【課題】環境負荷のない水素を用いて、太陽電池用のシリコン系基板表面にテクスチャーを広い面積に形成できるシリコン系基板表面粗面化処理方法およびその装置を提供する。
【解決手段】粗面化処理装置１０を用い、シリコン系基板Ｗを処理室１に載置する基板供給工程と、処理室１を真空ポンプ１６により減圧する減圧工程と、減圧した状態を保持しながら処理室１にプラズマ化工程を行って生成した水素活性種Ｈ^*をプラズマ発生室２から供給してこの水素活性種Ｈ^*でシリコン系基板Ｗをエッチングするプラズマ供給工程と、を行って、シリコン系基板Ｗの表面に凹凸構造を形成する。前記プラズマ化工程は、マスフローコントローラ２１により水素Ｈ₂をプラズマ発生室２に供給しながら、プラズマ源３によりプラズマ発生室２に高周波電力を印加することで水素Ｈ₂をプラズマ化する。 （もっと読む）

【課題】比較的低電力においてもクリーニング速度を損なわずに堆積チャンバをクリーニングできる、堆積チャンバのリモートクリーニング方法を提供すること。
【解決手段】ＣＶＤチャンバ１０をリモートプラズマ源３０を用いてクリーニングする方法は、リモートプラズマ源３０のプラズマ発生室３１を、プラズマがＣＶＤチャンバ１０内の構成備品や基板に有害な影響を与えない位置に離して配設されたシステムにおいて、クリーニング用ガスとして９０％以上の濃度のフッ素化合物ガスを１００Ｐａ以下の圧力でプラズマ発生室３１に供給するステップと、リモートプラズマ源３０にて高周波電力を供給しプラズマ発生室３１にプラズマを発生させて１００Ｐａ以下の圧力下でフッ素化合物ガスからフッ素活性種を生成するステップと、リモートプラズマ源３０にて生成したフッ素活性種をＣＶＤチャンバ１０内に導入して内部をクリーニングするステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】排ガスを除害するための、生成物の処理が容易な三フッ化窒素の分解処理方法および分解処理装置を提供する。
【解決手段】ＮＦ₃を含む排ガスを排出するＣＶＤ装置等の排気系に接続されて前記ＮＦ₃を分解する分解処理装置２０であって、反応室２２と、水素原子を含有する気体分子を含む反応ガスを供給されて下流側で反応室２２の側部に接続するプラズマ発生室２５と、プラズマ発生室２５において前記気体分子をプラズマ化するプラズマ源２７と、を備えることを特徴とする。プラズマ発生室２５において、気体分子はプラズマ化して、含有される水素原子を解離して水素活性種Ｈ^*とし、反応室２２において、前記ＣＶＤ装置から供給されたＮＦ₃は、プラズマ発生室２５から流入した前記水素活性種Ｈ^*と（ＮＦ₃＋６Ｈ^*→ＮＨ₃＋３ＨＦ）のように反応して、ＮＨ₃とＨＦとに分解される。 （もっと読む）

【課題】内部でプラズマが発生する反応室の劣化し易い部分を保護し、かつ、メンテナンスを効率よく行うことができる技術を提供する。
【解決手段】プラズマ生成装置は、原料の流入口および反応生成物の流出口を有した反応室内の周囲に併設された高周波コイル４に電流を流すことで反応室内に誘導結合プラズマを生成するものであって、反応室が、外側に配される主チャンバ１１と、主チャンバ１１の内側に配されると共に主チャンバ１１から取り外し可能な副チャンバ１２とを備えた二重構造チャンバ５Ａであり、二重構造チャンバ５Ａの流出口の配管４０側において、高周波コイル４の巻線に対応した位置にファラデーシールドとして接地電極１３を有する。 （もっと読む）

【課題】汚染や紫外線の影響を極力低減させた、低温プラズマを用いた水素ラジカル発生装置を提供する。
【解決手段】低温プラズマを用いて水素ラジカルＲを生成し、この水素ラジカルを被処理物Ｍに照射するダウンフロー型の水素ラジカル発生装置２０において、低温プラズマを生成するプラズマ生成室２１と、被処理物Ｍとプラズマ生成室２１との間に設けられた少なくとも一つの紫外線遮蔽板１とを備え、紫外線遮蔽板１には、プラズマに含まれる紫外線ＵＶは直接照射されるとともに、プラズマに含まれる水素ラジカルＲは通過して前記プラズマ生成室２１から被処理物Ｍに供給される流路が設けられる。 （もっと読む）

【課題】内部でプラズマが発生する反応管の開口近傍の内壁を保護し、メンテナンスを容易に行うことができる技術を提供する。
【解決手段】センターリング１は、真空を保持して２つの配管の中心軸を位置合わせして接続するために、Ｏリング装着用溝５を外周面に有した第１円環部２と、第１円環部２の円環の中心軸方向両側にそれぞれ隣接した２つの第２円環部３とを有し、第１円環部２に隣接する一方の第２円環部３ｂは、外径が他方の第２円環部３ａと等しく、かつ、内径が他方の第２円環部３ａより小さく形成されると共に、内周面の全周縁に、円環の中心軸に平行な方向に突起部４を備える。 （もっと読む）

【課題】 真空容器でのプラズマの生成に供する電極の信頼性を確保すると共に、地球温暖化係数の高いガスの排出を確実に防止すること。
【解決手段】 真空容器１１内で基板１２に成膜等を行う真空処理装置（プラズマＣＶＤ装置）１０のクリーニング方法において、非反応性ガス（不活性ガス）を真空容器１１とは別に設けられたガス分解装置２４に導入して非反応性ガスによるプラズマを生成する工程と、前記非反応性ガスによるプラズマが生成されたガス分解装置２４内に反応性ガス（三フッ化窒素ＮＦ_３）を導入し解離し活性種（原子状フッ素Ｆ）を生成する工程とを有し、前記活性種（原子状フッ素Ｆ）を真空容器１１に導入してクリーニングを行う。 （もっと読む）