【課題】基準点に対する像内の構造の位置を決定する方法、更に、この方法を実施するための位置測定装置を提供する。
【解決手段】対称中心を有する構造の基準点に対する像内の位置を決定する方法を提供し、本方法は、構造を含み、かつ基準点を有する像を準備する段階と、基準点に対する像の少なくとも１つの対称操作を実施し、それによって構造に対して合同である鏡像反転構造を有する少なくとも１つの鏡像が得られる段階と、構造と１つの鏡像反転構造又は２つの鏡像反転構造との間の少なくとも１つの変位ベクトルを決定する段階と、構造の位置を少なくとも１つの変位ベクトルから基準点に対する構造の対称中心の位置として計算する段階とを含む。更に、基準点に対する像内の構造の位置を決定するための位置測定装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】マイクロリトグラフィー用マスクなどの対象物の検査装置。
【解決手段】対象物から放出される照明光をより長波長の光線へ変換するためのコンバータ、および画像記録のためのセンサが装備されていて、そのセンサが真空チェンバの外側にあって、真空チェンバからコンバータのセンサに到るまでの光学インタフェースとして配置されている、または結像対物レンズＯの少なくとも一部が窓として真空チェンバ内に配置されている、真空チェンバ内に存在する、特にマイクロリトグラフィー用マスクなど対象物ＯＦの検査装置。 （もっと読む）

マスク検査中に、ウェーハ露光中に同じく発生する欠陥を識別する必要がある。従って、レジスト内に生成される空間像と検出器上に生成される空間像とは、できる限り同じでなければならない。同等の像生成を提供するために、マスク検査中に照明及び物体側の開口数は、使用されるスキャナに適合される。本発明は、照明を可変的に設定するためのマスク検査顕微鏡に関する。マスク検査顕微鏡は、物体平面に配置されたレチクル（１４５）の構造（１５０）の像をマスク検査顕微鏡の視野平面に生成するように機能する。マスク検査顕微鏡は、投影光を放出する光源（５）と、少なくとも１つの照明ビーム経路（３，８７，８８）と、物体平面に対して光学的に共役な照明ビーム経路（３，８７，８８）の瞳平面（１３５）内に投影光の結果的強度分布を生成するための絞りとを含む。本発明により、絞りは、投影光の結果的強度分布が、最小強度値と最大強度値の間に少なくとも１つの更に別の強度値を有するような方法で具現化される。 （もっと読む）

【課題】マイクロリトグラフィーのための物体の検査を可能にし、短い全長を有する反射型顕微鏡を提供する。
【解決手段】物体平面内での物体を検査する反射型Ｘ線顕微鏡であって、物体は、波長＜１００ｎｍ、特に、＜３０ｎｍの光線で照明され、像平面に拡大して結像され、第１鏡と第２鏡とを含み、物体平面から像平面までの光路内に配置される第１副系とを備える。反射型Ｘ線顕微鏡が光路内で第１副系に後置されて少なくとも第３鏡を有する第２副系を含むことにより特徴付けられる。 （もっと読む）

本発明は、フォトリソグラフィのためのマスクを分析する方法に関する。本方法では、第１の焦点設定におけるマスクの空間像が生成され、空間像データ記録に格納される。空間像データ記録は、このデータ記録に基づいてフォトリソグラフィウェーハ露光を模擬するアルゴリズムに転送される。この場合、シミュレーションは、複数の互いに異なるエネルギ照射量に対して実施される。次に、ウェーハ面からの予め決められた高さにおいて、フォトレジストを持たない領域からフォトレジストを有する領域を分離するコンターが各場合に判断される。その結果、すなわち、コンターは、エネルギ照射量の各々に対して、各場合にエネルギ照射量をパラメータとして有するコンターデータ記録に格納される。最終的に、コンターデータ記録は組み合わされて、エネルギ照射量の逆数を第３の次元として有する３次元マルチコンターデータ記録が形成され、コンターにおけるゼロからゼロ以外の値への遷移に基づいて、マスク上の位置に依存するエネルギ照射量の逆数の３次元プロフィールが生成される。このプロフィール、いわゆる有効空間像は、出力され、格納され、又は自動的に評価される。上述のプロフィールを通る断面において同じことを行うことができる。 （もっと読む）