【課題】簡易な操作で任意の組成比の薄膜を基板上に成膜可能な極めて実用性に秀れた蒸着装置及び多元系蒸発源の蒸着方法を提供する。
【解決手段】複数の蒸発源１に充填した成膜材料２を夫々加熱して蒸発させ、各蒸発源１からの前記成膜材料２の蒸発物を基板３上に付着させる際、前記蒸発源１と前記基板３との間に開閉可能に設けられるシャッタ部４を開閉することで、前記蒸発源１からの蒸発物による前記基板３上への成膜領域を制御し得る蒸着装置であって、前記シャッタ部４と前記基板３との間に、開状態とした前記シャッタ部４を通過する前記蒸発源１からの蒸発物が付着する前記基板３上の領域を任意に可変可能とするスリット部５を形成するスリット機構を設けたものである。 （もっと読む）

【課題】有機化合物層や透明電極層にダメージを与えることなく、微細な電極パターンを形成可能な極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子の電極パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】基板１上に陽極２，有機化合物層３，金属電極層４を順次積層して成る有機ＥＬ素子の配線パターン化に際してレーザーアブレーション現象を利用する配線パターンの形成方法において、真空中若しくは不活性ガス雰囲気中にて、波長が近赤外領域で、パルス幅が１０ｆｓ〜１０ｐｓ、レーザーフルーエンスが０．１〜０．３Ｊ／ｃｍ^２のレーザー６を前記金属電極層４表面にパルス発振により照射する際、その照射位置の膜厚分の金属電極層４のみをエッチングするために必要な積算照射時間をパルス周波数に応じて制御し、当該金属電極層４のみを選択的にエッチングするものである。 （もっと読む）

【課題】 成膜対象に影響を与えずに蒸着を行うことができ、かつ成膜効率及び成膜分布の均一性に優れた電子ビーム真空蒸着方法およびその装置を提供する。
【解決手段】 開口を有する容器に収容された蒸発物質を成膜対象に成膜する真空蒸着法であって、容器の開口が成膜対象と対向しない第１の位置で電子ビームを蒸発物質に照射して該蒸発物質を加熱する加熱工程と、成膜対象と対向する第２の位置に容器を移動させ、余熱により該開口から蒸発物質を放出させて成膜対象に成膜する成膜工程と、容器を第２の位置から第１の位置に戻す位置戻し工程とをこの順序で繰り返す。 （もっと読む）

【課題】極めて封止性に秀れた信頼性の高い有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板11上に陽極，有機化合物層，陰極を順次積層して形成される発光部12上にこの発光部12を封止する第一封止膜13を成膜し、前記陽極若しくは前記陰極の端子部14上に積層された第一封止膜13の一部にレーザー光を照射して、この端子部14上の第一封止膜13を除去することで第一給電用開口部15を形成した後、前記第一封止膜13上に、前記発光部12を封止すると共に前記第一給電用開口部15をも隠蔽する第二封止膜16を成膜し、この第二封止膜16にレーザー光を照射して、前記第一給電用開口部15内に前記端子部14を露出せしめる第二給電用開口部17を形成するものである。 （もっと読む）

【課題】 加熱により気化した有機材料を排気する場合に、長時間安定的に稼動することができる真空排気システムを提供する。
【解決手段】 この真空排気システムＡは、真空チャンバ３０において有機材料を気化する温度以上に加熱し、発生する蒸気を排気するものである。真空チャンバ３０には、有機材料が気相になる温度以上の温度を達成するヒータ１５，１７を備えたターボ分子ポンプ３４が接続され、ターボ分子ポンプ３４には、有機材料が気相になる温度以上の温度に保温されている排気配管３２が接続されている。排気配管３２にはコールドトラップ３６が接続され、コールドトラップ３６には粗引用真空ポンプが接続されている。また、ターボ分子ポンプ３４の吸気側に不活性ガスを導入する付着防止機構４０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬディスプレイのダウンサイズ化を図れると共に高信頼性を確保でき、しかも装置の稼働率の向上を図れ、ランニングコストも削減でき、更に、このレーザー加工法により形成された給電用開口部の封止も確実に行える極めて実用性に秀れた有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供することである。
【解決手段】 基板11上に陽極，有機発光層，陰極を順次積層して形成される発光部12上に、この発光部12を封止する第一封止膜13を形成し、前記陽極及び陰極の端子部14上に積層された前記第一封止膜13の一部にレーザー光を照射することで、この端子部14上の第一封止膜13を除去して給電用開口部15を形成し、この給電用開口部15から露出する端子部14に前記発光部駆動用の駆動回路16の端子17を接続して駆動回路16を実装した後、この給電用開口部15及び前記第一封止膜13を完全に隠蔽するように基板11上に第二封止膜18を形成するものである。 （もっと読む）

【課題】 蒸着源に収容された有機材料の熱劣化を防ぐことができ、生産性が向上すると共に、蒸着レートを長時間安定して制御することができる有機材料の真空蒸着方法およびその装置を提供する。
【解決手段】 有機材料２を収容し一方が開口する容器１を備えた蒸着源２０からの蒸発物質５を対向する基板７に成膜する真空蒸着法であって、蒸着源は、容器に固定せずに容器の開口を閉塞するとともに容器中の有機材料の表面に接触する加熱体３を有し、加熱体のみを加熱して有機材料を蒸発させ、加熱体に形成された少なくとも１つの孔６又は少なくとも１つのスリットから蒸発物質を放出させる。 （もっと読む）

【課題】 欠陥のない良好な封止膜を形成できる極めて実用性に秀れた画期的な有機膜形成用マスク，封止膜形成装置並びに封止膜の形成方法を提供することである。
【解決手段】 有機材料を入射して有機膜３を基板２上の有機ＥＬ素子１に被覆する際の前記開口部７の開口形状を、前記基板２に重合する側となるマスク裏面側端開口部７Ａの開口径とマスク表面側端開口部７Ｂの開口径とを同一開口径とせず、前記マスク裏面側端開口部７Ａの開口径が前記マスク表面側端開口部７Ｂの開口径より大きくなる開口形状に形成し、このマスク裏面側端開口部７Ａの前記有機ＥＬ素子１からの離反度を、このマスク裏面側端開口部７Ａと前記基板２上の有機ＥＬ素子１に被覆する前記有機膜３とが接触しない離反度に設定したものである。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ素子を大気中の水分や酸素から良好に遮断できる秀れた封止性能を有する封止膜を形成できる極めて実用性に秀れた封止膜形成装置を提供することである。
【解決手段】 有機ＥＬ素子11が形成された基板１上に、封止膜12を形成する封止膜形成装置であって、前記基板１裏面側にはこの基板１裏面を略覆うことができる大きさにて磁力発生装置を配置し、また、前記有機ＥＬ素子11が形成された基板１表面側にはマスクを配置して、前記磁力発生装置により前記マスクを前記基板１表面に密着させた状態で、前記基板１上にポリマ膜13を形成するポリマ膜形成機構２と、この有機ＥＬ素子11及びポリマ膜13が形成された基板１上に、バリア膜14を形成するバリア膜形成機構３とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 基板表面に柔らかい材料や硬度の低い材料から成るパターン形状や薄膜が形成されていても良好なポリシングが可能な極めて実用性に秀れたポリシング装置を提供することである。
【解決手段】 基板１表面をポリシングするポリシング装置であって、砥粒31が一体化された柔軟性を有する毛状体32がベース面33に多数形成されたポリシング材が設けられるポリシングヘッドＰを備え、このポリシングヘッドＰに設けられるポリシング材を基板１表面に接触させた状態でポリシング材若しくは基板１を揺動せしめることで前記砥粒31が一体化された毛状体32により基板１表面を削り得るように構成し、前記ポリシング材を凹凸部を有する前記基板１表面に接触させた際、この凹凸部の凸部頂面だけでなく凹部底面をもポリシングし得るように、前記毛状体32の長さ及び柔軟性を設定したものである。 （もっと読む）