説明

ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドにより出願された特許

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【課題】
【解決手段】推進薬を貯蔵する推進薬リザーバ12と、蒸気を排出して推力を提供する反応チャンバ20と、推進薬をリザーバ12から引き出し、且つ、推進薬を制御された態様にて反応チャンバ20に体系的に調量供給する1つ又はより多くのマイクロポンプ50と、ポンプモジュール14を作動させる制御装置16とを備える、宇宙船を位置決めする推力を提供するスラスター10である。
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空気調和又は冷凍システムにおける構成要素(14)を清浄化する方法及び装置(10)。構成要素(14)に存在する汚染物質を除去するため構成要素(14)を通過するように液体溶剤をフラッシュすることが提供される。フラッシュされ構成要素(14)を通過した溶剤を蒸発させ、引き続いて汚染物質を含む溶剤を浄化するために蒸発された溶剤から汚染物質を除去する。その後、蒸発され浄化された溶剤を液化し、液化された溶剤を再使用して構成要素(14)を再び洗浄する。
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ブリッジの透過ウィンドウを定義するブリッジセンスを逆にして各PCIブリッジの2次側を接続しているため、1次側でなく2次側のアクセス可能なメモリが暗示されることになる。

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高沸点副産物の形成を最少にし且つHFの消費とヒドロフルオロカーボンの収量とを改善するためにHF対ヒドロクロロカーボンの大きなモル比を用いて液相触媒反応器において、ヒドロクロロカーボンとHFとを反応させることによってヒドロフルオロカーボン(HFC)を作るための製造法。 (もっと読む)


光ファイバ・ジャイロ(FOG)内の検知コイルの固有振動数を検出するシステムは、光源に接続されたファイバ・カップラと、ファイバ・カップラを介して光源から受け取った光を変調することのできる光集積回路チップ(IOC)と、IOCと通信する検知コイルと、第1変調信号を光に付与する第1変調ジェネレータと、検知コイルの回転速度を表す検知コイルから戻る光を受ける光検出器と、を含む。上記と共に、第2の、好ましくは正弦波の変調信号を光に付与する第2変調ジェネレータと、光検出器によって少なくとも間接的に生成された信号と通信する高振動数復調器と、高振動数復調器と通信する低振動数復調器とが提供される。高振動数復調器は、基準振動数として第1変調信号を受け取り、低振動数復調器は、基準振動数として第2変調信号を受け取る。低振動数復調器の出力は、第2変調信号の振動数と固有振動数の偶数高調波との振動数差の大きさ及び符号を表す。
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センサーチップは、ピエゾ抵抗ブリッジ、温度抵抗ブリッジ、及び定電流モードでピエゾ抵抗ブリッジを動作させるときにスパン補正を提供するのに使用可能な多機能抵抗ネットワークを有する。定電流モードでは、多機能抵抗ネットワークはまた、センサーチップのエピタキシャル層にバイアス電位を供給するのに使用することができる。定電圧モードでは、多機能抵抗ネットワークは、特定の動作温度範囲において温度チャンネルの出力をカスタマイズするために温度抵抗ブリッジを含む温度チャンネルに対して3つの異なるゲインを提供するのに使用することができる。 (もっと読む)


アンチエイリアシングされたラインおよび文字を生成する方法が開示される。この方法は、分布(302)に基づいてテクスチャマップ(402)を生成するステップとテクスチャマップを多角形領域(502)に適用するステップとを含む。この実施形態の一態様では、分布に基づいてテクスチャマップ(402)を生成するステップはさらに、一連の同心半円(406)を含むテクスチャマップを生成するステップを含む。テクスチャマップでは、この同心半円は、同心半円の半径のサイズが増大すると減少する輝度を表す。さらに、一実施形態では、テクスチャマップは、ガウス分布(302)を使用して生成される。この実施形態の他の態様では、文字(801)を定義するテクスチャマップ内のそれぞれのテクセルについて、テクセルと文字(801)を形成するそれぞれのラインセグメントとの間の最小距離が計算される。最小距離は、分布(302)を使用して輝度値(I)を決定するために使用される。その後、テクセルは、文字(801)に対するテクスチャマップ(1002)を形成するために輝度値(I)に関連付けられる。状況に応じて、第2の分布に関して求められた最小距離を使用してそれぞれのテクセルに対するハロー値(α)を決定することにより、それぞれのテクセル値に対するハロー値(α)が決定されうる。この方法は、表示される文字(801)毎に繰り返すことができる。

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マイクロマシンを包含するエレクトロメカニカルシステム(MEMS)デバイスを組み立てる方法を提供する。該方法は、ダイの上にマイクロマシンを形成すること、該ダイが、頂部表面及び底部表面を有すること、ハウジングの表面に複数のダイボンディング・ペデスタルを設け、ダイの底部表面が遊離するゲッタリング材料からマイクロマシンのコンポーネントを少なくとも部分的に遮蔽するように、ダイの少なくとも1つの頂部表面及びマイクロマシンのコンポーネントをダイボンディング・ペデスタルに取り付けることを含む。

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例えばコントロール・モーメント・ジャイロ(CMG)(100)のスピン軸受などに潤滑剤を送達するための、潤滑媒体供給システム(120)および方法は、貯蔵部(202)、モータ(204)、およびバルブ(206)を含んでいる。貯蔵部(202)内部に潤滑媒体(212)が配置され、その貯蔵部(202)にモータ(204)が結合され、モータ(204)は潤滑媒体(212)を圧縮しそれによってその媒体を加圧する。バルブ(206)は、潤滑媒体(212)が加圧されるのに応答して開きそれによって所定量の潤滑媒体(212)を貯蔵部(202)から供給し、同時に貯蔵部(202)内の潤滑媒体(212)を減圧する。
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ダイ(110)とダイ用のハウジング(202)の間の接着強度を増やす方法が記述される。ダイの上にマイクロ電子機械システム(MEMS)デバイスが形成される。この方法は、接点材料の複数のクラスタ(220)をハウジングの底面(240)上に堆積させる工程と、ダイをクラスタ上に配置する工程と、ハウジング、クラスタ化接点(228)及びダイに熱圧着加工を施す工程と、を含む。

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