この基板搬送装置は、基板搬送路に配置された複数の基板搬送モジュール２を備えている。基板搬送モジュール２は、長尺な支持部材１１と、この支持部材１１に固定された多孔質膜１２とを有する。多孔質膜１２は、支持部材１１との間に区画される気体流通空間への気体の供給を受けてドーム状に膨満し、供給された気体をを外部に吹き出す可撓性のシート体である。前記気体流通空間には、加圧気体供給源１４からフィルタ１６を介した加圧気体が、気体供給配管１５を介して供給されるようになっている。基板Ｓは、多孔質膜１２から吹き出される気体によって、浮揚状態で保持される。 （もっと読む）

【課題】設置スペースを増大させることなく、効率的に検査対象物の表面状態を検査することができる表面検査装置を提供する。
【解決手段】光源１１、１２およびＣＣＤカメラ３０は、印刷版２１の上方に固設される。また、保持部２２は、印刷版２１を保持しつつ、駆動部２３によって移動方向ＡＲ１に移動可能に設けられている。また、ＣＣＤカメラ３０の本体部３２には、印刷版２１の移動方向ＡＲ１と略垂直な方向に延伸する複数のＣＣＤ（受光部）が設けられている。これにより、ＣＣＤカメラ３０では、光源１１から照射されて印刷版２１で反射された反射光と、光源１２から照射されて印刷版２１で反射された拡散光とを同時に受光することができるため、一度の撮像処理で印刷版２１の表面の凹凸状態の検査と印刷版２１に描画された印刷画像の描画状況とを同時に検査することができる。 （もっと読む）

【課題】 基板に供給される処理液が基板を保持する基板保持手段の可動部分に侵入することに起因する不具合を防止できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 スピンベース２１の上面周縁部には、複数のチャックピンＦ１〜Ｆ３，Ｓ１〜Ｓ３が基板Ｗの外周端部に当接して基板Ｗを保持可能に配設されているとともに、複数の支持部材２２が基板Ｗの下面周縁部と当接して基板Ｗを支持可能に上方に突出するように固設されている。チャックピンＦ１〜Ｆ３，Ｓ１〜Ｓ３は、回動自在にスピンベース２１に軸支された可動本体部材２３１と、可動本体部材２３１上に固定して支持された当接部材２３２とを備えている。そして、可動本体部材２３１を回動させることで、当接部材２３２を基板Ｗの外周端部に離当接させることが可能となっている。この可動本体部材２３１は、スピンベース２１が基板Ｗと対向する対向領域ＦＲよりも基板Ｗの径方向外側に配置される。 （もっと読む）

【課題】表面に凹凸を有する略平面形状の物体につき、当該物体の表面情報を良好に取得して記録できる表面情報記録装置、および、当該物体間の同一性を良好に判定できる判定装置を提供する。
【解決手段】光源１１、１２およびＣＣＤカメラ３０は、絵画２１の上方に固設される。また、保持部２２は、絵画２１を保持しつつ移動方向ＡＲ１に移動することができる。また、ＣＣＤカメラ３０の本体部３２には、絵画２１の移動方向ＡＲ１と略垂直な方向に延伸する複数のＣＣＤ（受光部）が設けられる。これにより、一度の撮像処理で絵画２１の表面の凹凸状態と色情報とを同時に取得できる。また、予め取得した絵画２１の表面情報と対比することにより、２つの絵画２１の同一性を判定することができる。 （もっと読む）

【課題】加工精度を緩和しつつ処理液を高精度に吐出することができるスリットノズルおよびそれを用いた基板処理装置を提供する。
【解決手段】スリットノズル４１は、基板の表面に処理液（たとえばレジスト液）の層を形成する。このスリットノズル４１は、第１および第２本体部４１０，４１１と、これらの間に挟持されたシム板４１２および多孔質体４１５を有している。第１および第２本体部４１０，４１１は、処理液流通路としてのマニホールド４１１ｂを内部に有し、基板に対向すべきノズル面４１０ｆ，４１１ｆに直線状に開口した吐出口４５ａを有し、マニホールド４１１ｂと吐出口４５ａとの間に隙間空間としてのランド４１１ｄを有する長尺なノズル本体を形成している。多孔質体４１５は、ランド４１１ｄに配置されている。 （もっと読む）