【課題】 空気等のガス中に含まれる窒素酸化物を、大型の処理装置あるいは複雑な構成を有する処理装置を使用することなく、優れた処理能力及び除去率で容易に除去でき、いったん吸着した窒素酸化物が非人為的に脱着することがない処理方法及び処理装置を提供する。
【解決手段】 空気等の処理対象ガスを、水吸着剤と接触させて該ガスに含まれる水を除去した後、パラジウム触媒と接触させて該ガスに含まれる窒素酸化物を除去する。また、少なくとも、処理対象ガスの導入口、水吸着剤の充填部、パラジウム触媒の充填部、及び処理されたガスの排出口を備え、該ガスがこの順で流通するように設定されてなる処理装置とする。 （もっと読む）

【課題】 水、液体ＣＶＤ原料、または固体ＣＶＤ原料を有機溶媒に溶解させたＣＶＤ原料を、安定して所望の濃度及び流量で効率よく気化し、半導体製造装置に供給するための気化器を提供する。
【解決手段】 液体原料の気化室、液体原料を気化室に供給するための噴出管、及び気化ガス排出口を有し、気化室内に固体充填物、気化室の側面に、各々別々に温度コントロールが可能な複数の加熱手段（ヒーターを内蔵する筒状のブロック）を備えてなる気化器とする。 （もっと読む）

【目的】 二酸化炭素単独または不活性ガスや水素などで希釈された二酸化炭素中に不純物として含有される酸素を除去し、高純度の精製ガスを得る。
【構成】 二酸化炭素単独または不活性ガスなどで希釈された二酸化炭素をニッケルまたは銅を主成分とする触媒と接触させる。 （もっと読む）

【目的】ハロゲン化炭化水素またはハロゲン化炭化水素を含有するガス中に不純物として含まれる酸素を除去し、高純度の精製ガスを得る。
【構成】ハロゲン化炭化水素単独、または、水素、窒素、アルゴンなどのベースガスで希釈されたハロゲン化炭化水素をニッケルを主成分とする触媒と接触させる。 （もっと読む）

【目的】水蒸気単独または水素、窒素、アルゴンなどで希釈された水蒸気中に不純物として含まれる酸素を除去すると同時に、結露防止のために加熱しながら精製した場合などに二酸化炭素など微量の不純物が精製水蒸気中に検出されることがあるため、この点を改善して酸素は勿論、その他の不純物も検出下限値以下のような高純度の精製水蒸気を得る。
【構成】酸素雰囲気下での焼成処理、還元活性化処理および水蒸気による処理を施したニッケルまたは銅を主成分とする触媒に粗水蒸気を接触させる。 （もっと読む）