【課題】液浸リソグラフィ装置の汚染を防止又は減少させる。
【解決手段】液浸リソグラフィ装置が、超純水及び（ａ）過酸化水素とオゾンの混合物、又は（ｂ）最高５％の濃度の過酸化水素、又は（ｃ）最高５０ｐｐｍの濃度のオゾン、又は（ｄ）最高１０ｐｐｍの濃度の酸素、又は（ｅ）（ａ）〜（ｄ）から選択された任意の組合せで基本的に構成された洗浄液を使用して洗浄される。 （もっと読む）

【課題】改良された放射源をもつリソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィシステムが、放射を発生するように構成された放射源であって、放射源は、カソードおよびアノードを含み、カソードおよびアノードは、放電空間内に配置された燃料内に放電を生成してプラズマを発生するように構成され、放電空間は、使用中、プラズマによる放射放出を調節してプラズマによって画定される容積を制御するように構成された物質を含む、放射源と、パターニングデバイスを保持するように構成されたパターンサポートであって、パターニングデバイスは、放射にパターン形成してパターン付き放射ビームを形成する、パターンサポートと、基板を支持するように構成された基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムとを含む。 （もっと読む）

【課題】 液浸液による汚染を防止するようになされた、液浸リソグラフィック装置の基板テーブルを提供する。
【解決手段】 基板テーブルＷＴは基板Ｗの外周縁を取り囲む排液溝すなわち障壁４０と、基板Ｗの上面と実質的に同じ平面に存在するセンサーのような別の対象２０を取り囲む障壁１００を備える。障壁４０、１００は基板Ｗを露光している間に液体供給システムからこぼれるすべての液体を収集することができるため、リソグラフィック投影装置の繊細なコンポーネントを汚染する危険が減少する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィ装置のスループットを向上し、リソグラフィ装置の所有コストを減らすこと。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、パターニングデバイスを保持するように構成されたパターンサポートであって、パターニングデバイスが放射ビームをパターニングし、パターン付き放射ビームを形成するように構成される、パターンサポートと、基板を保持するように構成された基板ホルダであって、基板ホルダは基板と接触する支持表面を含む、基板ホルダと、基板上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、洗浄ユニットを含む洗浄システムであって、洗浄ユニットは基板ホルダの支持表面上にラジカルを発生させ、そこから汚染を除去するように構成される、洗浄システムを含む。 （もっと読む）

【課題】基準構造が振動や他の機械的な妨害を受けることにより生じるグレーティングの振動、エンコーダ測定システムにおけるグレーティングの変位の不正確さ、これによるエンコーダからの読取誤差を防止する。
【解決手段】基準に対してエンコーダ測定システムの一部を形成するグレーティングＧＴの位置を測定し、エンコーダ測定システムはリソグラフィ装置の基板テーブルの位置を測定するように適合され、さらに基板テーブルに取り付けられているセンサＥＳを含む補助センサシステムＡＳＳにおいて、グレーティングを励振して、補助センサシステムの少なくとも１つの測定方向に移動させるステップと、移動の間に、センサシステムから補助センサシステムの出力信号を取得するステップと、移動の間に取得された出力信号に基づき補助センサシステムのパラメータを調整して、それによって補助センサシステムをキャリブレーションするステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】汚染及び／又はパターンの欠陥を軽減できる少量液体ディスペンサシステムを提供する。
【解決手段】少量レジストディスペンサは、スピンコータのノズルに、及びスピンコータへの液体供給を制御するために弁を開閉する制御装置出力部に接続可能な逆吸引可能圧力作動弁を含む。ディスペンサは、ガス圧を与えることによって瓶内の流体を加圧する瓶用のホルダを備える。ディスペンサは、例えば、１００ｍｌから３００ｍｌのレジストのレジストサンプルを含んだレジストサンプル事前充填瓶で使用するのに適切である。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ投影装置に使用するための代替の個別制御可能要素アレイを提供すること。
【解決手段】個別制御可能要素アレイは、それぞれが誘電体材料層のスタックから形成される要素から構成され、この誘電体材料層のうちの少なくとも１層は、この層とその隣接した層との境界の反射／透過特性を変更するために、所与の方向に面偏光された放射線の屈折率が、電圧を印加することによって変更される電子光学材料である。 （もっと読む）

【課題】基板の流れの中へのユーティリティ基板（キャリブレーション、メンテナンス等に使用する）の装填をスケジュールするリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィシステムは、リソグラフィ装置ＬＡおよび基板トラックＳＴを含む。基板トラックＳＴとリソグラフィ装置ＬＡを一つの装置に一体化してもよく、または一つのシステムとして組み合わされた二つの別個の装置であってもよい。リソグラフィ装置は基板ハンドラＳＨを含む。基板ハンドラＳＨは、基板トラックとリソグラフィ装置ＬＡとの間で基板を移動するように構成されている。基板ハンドラＳＨは、リソグラフィ装置ＬＡと基板トラックＳＴとの間で基板を移動するのに適切な基板ロボットまたはインタフェースユニットまたはその他のデバイスであってよい。 （もっと読む）

【課題】光エンジンによって生成されるパターン形成されたビームの基板上の位置を、基
板に対して相対的に調整する構成を提供すること。
【解決手段】この構成では、それぞれ基板の点にパターン形成されたビームの一部を結像
させる結像素子のアレイを、パターンを付与してパターン形成されたビームにする個々に
制御可能な素子のアレイに対して相対的に移動させる。 （もっと読む）

【課題】基板支持体又はパターニングデバイス支持体などの支持体を駆動する固定磁石モータを有するリソグラフィ装置に、例えば支持体と別の部品との衝突を防止する安全システムを提供する。
【解決手段】問題の支持体の位置を測定する測定システムを設ける。測定システムは、固定磁石モータの磁石アセンブリによって生成された交番磁界の磁界強度を測定する、及び／又は渦電流を引き起こす交番磁界を生成する電磁石のインダクタンス測定値で、磁石アセンブリを保護する金属層内の渦電流の生成を測定する、及び／又はエミッタによって放出された光面に配置されたＣＣＤメトリック又は直線光ダイオードなどの光学位置検知型センサを使用して光を測定する。 （もっと読む）