【課題】穿孔装置等の機械的な装置を用いることなく、露光光によって第１のレチクル基準マーク投影体と第２のレチクル基準マーク投影体とを形成し、塵埃を生じにくくして投影体である導体パターンを的確に形成することができるとともに、構成や処理を簡素にして間歇的に導体パターンを形成できる投影露光装置を提供する。
【解決手段】被転写パターンの像に対応したパターン投影体と、被転写パターンの基準位置を示す第１のレチクル基準マーク及び第２のレチクル基準マークの像に対応した第１のレチクル基準マーク投影体及び第２のレチクル基準マーク投影体と、を露光光によって、被露光体に形成し、第１のレチクル基準マーク投影体の位置と第２のレチクル基準マーク投影体の位置と検出して、被露光体の位置を調節する。 （もっと読む）

【課題】ワークシートの位置ずれ、伸び、波うち、しわ等が生じる恐れなく、高い位置決め精度を有するワークシートの高速搬送を行なうことができる投影露光装置、及び投影露光方法を提供する。
【解決手段】ワークシート２を間歇的に搬送して投影露光を行なう投影露光装置１であって、ワークシート２を載せ搬送可能な露光テーブル４と、露光テーブル４により投影位置に搬送されたワークシート２に投影露光を行なう投影露光部１０と、を備え、露光テーブル４が、ワークシート２の搬送方向において所定のストロークだけ前進及び後進が可能であり、かつワークシート２の保持及び解放が可能であって、露光テーブル４が、ワークシート２を保持した状態で前進し、ワークシート２を解放した状態で後進することによって、ワークシート２を間歇的に搬送する投影露光装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】フィルム上に形成されたアライメントマークが、本来想定している位置と異なる位置に変位しているような場合であっても、隣接する導体パターンを等間隔にフィルムに形成することができる投影露光装置を提供する。
【解決手段】感光体を間歇的に移動させる前後において、レチクル基準マークの位置と感光体基準マークの位置との相対位置関係が、維持されるようにする。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造を用いて、様々な大きさの被露光物を効率よく吸着保持することのできるメンテナンス性に優れた被露光物の保持機構を備えた投影露光装置を提供する。
【解決手段】真空生成手段に接続されて真空吸引が可能な吸引穴６が搭載面４ａに複数設けられた露光テーブル４と、登載面４ａの上に設置され、吸引穴６と連通して真空吸引が可能な貫通穴１０が複数設けられたアダプタシート８と、アダプタシート８の上に載せられ貫通穴１０により真空吸着された板状またはシート状の被露光物２に投影露光を行なう露光部と、を備え、貫通穴１０が、被露光物２の接触面に対応する領域に設けられ、吸引穴６が、貫通穴１０が設けられた領域を包含する領域に設けられる投影露光装置提供する。 （もっと読む）

【課題】 被投影基板を的確に位置合わせをして被投影基板上にパターンを形成することができる簡素な構成な投影露光装置を提供する。
【解決手段】 アライメント光を、載置手段に対して露光光照射手段と反対側から、投影レンズに向かってアライメント光を発するアライメント光照射手段であって、載置手段に設けられた第１基準マークと、パターン基板に設けられた第２基準マークと、にアライメント光を照射するアライメント光照射手段を有する投影露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 感光性レジストを変更することなく、様々な断面形状を有するレジストパターンを形成することのできる露光装置、及び露光方法を提供する。
【解決手段】 基板上の感光性レジストに光を照射してレジストパターンを形成する露光装置であって、２以上の波長の光を出力することができる光源部と、光の強度を変更することができる光強度変更手段と、を備え、光強度変更手段により、感光性レジストに照射する２以上の波長の光のうち、少なくとも１の波長の光の強度を変更することによって、レジストパターンの断面形状を制御することができる露光装置、及び露光方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 光束の中心の領域の照度を、光束の中心の領域以外の領域の照度に近づけることができ、被照射物体における中抜けを防止することができる照明装置を提供する。
【解決手段】 オプティカルインテグレータの入射面が、オプティカルインテグレータの光軸と垂直な面に対して傾いて形成されたオプティカルインテグレータを用いて、被照射物体を照明する。 （もっと読む）

【課題】 簡素な構成や手順で、レチクルと感光基板との位置合わせを的確に行うことができ、導体パターンを感光基板の適切な位置に形成できる投影露光装置を提供する。
【解決手段】 露光光の照射によって光応答する光応答部材を用い、この光応答部材に露光光を照射してパターン基準マークの投影像を光応答部材に形成して、このパターン基準マークの投影像の位置と、感光基板の基準位置を示す基板基準マークの位置と、を検出し、感光基板にパターンを投影すべき位置に感光基板が載置された載置手段を位置づける。 （もっと読む）

【課題】 光源の出力を高めたり、光源を大きくしたりすることなく、被照射物体の照野の形状に適合した光束の照度を上げることができるとともに、取り扱いやメンテナンスを容易にする照明装置を提供する。
【解決手段】 光源と被照射物体との間に反射手段を設け、この反射手段によって反射された光束を逆向きの光路で光源近傍に戻るようにする。 （もっと読む）

【課題】 粘度の高い塗布液を、間歇的に、基板の両面に厚塗りするスリットコータと、乾燥設備を備えた基板のコーティングシステムを提供する。
【解決手段】 基板１を垂直に搬送する基板搬送手段と、搬送される基板１の両側に配置され、塗布液を基板１の両面に同時に塗布するスリット状の吐出口を有する塗布ヘッド３と、塗布ヘッド３に塗布液２を供給する塗布液供給手段と、塗布ヘッド３を移動させて、吐出口４と塗布面との間の距離を所望の距離に変更するヘッド移動手段と、吐出口４から吐出した塗布液２を塗布液供給手段へ戻す塗布液戻し手段と、を含み、塗布ヘッド３が、塗布位置と待機位置との間を移動することによって、塗布を間歇的に行なう。また待機位置において、吐出口４から吐出した塗布液を塗布液供給手段へ戻すことによって、基板の塗布を間歇的に行なう場合でも、塗布ヘッド３内で塗布液を連続的に流動させることができる。 （もっと読む）