【課題】スパッタリングにより成膜される無機質膜の緻密性を向上させることができるスパッタリング成膜装置を提供する。
【解決手段】軸心方向２ａに回転する筒状をなし外面に複数の基板４を周方向に離間して保持する基板ホルダー２と、基板に対向して配置されるターゲット材６を保持するターゲットホルダー８と、基板表面に対するターゲット材表面の角度を変化させるためにターゲットホルダーの取付角度を変えるターゲットホルダー取付角度可変機構１２とを有する。 （もっと読む）

【課題】真空装置に設置されて有機膜を紫外線硬化させるための紫外線照射窓の汚染を簡単かつ確実に洗浄できる装置及び方法を提供する。
【解決手段】真空又は減圧下で有機膜を紫外線硬化するための紫外線照射窓８ａの洗浄装置であって、紫外線照射窓の周縁の上側に配置される管状の吹付け部材３０と、吹付け部材に開口して紫外線照射窓の表面に酸素含有ガス又はオゾン含有ガスを吹付ける吹出し口３２とを有し、前記吹出し口は前記吹付け部材から前記紫外線照射窓の表面に向かって前記ガスが集中するように位置する。 （もっと読む）

【課題】装置固有の特性に起因する誤差を相殺して位置合わせ精度の向上を図ることができる極めて実用性に秀れたアライメント方法及びアライメント装置並びに有機ＥＬ素子形成装置の提供。
【解決手段】基板１とマスク３とのアライメント方法であって、位置合わせ工程における第一回目の算出移動量に応じた座標と、この第一回目の算出移動量に基づき実際に前記移動手段により移動させた前記基板１若しくは前記マスク３の第一回目の実移動後の座標との差を算出すると共に、この算出移動量に応じた座標と実移動後の座標との差を相殺する補正値を算出して、この補正値を用いて前記位置合わせ工程における第一回目の算出移動量を補正する。 （もっと読む）

【課題】モノマ蒸気による装置内の汚染を可及的に阻止してメンテナンス性の向上を図ることができる極めて実用性に秀れた封止膜形成装置及び封止膜形成方法を提供する。
【解決手段】搬入された基板上にポリマ膜とバリア膜とから成る封止膜を形成して搬出する封止膜形成装置であって、ロードロック機構を有するロードロック室Ａ，バリア膜形成機構を有するバリア膜形成室Ｂ，モノマ重合機構を有するモノマ重合室Ｃ，モノマ蒸着機構を有するモノマ蒸着室Ｄの順に、夫々開閉部Ｅを介して前後に直列状に連結して成り、前記ロードロック室Ａから搬入され各室において所定の順序で処理が施されて前記封止膜が形成された基板を前記ロードロック室Ａから搬出し得るように構成したもの。 （もっと読む）

【課題】簡易構造にして極めて効率良く且つ均一に基板を加熱することが可能な極めて実用性に秀れた基板加熱装置及び基板加熱方法を提供する。
【解決手段】基板１を収納して加熱する基板加熱装置であって、一側が開口した箱状の第一熱反射板４に前記基板１を一面側から加熱する第一加熱部２を設けて成る第一加熱機構６と、一側が開口した箱状の第二熱反射板５に前記基板１を他面側から加熱する第二加熱部３を設けて成る第二加熱機構７とを開口部８・９同士を向かい合わせに対向配置して成り、前記第一熱反射板４の前記開口部８を形成する側周壁部15の少なくとも一部が、全周において前記第二熱反射板５の開口部９に入り込み状態となるように前記第一熱反射板４及び前記第二熱反射板５の開口形状を設定する。 （もっと読む）

【課題】発光特性の劣化が少ない有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】透明基板２上に形成される透明電極４と、透明電極上に形成され画素領域を規定する開口６ａを有する無機層６と、開口及び該開口周縁部６ｂにおける無機層上面に形成される有機発光層８と、有機発光層の上面及び側面を覆い透明電極の対極となる上部電極１０と、上部電極の上面及び側面を覆う保護層１２とを有する。 （もっと読む）

【課題】複数のマスクを用いて大型基板の表面を覆う際にフレームレス構造を実現可能とする極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子形成用のマスク等を提供する。
【解決手段】表面にメッキ法により金属層３が設けられた有機ＥＬ素子形成用マスクであって、金属層３を設けたマスク表面の一部にこの金属層３を有しない画定された領域４と、この領域４内に金属層３で形成するマスク側アライメントマーク５とを設けて、このマスク側アライメントマーク５と、前記基板１に設けた基板側アライメントマーク６とを用いてアライメント調整を行えるように構成したもの。 （もっと読む）

【課題】マスクの位置決めに用いるアライメントマークを黒い画像として確実に認識できる薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】マスク１０を貫通する位置決め穴１２からの反射光に基づいてマスクを基板２０に対し相対的に位置決めし、基板表面に所定パターンの薄膜を形成する薄膜形成方法であって、マスクはマスクホルダー３０上に保持され、マスクホルダーには円錐状のマスクホルダー穴３２が形成され、位置決め穴１２の中心軸ＡＸ１はマスクホルダー穴３２の中心軸ＡＸ２から偏倚している。 （もっと読む）

【課題】 スパッタで生じたプラズマ中の荷電粒子による基板及び基板上に成膜された皮膜の損傷を抑制できる対向ターゲット式スパッタリング装置を提供する。
【解決手段】 互いに対向するスパッタ面を有する一対の主ターゲット２ａ、２ｂと、主ターゲットの近傍位置にそれぞれ配置されて互いに異なる極性を有しスパッタ面に垂直な磁界を発生する磁界発生源４ａ、６ａ、４ｂ、６ｂと、主ターゲット間の空間２０の一側面に配置された補助ターゲット２ｃと、空間２０の他の側面に配置される基板１２を保持する基板ホルダー１０と、主ターゲットに対して補助ターゲットの電位が反対になるように各ターゲット間に電圧を印加する電源１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】 基板のカケやワレを大幅に低減し、又、位置決め精度を向上させることができる位置決めトレイを提供する。
【解決手段】 位置決めされる基板１０を載置するトレイ本体２０と、トレイ本体上に配置されて基板の外周に接触し該基板を位置決めする位置決め部材３０と、位置決め部材に対し接近離反可能であり、位置決め部材の内側に載置された基板を位置決め部材に当接させて位置決めする可動部材５０と、可動部材を移動させる駆動部材８０とを備え、位置決め部材は、トレイ本体の平面に垂直な軸を有する円筒又は円柱であり、円筒又は円柱が２辺の各辺当り２個以上設置され、かつ可動部材は駆動部材に対して自己揺動可能に取付けられている。 （もっと読む）