【課題】 新規の接続端子構造により、レーザー加工のプロセスマージンを広げ、更なる製造歩留まりの向上を可能にする極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子の製造装置並びに有機ＥＬ素子を提供することである。
【解決手段】 基板11上に陽極，有機発光層，陰極を順次積層して形成される発光部12上に、この発光部12を封止する封止膜13を形成して成る有機ＥＬ素子の製造装置であって、前記封止膜13を基板11の略全面に積層成膜する封止膜形成機構と、少なくとも金属膜14ａと、この金属膜14ａ上に積層されるレーザー反射膜14ｂとから成る陽極若しくは陰極の端子部14上に積層された前記封止膜13の一部若しくは全部にレーザー光を照射して、この端子部14上の封止膜13を除去することで、前記端子部14を露出せしめる給電用開口部15を形成する封止膜除去機構とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 ＯＬＥＤ表示パネルのダウンサイズ化を図れると共に高信頼性を確保でき、しかも装置の稼働率の向上を図れ、ランニングコストも削減できる極めて生産性・コスト性に秀れた有機ＥＬ素子の製造装置を提供ことである。
【解決手段】 基板11上に陽極12ａと、少なくとも一層以上の有機材料層を積層して成る有機発光層12ｂと、陰極12ｃとを順次積層して形成される発光部12上に、この発光部12を封止する封止膜13を形成して成る有機ＥＬ素子の製造装置であって、前記封止膜13を基板11の略全面に積層成膜する封止膜形成機構と、基板11上に積層された封止膜13若しくは有機材料層の一部にイオンビームを照射して、この基板11上の封止膜13若しくは有機材料層の一部を除去する薄膜除去機構とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 極めて効率良く封止材と基板との接着面をクリーニングして濡れ性を改善できる極めて生産性に秀れた有機ＥＬ素子の製造装置を提供することである。
【解決手段】 基板１上に陽極２，有機発光層３，陰極４を順次積層して形成される発光部５上に、この発光部５を封止する封止材６を設けて成る有機ＥＬ素子の製造装置であって、前記封止材６の前記基板１との接着面６ａ若しくは基板１の前記封止材６との接着面１ａの少なくともいずれか一方に、プラズマを照射してエッチングすることでこの接着面１ａ・６ａをクリーニングするプラズマクリーニング機構を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 マスクや真空槽内部に付着した有機物や無機物を、真空槽を開放することなくイオンビームを照射することにより容易に除去できる極めて生産性に秀れた成膜装置を提供することである。
【解決手段】 マスク１が積層される基板２と、この基板２上に前記マスク１を介して成膜材料を付着させることで所望のパターンの薄膜を成膜する材料蒸発源３とが設けられる真空槽４を有する成膜装置であって、前記基板２に積層されるマスク１若しくは真空槽４内部にイオンビームを照射することで、このマスク１若しくは真空槽４内部に付着した有機物若しくは無機物を除去するイオンビーム源５を備え、前記真空槽４を大気開放することなくマスク１若しくは真空槽４内部にイオンビームを照射し得るように構成したものである。 （もっと読む）

【課題】 メンテナンス周期を長期化し、高品質の薄膜の成膜が可能となる蒸着装置における蒸発源用のシャッタ及びその蒸着装置を提供。
【解決手段】 蒸発源１に充填した成膜材料２を加熱して蒸発させ、基板３上に付着させることでこの基板３上に薄膜を成膜する蒸着装置における前記蒸発源１から蒸発する成膜材料２の前記基板３側への移動を阻止し得る蒸発源用のシャッタにおいて、前記成膜材料２の蒸発源１から基板３への経路を閉塞する閉塞部４を、回動軸の回動方向に間隔をおいて複数並設し、この閉塞部４間を前記経路を開放する開放部７としたシャッタ部５を前記回動軸に設け、このシャッタ部５は、前記回動軸を回動して、前記シャッタ部５の一の閉塞部４により前記経路を閉塞して基板３への成膜材料２の付着を阻止する状態と、前記閉塞部４間の開放部７により前記経路を開放して基板３への成膜材料２の付着を許容する状態とに回動切り替え自在に設ける。 （もっと読む）

【課題】 ＯＬＥＤ表示パネルのダウンサイズ化を図れると共に高信頼性を確保でき、しかも装置の稼働率の向上を図れ、ランニングコストも削減できる極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子の製造装置並びに有機ＥＬ素子を提供することである。
【解決手段】 基板11上に陽極，有機発光層，陰極を順次積層して形成される発光部12上に、この発光部12を封止する封止膜13を形成して成る有機ＥＬ素子の製造装置であって、前記封止膜13を基板11の略全面に積層成膜する封止膜形成機構と、陽極若しくは陰極の端子部14上に積層された複数の有機膜から成るまたは一若しくは複数の有機膜と無機膜とを積層して成る封止膜13の一部若しくは全部にレーザー光を照射して、この端子部14上の封止膜13を除去することで、前記端子部14を露出せしめる給電用開口部15を形成する封止膜除去機構とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 アライメント精度の向上が可能で高精度な成膜を行える、簡略化・コンパクト化を図ったプラズマＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】 真空槽１に設けられる一対の平行平板電極２・３の一方の電極２側に、マスク４が重合される基板５を設け、この平行平板電極２・３に電圧を印加してこの平行平板電極２・３間の空間部６に導入される成膜材料ガスをプラズマ化させることで前記基板５上に薄膜を成膜するプラズマＣＶＤ装置において、前記真空槽１に、前記マスク４と基板５との位置合わせを行うアライメント機構７と、前記空間部６でプラズマ化した成膜材料ガスのこの空間部６からの漏出を阻止するプラズマ漏出阻止機構８とを設ける。この阻止機構８は、空間部６を前記成膜材料ガスがプラズマ化しない絶縁領域で囲う構成とし、この空間部６と連通する絶縁領域形成体９の対向空間10を介してプラズマでない成膜材料ガスを空間部６から排出するように構成する。 （もっと読む）