【課題】基体に粉末材料を静電塗布する装置及び方法を提供する。
【解決手段】上記装置は、それぞれが複数の基体を保持する複数のプラテンと、進路に沿って上記プラテンを搬送するコンベヤと、上記基体に粉末材料を静電塗布する塗布機とを備えている。上記方法は、各プラテンに複数の基体が保持されるように上記プラテンに基体を置く工程と、進路に沿って上記プラテンを連続的に搬送する工程と、上記プラテンに保持されている上記基体に粉末材料を静電塗布する工程とを備える。また、粉末材料が静電塗布される複数の基体を保持するためのプラテンが提供される。上記プラテンは、複数の基体を支持する複数の支持部を有したプラテン基部と、上記プラテン基部上に配置され上記プラテン基部の上記複数の支持部に対応して配置された複数の孔を有する導電性のプラテンシールドとを備える。
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静電気粉体堆積によるカプセル製造のための粉体皮膜原料は、ヒドロキシプロピルセルロースとステアリン酸とを含む。この原料は、好適に柔軟なカプセルを提供し、カプセル製造における静電気粉体堆積工程の改善された特性を有する。他に可能な成分には、例えば、ビニルピロリドン／酢酸ビニル共重合体、アミノアルキルメタクリレート重合体、糖アルコール及び乳白剤が含まれる。
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【課題】固形製剤に粉末材料を塗布するための改善された方法及び装置を提供する。
【解決手段】粉末材料（５０３）に静電気を帯電させ、固形製剤（１０９）に粉末材料（５０３）を静電塗布する塗布機（１０７）へ上記粉末材料（５０３）を供給する装置を、粉末材料（５０３）の貯留集合体（１０１）を攪拌して粉末材料（５０３）に静電気を帯電させるミキサ（１０３ａ，１０３ｂ）であって、ほぼ平行に延設された２つの攪拌シャフト（２０１ａ，２０１ｂ）を有し、２つの攪拌シャフト（２０１ａ，２０１ｂ）が相互に逆方向に傾斜した攪拌パドル（２０３ａ，２０３ｂ）を有すると共に互いに逆方向に回転するように配設されたミキサ（１０３ａ，１０３ｂ）と、帯電した粉末材料（５０３）を貯留集合体（１０１）から取り出して塗布機（１０７）に供給する供給機（１０５）とにより構成する。 （もっと読む）

基材に紛状材料を静電的に散布する装置及び方法が記述される。複数のプラテンが用意され、各プラテンは固形投薬体等の複数の基材を保持すべく構成されている。各プラテンは無端状経路に沿って駆動され、基材がプラテン上にロードされるローディング領域、基材に紛状材料が散布される散布領域、散布された紛状材料が溶融される溶融領域、プラテンから基材が取り除かれるアンローディング領域を通過する。
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【課題】手術用機器のコーティング方法を提供する。
【解決手段】コーティングは、静電粉体塗装により行う。機器は、介入処置および移植装置を含む外科手術又は診断法において使用される機器である。コーティングは静電的に塗布されるため、従来の液状噴霧コーティングのように噴霧の「視線」に入る部分だけではなく、機器全体に引き付けられる。前記工程は、均一に再現性のある量を付着させることができるため、薬物溶出コーティングを正確にステント及び他の手術用機器に塗布することができ、薬物放出の優れた制御ができる。また、薬物溶出コーティングは一工程で塗布できるが、特定の薬物放出特性を得たい場合には複数層の塗布が容易に可能である。
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カプセルシェルの製造方法は、カプセルシェルが静電粉体塗装で製造されることを含んでいる。複数のカプセルシェルが、複数の成形された基材に静電的に粉体コーティング物質を塗布すること、当該成形された基材のそれぞれに連続的なコーティング層を形成するように処理すること、当該成形されたコーティング層を前記基材から除去し、中空のカプセルシェルを与えることによって製造される。
カプセルシェル製造用装置は、基材、帯電した粉体物質の供給源、及び前記粉体物質の供給源と前記基材間のバイアス電圧を印加して電界を生ぜしめ、粉体物質が前記基材に塗布するための電圧源を含んでいる。
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