説明

アメリカン ステリライザー カンパニーにより出願された特許

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【課題】滅菌チャンバ中の滅菌剤の濃度のリアルタイムなモニタリングを可能とする半導体素子を用いたシステムを提供する。
【解決手段】半導体感知素子を滅菌チャンバ1内に搭載し、例えばキャパシタンスまたは抵抗が、チャンバ中の化学滅菌剤の濃度とともにリアルタイムで変化するように選択される。受信ユニットは、固体感知素子をモニタリングし、例えば温度、圧力、相対湿度、空気流速、酸化物質濃度およびこれらの組合せである環境パラメータ値の第1の組における滅菌剤のベースライン濃度に対応するベースライン電気的特性値を格納し、リアルタイムな半導体感知素子の電気的特性の変化をベースライン特性値と比較して、滅菌剤濃度のリアルタイムな指標を提供する。滅菌装置制御部12は、この受信ユニットからのリアルタイムの滅菌剤濃度に従って、滅菌チャンバ中の滅菌剤の濃度および他の滅菌システムパラメータを制御する。 (もっと読む)


【課題】滅菌または殺菌化学物質の濃度のリアルタイムモニタリング及び電子制御のシステムを提供する。
【解決手段】半導体感知素子を滅菌チャンバ1内に搭載する。受信ユニットは、固体感知素子をモニタリングし、例えば温度、圧力、相対湿度、空気流速、酸化物質濃度およびこれらの組合せである環境パラメータ値の第1の組における滅菌剤のベースライン濃度に対応するベースライン電気的特性値を格納する。受信ユニットは、リアルタイムな半導体感知素子の電気的特性の変化をベースライン特性値と比較して、これにより、滅菌剤濃度のリアルタイムな指標を提供する。滅菌装置制御部12は、この受信ユニットからのリアルタイムの滅菌剤濃度に従って、滅菌チャンバ中の滅菌剤の濃度および他の滅菌システムパラメータを制御する。 (もっと読む)


本発明は滅菌する物品を収納するチャンバを備えた再処理装置を操作する方法を提供する。濾過システムを含む第1および第2の濾過要素に通した水を再処理装置に充填する。水を乾燥化学薬品に混合して液体滅菌剤を生成する。液体滅菌剤を流体循環システムおよび濾過システムに循環させ、液体滅菌剤の一部はバイパス管に導き、別の一部は第1および第2のフィルタ要素に導く。所定の時間が経過したあと、再処理装置から排水する。次に、第1および第2のフィルタ要素を通過したすすぎ水を再処理装置に充填する。すすぎ水は再処理装置に入れる前にすすぎ水を加熱する。 (もっと読む)


【課題】新規な気相除染システムを提供する。
【解決手段】引込み口ポート12と引出し口ポート14とを有する密閉可能なチャンバと、搬送ガスを該チャンバの中に引き入れ、中を通って、外へ再循環させる通路を提供する、該チャンバ引込み口ポートと流体接続する第1の端部および該チャンバ引出し口ポートと流体接続する第2の端部を有する閉ループ流体回路16と、該閉ループ流体回路を通ってガスを循環させる手段22a、22bと、除染剤蒸気を再循環搬送ガス中に送達する該引込み口ポートに隣接した該流体回路に流体接続された蒸発器18とを含み、該搬送ガスの圧力を感知する圧力センサー54と、該感知された搬送ガスの圧力に変化に応じて、搬送ガス導管から該搬送ガスを追加および除去する手段と、を特徴とする、閉ループフロースルー気相除染システム。 (もっと読む)


物品を汚染除去する方法であって次のステップが含まれる。すなわち、(a)既知温度の複数の物品を第1の通路に沿って移動させ、(b)細長いプレナムを含む第2の通路に沿ってキャリヤガスを搬送し、第2の通路はプレナムより下流で第1の通路に交差し、(c)キャリヤガスをプレナムの上流位置で少なくとも約105℃に加熱し、(d)プレナムにおいてキャリヤガスに既知濃度の液体過酸化水素の噴霧ミストを注入し、(e)(1)第2の通路に沿うキャリヤガスの容積流量と、(2)キャリヤガスに注入される過酸化水素の容積と、(3)第1の通路が第2の通路と交差する箇所のキャリヤガス中の蒸気過酸化水素の濃度が物品の既知温度より低い露点温度をもつようにプレナム内に注入されるキャリヤガスの温度とを制御するステップが含まれる。 (もっと読む)


【課題】新規な気相除染システムを提供する。
【解決手段】引込み口ポートと引出し口ポートとを有する密閉可能なチャンバと、このチャンバの引出し口ポートと流体接続する閉ループ流体回路と、この回路を通ってガスを循環させる手段と、除染剤蒸気を再循環搬送ガス中に送達する該引込み口ポートに隣接して上記回路に流体接続された蒸発器とを有し、上記チャンバ内の、温度と、相対湿度および除染剤蒸気濃度の少なくとも1つとをモニターするモニターをさらに備え、このモニターは、上記チャンバ中の相対湿度または除染剤蒸気濃度の少なくとも1つをモニターし、残りのパラメーターはチャンバの外側で間接的にモニターされ、このモニターからの出力信号を受信し、この信号に従って加熱手段を制御して、除染剤蒸気および搬送ガスの少なくとも温度を制御するプロセッサーをさらに備える。 (もっと読む)


データケーブル62が通る管状支持アーム52に取り付けられたモニター10のデータ接続具を取り囲むカバー組立品100である。カバー組立品には管状支持アームの一部を取り巻くスリーブ110が含まれる。スリーブはスリーブと管状支持アームとの間にケーブルを通す通路を形成する。管状支持アームは第2の端部で遮蔽物210に連結する。遮蔽物は開口が形成された円弧状外面を有する。開口はスリーブの一端を受け入れる寸法にされる。モニターに取り付けられた円弧状内面を有するカバーはモニターと共に移動可能である。カバーはその円弧状内面を遮蔽物の円弧状外面に対向させて遮蔽物を取り囲む。スリーブはカバーのスロットを通り、モニターは第1の軸Xの回りに回転可能であり、さらに第1の軸に垂直な第2の軸Yの回りに回転可能である。 (もっと読む)


限定領域内で汚染物質を不活性化するため、蒸気不活性化剤の供給源、ガス処理システム、支持部材、駆動手段、制御システム、および電力システムが含まれる移動式不活性化装置が開示される。ガス処理システムで蒸気不活性化剤を限定領域に分配する。支持部材は限定領域内で移動可能であり、蒸気不活性化剤の供給源とガス処理システムを支持する。支持部材は駆動手段で推進される。制御システムはガス処理システムと駆動手段を制御するようプログラムされる。移動式不活性化装置に電力を供給するため電力システムが設けられる。 (もっと読む)


蒸発システムに供給する所定量の液体汚染除去剤を計量する方法および装置である。注入器に所定量の液体汚染除去剤を充填しチャンバを真空にするため1つの真空源が使用される。注入器に充填した液体汚染除去剤をチャンバに注入する。液体汚染除去剤はチャンバ内で蒸発して蒸気汚染除去剤が生成される。 (もっと読む)


汚染除去プロセスに使用する蒸気用に蒸気純度および蒸気品質の少なくとも一方をモニターする方法および装置を提供する。コンデンサを蒸気に露出させて、蒸気をコンデンサ板間の誘電体として作用させる。誘電体の誘電率は蒸気の純度および/または品質によって影響を受けるので、コンデンサの電気特性の測定値を蒸気純度および/または品質のモニターに使用する。 (もっと読む)


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