【課題】良質のプラズマを供給すること。
【解決手段】プラズマ発生空間２２がプラズマ処理空間１３に隣接し且つ連通しているプラズマ処理装置において、プラズマ発生空間２２が分散等して形成され、且つプラズマ発生空間２２内に電子を封じる磁気回路２５が付設される。プラズマ成分比率の制御性がよい。プラズマ分布の均一性確保とプラズマ処理空間からプラズマ発生空間へのガス流入阻止の両立が図れる。さらに、プラズマ処理空間１３を可動壁体４０で囲んで、圧力制御性も高める。 （もっと読む）

【課題】良質のプラズマを均一に供給する。
【解決手段】プラズマ発生空間２２がプラズマ処理空間１３に隣接し且つ連通しているプラズマ発生装置において、プラズマ発生空間２２が線状に形成されており、且つ、プラズマ発生空間２２とプラズマ処理空間１３との連通路１４を延伸させる連通路延伸部材１１０がプラズマ処理空間１３側に付加され、連通路延伸部材が場所によって異なる厚さに調整されている。高密度プラズマ２０が低温プラズマ１０へ送り込まれる量が連通路延長部１１４の長さに応じて調節される。 （もっと読む）

【課題】回転伝動軸数の多数化に際し、変形が少なく而も保守作業等も容易で且つ電動モータの給電線とチャンバ蓋との相互影響が無いようにする。
【解決手段】真空チャンバ１０の底１１に立設されその上蓋１２に至る筒状体３３０＋５３０と、この筒状体の側壁３３０，５３０を内外から挟んで磁気結合する回転体の複数対３１＋３５，３６＋３９，５１＋５５，５６＋５９とを具備した真空チャンバ用回転伝動機構において、筒状体の上端部位を真空チャンバの上蓋１２に密着させる取着手段１２０を備え、筒状体３３０＋５３０は、複数の短い筒状体３３０，５３０が上下に連結されたものであって、回転体５５，５９を駆動する電動モータ５５ａ，５９ａへの給電線５１１，５６１が筒状体３３０＋５３０を介して真空チャンバ１０の下方へ引き出される。 （もっと読む）

【課題】 真空容器でのプラズマの生成に供する電極の信頼性を確保すると共に、地球温暖化係数の高いガスの排出を確実に防止すること。
【解決手段】 真空容器１１内で基板１２に成膜等を行う真空処理装置（プラズマＣＶＤ装置）１０のクリーニング方法において、非反応性ガス（不活性ガス）を真空容器１１とは別に設けられたガス分解装置２４に導入して非反応性ガスによるプラズマを生成する工程と、前記非反応性ガスによるプラズマが生成されたガス分解装置２４内に反応性ガス（三フッ化窒素ＮＦ_３）を導入し解離し活性種（原子状フッ素Ｆ）を生成する工程とを有し、前記活性種（原子状フッ素Ｆ）を真空容器１１に導入してクリーニングを行う。 （もっと読む）

【課題】良質のプラズマを供給。
【解決手段】プラズマ発生空間２２がプラズマ処理空間１３に隣接し且つ連通しているプラズマ発生装置において、プラズマ発生空間２２が分散等して形成され、且つ交番電界・磁界をプラズマ処理空間１３に印加する第１印加回路３１、及びこの回路３１から独立して交番電界・磁界をプラズマ発生空間２２に印加する第２印加回路３２が設けられ、この第２印加回路３２は出力が所定周期で強弱Ｐｃ，Ｐｄ変化するとともにその強弱の時間割合Ｐｄ：Ｐｅが可変制御Ｐａしうる。プラズマ分布の均一性確保とプラズマ処理空間からプラズマ発生空間へのガス流入阻止の両立が図れるうえ、プラズマ成分比率の制御性がよいことに加えて、イオン種の直進速度も独立に制御可能となる。 （もっと読む）