水性環境で化学物質を感知する技法、および水性環境で化学物質を感知するように構成されたシステムが、提供される。より詳細には、水性環境での芳香族化学物質の存在または不在を検出するための技法およびシステムが提供される。ある実施例は、光サーキュレータの第１のポートからの放射光を受光し、受光された放射光の少なくとも一部を反射させて反射光を生成し、かつ反射光を光サーキュレータの第２のポートから伝送することを含むことができる。反射光は、化学物質と第２のポートのフォトニックシリカのアレイとの相互作用によって少なくとも部分的に生成することができる。
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【課題】使用後に絶縁材からの配線の剥離が容易な配線基板及びその製造方法、並びに配線基板の分解方法を提供する。
【解決手段】本開示の配線基板１は、絶縁材１１と、絶縁材１１上に形成された配線１３と、絶縁材１１と配線１３との間に形成された金属炭酸塩又は金属炭酸水素塩を含む剥離層１２とを有する。金属炭酸塩は、例えば、炭酸マグネシウム、炭酸タリウム、炭酸銀、炭酸銅、炭酸鉛、炭酸亜鉛、炭酸鉄、又は炭酸コバルトである。金属炭酸水素塩は、例えば炭酸水素ナトリウム、又は炭酸水素カリウムである。 （もっと読む）

【課題】小型化を維持しつつ、放熱性を向上させることができる配線基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本実施形態の配線基板１は、金属コア基板１１と、金属コア基板１１の少なくとも一部を被覆するように形成され、相変化材料又は電気熱量効果を有する材料を含むバッファ層１２，１３と、金属コア基板１１及びバッファ層１２，１３を含む基体１０の表面又は内部に搭載された電子素子４０と、電子素子４０とバッファ層１２，１３との間に形成されたサーマルビア２３とを備える。 （もっと読む）

【課題】力をいれずに触れることでシャッターを切ることができ、被写体を撮影する際に手振れが生じることを防止することができると共に、意図せずにシャッターが切れてしまうことを防止することが可能な撮像装置及び撮像方法を提供する。
【解決手段】筐体１１と、筐体１１に内蔵されたシャッター１８と、筐体１１に内蔵されると共に、シャッター１８が開いた際にレンズを介して入射された光学画像を撮影する撮像部と、筐体１１に配設され、シャッター１８の開閉操作を行う操作部とを有し、操作部は、筐体１１をユーザが把持した際に、ユーザが接触可能な第１のタッチセンサ２０及びシャッターボタン（第２のタッチセンサ）１６を有し、第１のタッチセンサ２０が接触され、且つ当該接触から所定時間以内にシャッターボタン１６が接触された後、シャッター１８の開閉操作を行う撮像装置１である。 （もっと読む）

本開示は、一般に、ガス中に浮遊するナノ粒子のサイクロン分離またはろ過に関する。ガスは、混合する前に静電気電荷を受けた液滴のプルームと混合されて、液滴に対するナノ粒子の優先的付着を促進することができる。浮遊するナノ粒子および浮遊する液体粒子を有するガスは、高速に回転するサイクロン分離器を通して流れることができ、清浄化されたガスをフィルタから流出させ、一方、付着されたナノ粒子を有する液体は、排出され、収集され、かつ／またはプルーム発生器において再使用されることができる。ナノ粒子を大きな液体粒子に付着させることによって、フィルタは、現行のシステムが大気圧下でろ過するのに比べて小さな粒子のろ過および収集を可能にすることができる。
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【課題】パターンを基板のレジスト層上へとインプリントし、基板からすべての残膜層を除去すること。
【解決手段】モールディングシステムは、土台および土台から延びている少なくとも１つの突起物を有するモールドを含む。突起物は、先端面を有する。システムは、また、先端面上の第１の光触媒層も含む。第１の光触媒層は、第１の放射線による第１の光触媒層の活性化に応じて、基板上の残膜層を少なくとも部分的に破壊するように構成される。 （もっと読む）

キャッシュに記憶されたデータブロックを送るためのシステムに関する技術が一般に記載されている。本明細書中に記載される幾つかの実施例では、システムが第１のタイルの第１のプロセッサを備えてもよい。第１のプロセッサは、データブロックの要求を発生させるのに有効であり、前記要求がデータブロックのための宛先タイルを識別する宛先識別子を含み、宛先タイルが第１のタイルと異なる。幾つかの実施例のシステムは、要求を受けるのに有効な第２のタイルを更に備えてもよく、第２のタイルは、データブロックを含むデータタイルを決定するのに有効であるとともに、要求をデータタイルへ送るのに有効である。幾つかの実施例のシステムは、第２のタイルから要求を受けるのに有効なデータタイルを更に備えてもよく、データタイルはデータブロックを宛先タイルへ送るのに有効である。
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本明細書では、プロセッサリソースを共用するように適合されたマルチコアプロセッサに関連した技術が説明される。一例示的マルチコアプロセッサは複数のプロセッサコアを含むことができる。マルチコアプロセッサはさらに、複数のプロセッサコアのうちの２つ以上に選択的に結合される共用レジスタファイルを含むことができ、共用レジスタファイルは、選択されるプロセッサコア間で共用リソースとして働くように適合される。 （もっと読む）

コーティング組成物は、ベースコーティング樹脂と；上層コーティング樹脂とを含み、このベースコーティング樹脂は、微小圧痕と平面領域とを含み、下記の式、即ち：Ｐ×Ｔ_Ｂ＞Ａ×Ｔ_Ｏがこのコーティング組成物について満され、式中、Ａは、微小圧痕の面積であり、Ｐは、平面領域の面積であり、Ｔ_Ｂは、ベースコーティング樹脂の引張り強さであり；Ｔ_Ｏは、上層コーティング樹脂の引張り強さである。ある場合には、Ｔ_ＢがＴ_Ｏよりも大きい。コーティング組成物を調製するための方法は、基材にベースコーティング樹脂を付着させ、ベースコーティング樹脂の上面に微小圧痕を施して、微小圧痕と、微小圧痕が施されていない平面領域とを含む、ベースコーティングの微小圧痕付き上面を設けること、ベースコーティングの微小圧痕付き上面に上層コーティング樹脂を付着させることを含む。
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簡単にいうと、ドメインベースのキャッシュ・コヒーレンス・プロトコルを用いてキャッシュ内のデータブロックにアクセスするための技術が概説される。第１のタイル、第１のドメインの第１のプロセッサはデータブロックにアクセスするよう求める要求を評価するように構成することができる。第１のドメインの第２のタイルのキャッシュは、データブロックが第２のタイルにキャッシュされているときに、第１のタイルにデータブロックを送るように構成することができる。第１のプロセッサは、キャッシュされた位置が第１のプロセッサのドメインの外部にあるときに、別のドメインの第３のタイルに要求を送るように構成することができる。第３のプロセッサは、データブロックのキャッシュされた位置と関連付けられたデータドメインを判定し、そこに要求を送るように構成することができる。第４のタイルは、要求を受け取り、第１のタイルにデータブロックを送るように構成することができる。
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