【課題】ホルダ内に低コストで正確に装着することを可能にするマイクロ構成要素ホルダおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロ構成要素ホルダ１００は、マイクロスケールの構成要素をその中に受けるための少なくとも１つの開口部１０２を含む。少なくとも１つのループ形状の支持部材１０４が、マイクロ構成要素ホルダ１００内にマイクロスケールの構成要素を保持するためにマイクロスケールの構成要素に接触するために開口部のまわりに配置される。支持部材１０４は弾性的に変形してスプリングのように機能しても良く、これによりマイクロスケール物体、たとえば、レンズ、または、他のマイクロ光学、マイクロ機械、マイクロ電気機械および他のマイクロスケールシステムの部品を確実に保持することを可能にする。 （もっと読む）

第１領域内に第１光モードと、第２領域内に第２光モードとをサポートるシングル・モード導波路（７００）を有する光通信デバイスを開示する。この導波路は、ガイド・レイヤー（７３０）を有し、このレイヤーは、該レイヤー（７３０）から外側に延びる、少なくとも一つのウィング（７５０）を有する。このガイド・レイヤー（７０３）は、該ウィングで断面形状で横切ったリブ導波路（７０６，７０７）を所望で有してもよい。ウィング（７５０）は、ガイド・レイヤーの長さに沿って幅が減少し、該ウィングにおけるリブ導波路モードをチャネル導波路モードに変換する。
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【課題】光学デバイスを形成する方法を提供する。
【解決手段】光学デバイスを形成する方法は：（ａ）第一基体上に、キャリア基体およびキャリア基体上の第一ポリマー層を含む乾燥フィルムを適用し；（ｂ）第一基体上に液状組成物をコーティングすることを含む方法により第一基体上に第二ポリマー層を形成し；（ｃ）第一ポリマー層および／または第二ポリマー層をパターン化することを含む。光学機能を有するプリント配線板を形成する方法も提供される。本発明はオプトエレクトロニクス産業において特に適用可能であることが見出される。 （もっと読む）

【課題】光学部品の形成における使用に好適な乾燥フィルムを提供する。
【解決手段】乾燥フィルムは、前面および裏面を有するキャリア基体を含む。ネガ型フォトイメージ可能なポリマー層は、キャリア基体の前面上に配置され、光活性成分および式（ＲＳｉＯ_１．５）（式中、Ｒは置換または非置換有機基である）の単位を含む。各単位において、Ｒはヒドロキシ基を含まない。単位は、式（Ｒ^１ＳｉＯ_１．５）および（Ｒ^２ＳｉＯ_１．５）（式中、Ｒ^１は置換または非置換脂肪族基であり、Ｒ^２は置換または非置換芳香族基である）の単位を含む。保護カバー層はキャリア基体の前面または裏面上に配置される。乾燥フィルムを用いて光学デバイスを形成する方法も提供される。本発明は、オプトエレクトロニクス産業において特に適用可能であることを見出す。 （もっと読む）

【課題】光学部品の形成における使用に好適な乾燥フィルムを提供する。
【解決手段】乾燥フィルムは、前面および裏面を有するキャリア基体を含む。フォトイメージ可能でない熱硬化性ポリマー層は、キャリア基体の前面上に提供される。ポリマー層は、熱活性成分および式（ＲＳｉＯ_１．５）（式中、Ｒは置換または非置換有機基である）の単位を含む。保護カバー層はキャリア基体の前面または裏面上に配置される。乾燥フィルムを用いて光学デバイスを形成する方法も提供される。本発明は、オプトエレクトロニクス産業において特に適用可能であることを見出す。 （もっと読む）

【課題】気相中で固体前駆体化合物を反応器に供給するための供給装置が提供される。
【解決手段】当該装置は、出口室と、固体前駆体化合物および固体前駆体化合物上に配置された充填材料の層を含む前駆体組成物を含む入口室とを含む、固体前駆体化合物用の気相供給装置である。かかる装置は、その上に充填材料の層を有する固体前駆体化合物の前駆体組成物を含む。ＣＶＤ反応器内への供給のために前駆体化合物によって飽和されたキャリアガスを移送するための方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】イメージ化された構造物の孤立‐密集偏向の制御をすることができる新規なフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】本発明のフォトレジストは１以上の樹脂及びフォト活性成分と共に付加酸反応成分を含有する。本発明の好ましいフォトレジストは、所望の孤立‐密集偏向値を有するマイクロエレクトロニクスウェーハをはじめとするプロセス基体を提供することができる。特に、本発明の好ましいレジストは、化学増幅型ポジ型レジストであり、酸反応成分に加えて乳酸エチル又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテートをはじめとするエステル系溶剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】アセタールおよび脂環式基を有する添加剤を含有する化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物が提供される。
【解決手段】本発明は、ｉ）フォト酸不安定性基を含む１以上のポリマーを含む樹脂成分；ｉｉ）１以上のフォト酸発生化合物；およびｉｉｉ）１以上のフォト酸不安定性アセタール基および１以上の脂環式基を含む１以上の非ポリマー系化合物を含むフォトレジスト組成物に関する。本発明の好ましいフォトレジストは、１以上のフォト酸不安定性部分を有するポリマーを含む樹脂成分、１以上のフォト酸発生化合物、およびアダマンチルをはじめとする１以上の脂環式基を含有する添加剤を含む。 （もっと読む）

【課題】１以上の金属または合金フィルムを基体上に堆積させるためのＵＶ硬化性組成物および方法を提供する。
【解決手段】１以上の金属または合金フィルムを基体上に堆積させるためのＵＶ硬化性組成物および方法が開示される。ＵＶ硬化性組成物は、触媒、１以上の担体粒子、１以上のＵＶ硬化剤、および１以上の水溶性または水分散性有機化合物を含有する。金属または合金を無電または電解堆積により基体上に堆積させることができる。 （もっと読む）

【課題】アセタールおよび脂環式基を含む樹脂を含有する化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物が提供される。
【解決手段】本発明は、ｉ）１以上のフォト酸不安定性アセタール基および１以上の脂環式基を含む１以上の置換基を含む１以上の樹脂；およびｉｉ）１以上のフォト酸発生化合物を含むフォトレジスト組成物に関する。本発明のフォトレジストは、とりわけ向上されたリソグラフィー特性を示すことができる。本発明の好ましいフォトレジストは、１以上のフォト酸発生化合物と、１以上のフォト酸不安定性アセタール基および１以上の脂環式基（例えばアダマンチル）を含む１以上のフェノール樹脂とを含む。 （もっと読む）