【課題】プラズマから放射された高エネルギ放射線のビーム束における特性の調整用の方法および機構を提供する。
【解決手段】集光光学系によって合焦されるビーム束内において、放射線の強度分布が、中間焦点１６の前の光軸１３に垂直な測定面１５２における収束ビーム束１５の断面にわたって取得され、かつ強度値が、光軸１３と同心の異なる半径を備えて整列された測定装置２の複数の受信領域用の画定されたセクタにおいて記録され、かつ測定量および制御変数が、集光光学系１４を整列させるために、異なるセクタの強度値の比較から決定される。 （もっと読む）

【課題】パルス周期に対して不十分なプラズマの放出期間が改善されたガス放電発生プラズマベースの放射線源によって、短波長放射線を発生する。
【解決手段】エミッタが、真空チャンバ１に配置された２つの電極２間のパルス状電流によってイオン化および圧縮され、放出プラズマ３を形成する。プラズマ３は、パルス状電流のパルス繰り返し周期が、プラズマ３の寿命より短く調整され、パルス状電流の高周波数シーケンスによって、プラズマ３が、放出圧縮プラズマ３１の高エネルギ状態と緩和プラズマ３２の低エネルギ状態との間で周期的に交替しながら維持される。圧縮プラズマ３１を発生するための緩和プラズマ３２の励起用に、パルス繰り返し周期と等しいパルス幅を備えた５０ｋＨｚ〜４ＭＨｚのパルス繰り返し周波数ｆがパルス状電流用に用いられ、励起エネルギが、緩和プラズマ３２に結合される。 （もっと読む）

【課題】高強度の高エネルギー放射光の束の断面におけるパラメータの空間分解測定方法を提供する。
【解決手段】本発明は、高エネルギー、高強度放射光のビーム束の断面全体にわたって測定データを空間的に取得する方法および装置に関する。高強度のビーム束の断面内で、検出器の飽和または劣化による測定精度の低下を発生させることなく、高空間分解測定データを取得する放射光測定の新しい可能性を見出すという目的は、本発明によれば、ビーム束（２）の全断面（２１）が遮蔽要素（３）上に結像され、断面（２１）が、少なくとも１つの開口部（３１）の移動を通じて、断面積が小さく、強度が弱い部分ビーム束（２２）へと連続的に分離され、開口部（３１）を通過する部分ビーム束（２２）の測定値が、時間的および空間的に開口部（３１）の位置に関連付けられるように取得され、記憶されることにより達成される。 （もっと読む）

【課題】放電プラズマに基づいた極紫外（ＥＵＶ）放射線発生のソース位置を安定させるための方法および装置を提供する。
【解決手段】本発明は、放電プラズマに基づいたＥＵＶ放射線の発生中にソース位置を安定させるための方法および装置に関する。ソース位置の位置変化を放射線ソースの動作中に単純な方法で補償できるようにする、ＥＵＶ放射線の発生中にソース位置を安定させるための新規な可能性を見い出すという目的は、第１のビーム整列ユニット（７）、第２のビーム整列ユニット（４）、およびビーム集束ユニット（５）が、蒸発ビーム（３）に配置され、かつ第１〜第３の測定装置（８、９、１０）に接続され、かつ基準値に対する蒸発ビーム（３）の方向偏差および発散偏差を取得および補償するために調整可能であるという点で、本発明によって達成される。 （もっと読む）

【課題】気体放電プラズマからＥＵＶ光を発生させる方法と装置の提供。
【解決手段】電極２間に位置付けられ、少なくともバッファガス７が収容された放電空間６内の発光材料３が、気化用ビーム５の高エネルギーパルス放射により照射されることによって気化され、電極間に発生するパルス放電電流によってＥＵＶ光を発生させる放電プラズマに変換される。チャネル生成用ビーム４が、少なくとも２つの部分的ビームで供給され、ビーム焦点が電極２間でパルス同期した状態で重畳されるように成形、集光され、放電空間６に向けられ、導電放電チャネルは、少なくとも放電空間内に存在するバッファガス７の電離によって重畳領域に沿って生成され、チャネル生成用ビーム４の高エネルギーパルス放射は、それぞれの場合においてパルス放射電流によって放電チャネルが生成された後に、放電電流パルスがその最大値に到達するような方法でトリガされる。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源におけるエミッタ材料として溶融錫を連続生成する。
【解決手段】エミッタ材料（２）を補充する際に、エミッタ材料（２）の連続供給を中断せずに、所定の高圧下で継続して供給するために、エミッタ材料供給ユニット（４）が貯溜容器（４１）と注入装置（５）の間に少なくとも第一の圧力容器（４４）と第二の圧力容器（４４’）を有し、注入ユニット（５）のための高いエミッタ材料圧力を発生させ、２基の圧力容器（４４，４４’）には高圧ガスシステム（７３）によってメガパスカルの範囲の圧力ガス（７４）が加えられ、エミッタ材料供給ユニット（４）が、高圧ガスシステム（７３）を一方の圧力容器を他方の圧力容器に切り換え、これに対応して注入ユニット（５）を加圧されている各圧力容器の一定のエミッタ材料圧力に交互に切り換えるための手段を有し、小滴生成とプラズマ発生の連続動作中に圧力容器の少なくとも一方に再充填する。 （もっと読む）

【課題】耐用期間の長い、プラズマに基づく短波長放射線源の動作に関する方法およびその装置を提供して、緩衝ガスを使用することにより放射線生成の主なプロセスが著しく損なわれることなく、かつ空間的に狭く制限された方法で分圧を生成するために費用を大幅に追加する必要なく大量にデブリを削減することを可能とする。
【解決手段】緩衝ガス（４１）として水素ガスを真空室（１）に圧力下で導入して、１〜１００Ｐａ・ｍの範囲内の圧力−距離の積を実現する一方、緩衝ガス（４１；４４）内で放射プラズマ（２１）によって放射された放射線の幾何学的な放射経路を考慮するような、および真空室（１）が、準静的に圧力調整するために（４２；４７）および残留放射材料と緩衝ガス（４１）とを除去するために連続的に吸引される。 （もっと読む）

【課題】特に半導体チップの製造に用いられるＥＵＶリソグラフィ露光装置の線源モジュール用にＥＵＶ放射線を生成するための配列に関し、一次線源位置（プラズマ３）から二次線源位置［線源モジュール（１）の出口開口部（６）／中間焦点面（６２）］に放射線を伝送する際の費用対成果比が大幅に改善されるＥＵＶ線源モジュールを実現する新しい可能性を見出すことを課題とする。
【解決手段】プラズマ（３）が、集光光学系を不要として前記出口開口部（６）を直接くまなく照らすようになっている、プラズマ（３）の横方向寸法（ｄ）が前記出口開口部（６）の直径（Ｄ）よりも大きくなっている、またその際には前記直径の超過の度合いが、プラズマ（３）と前記出口開口部（６）間の距離（Ｌ）および後置されるリソグラフィ照射系の開口数（ＮＡ）に従属している体積エミッターとして構成される。 （もっと読む）

【課題】公知のガスラジカルの集積発生と、汚染された光学表面上でのその等方的な分散とを可能にするように、プラズマベースの放射線源においてデブリによって汚染された反射光学素子の光学表面の、その場での清浄化のための新規な可能性を見出す。
【解決手段】この課題は、ガスラジカルが光学表面全体に沿って２つの表面電極間の誘電体妨害放電によって生成されることで達成される。ガスラジカルは、少なくとも一つの表面電極の表面全体をカバーする少なくとも一つのバリア層上での電子移動によってほぼ例外なく発生させられ、Ｈｚ〜ｋＨｚ範囲の交流電圧が、バリア層で誘電分極を周期的に排除するために表面電極に印加されるので、コールドプラズマが連続的に発生させられ、堆積したデブリ粒子が光学表面上を案内されるガス流によってガス状反応生成物として除去される。 （もっと読む）

【課題】ガスカーテンを生成する装置の簡単な配置と構成並びに長い寿命が極端な熱負荷の際にも可能である、放射プラズマの直接的な近傍でガスカーテンを生成する新たな可能性を見い出す。
【解決手段】幅広で平らなガスカーテン（１８；１９）の生成用の超音波ノズル輪郭部（１１）を形成するスリットノズル（１）が複数の部分ボディ（１４、１５；２）から組み立てられていて、これらの部分ボディが、スリットノズル（１）のガス導入部分（１４）及びガス排出部分（１５）で熱的な且つ精密機械的な様々な要求を適えるために異なる材料から成ること。 （もっと読む）