【課題】基板上に半導体ナノ素材を配列し、ナノ素材とショットキー接合をなす金属層を構成して、半導体ナノ素材とショットキー接合された金属の仕事関数差によって、太陽光入射時、電子−正孔の流れを生成して電気の流れを誘導する、半導体ナノ素材を利用した光電変換装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】光エネルギーを電気エネルギーに変換する光電変換装置２において、基板２１、基板２１上に多数の半導体ナノ素材２２ａが水平配列された半導体ナノ素材層２２、半導体ナノ素材層２２上に半導体ナノ素材２２ａとショットキー接合される金属層２４とを含み、ショットキー接合された半導体ナノ素材２２ａと金属層２４の間に発生する整流によって電気エネルギーが生成されるようにする。 （もっと読む）

【課題】工作物を加工する単一の主軸を備え、この主軸を上下、左右、前後に可変させて、構造が大変簡便でありながらも工作物を立体的に加工可能な３Ｄ可変軸マシーンを提供すること。
【解決手段】地面から離隔されて工作物の上に配置されるフレーム１０と、該フレーム１０に一対で連結されるアーチ形状の前後回動フレーム２０と、該前後回動フレーム２０と交差連結され得るように前後回動フレーム２０より相対的に低い高さを有するアーチ形状の左右回動フレーム３０と、前後回動フレーム２０と左右回動フレーム３０との交差部位に垂直に挿入されて前後回動フレーム２０及び左右回動フレーム３０に沿って回動する主軸５０とを備え、主軸５０に結合された滑り部材４０が、前後回動フレーム２０の下面と左右回動フレーム３０の上面に対してスライド自在に結合されていることを特徴とする３Ｄ可変軸マシーン。 （もっと読む）

【課題】基板上に半導体ナノ素材を配列し、ナノ素材とショットキー接合をなす金属層を構成して、半導体ナノ素材とショットキー接合された金属の仕事関数差によって、太陽光入射時、電子−正孔の流れを生成して電気の流れを誘導する、半導体ナノ素材を利用した光電変換装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】光エネルギーを電気エネルギーに変換する光電変換装置１において、基板１１、基板１１上に形成された絶縁層１２、絶縁層１２の間に垂直た多数の半導体ナノ素材１３ａ、１３ｂ、１３ｃから構成された半導体ナノ素材層１３、半導体ナノ素材層１３の上部に、半導体ナノ素材１３ａ、１３ｂ、１３ｃとショットキー接合される金属層１４とを含み、ショットキー接合された半導体ナノ素材１３ａ、１３ｂ、１３ｃと金属層１４の間に発生する整流によって電気エネルギーが生成されるようにする。 （もっと読む）

【課題】本発明のプラズマスクラバーは、電力消耗を減らしながら、反応炉内に高い温度雰囲気を形成して、難分解性気体を効果的に分解除去する。
【解決手段】本発明のプラズマスクラバーは、難分解性気体が供給される第１反応炉１０、前記第１反応炉１０内に設置され、前記難分解性気体の流れ方向に突出形成され、前記第１反応炉１０との放電によって前記第１反応炉１０との間に供給される前記難分解性気体にプラズマを発生させる電極４０、前記第１反応炉１０に連結装着され、前記プラズマが前記電極４０に付着して（anchoring）連続的なアークジェットを形成する第２反応炉２０、及び前記第２反応炉２０に連結装着され、前記第２反応炉２０で電子及び反応性の高い化学種を含む高温の反応部を形成して、滞留時間増加及び反応性を高め、前記難分解性気体を分解する第３反応炉３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ及び高効率ランプ分野に適用可能な電界放出素子及びその製造方法に関するものである。
【解決手段】本発明は、基板とアノードが具備され、ディスプレイ分野と高効率ランプに使用する電界放出素子の製造方法において、基板の上部に金属触媒をコーティングする段階と；前記金属触媒をシリコンと反応させて金属シリサイド層を形成する段階と；前記金属シリサイド層の上に金属拡散でシリサイドナノワイヤーを成長させる段階；とを含んでなる。本発明は、ドーピング過程と尖った形状を作るための過程を省略して、生産工程の短縮で生産費を節減することができ、少ない電圧で放出電流を増大させることができて性能の向上を図り、物理的蒸着と化学的蒸着方法すべてを適用してシリサイドナノワイヤーを成長させることができるので、適用範囲を拡張させることができる。 （もっと読む）

本発明は、超音波を利用した洗浄装置に関するものであり、より詳細には、オシレータを一側面側に有するハウジングと、オシレータに結合されてウェハーの上面に塗布された洗浄水に対してオシレータから発生した超音波を伝播するロッドとを備え、オシレータが近傍領域及び遠方領域を有する拡散層に圧電素子を接着することで構成され、ロッドがその径を徐々に縮径されてオシレータから発生した超音波を増幅させることにより、被洗浄物としてのウェハーの異物を効果的に除去する超音波を利用した洗浄装置に関するものである。

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本発明は、メガソニック洗浄モジュールに関するものであり、電源供給ユニットから電源の印加を受ける圧電素子を内部に有して圧電素子の振動により超音波を発生させるバイブレータと、このバイブレータの一端に結合されて被洗浄物としての半導体ウェハーの一側面に垂直に設置されてその径を徐々に縮径されることでバイブレータから発生した縦方向の超音波を集中させる増幅部を有する第１振動ロッドと、この第１振動ロッドに対して垂直に組み合わされて縦方向の超音波による半導体ウェハーへの影響を回避するように第１振動ロッドとの接合部位の径を他端よりも相対的に小さく設定するとともに他端の断面を様々な形状に形成して第１振動ロッドの縦方向の超音波を横方向に伝播させる第２振動ロッドとで構成され、半導体ウェハーの異物を横方向の超音波を利用して効果的に遊離させるメガソニック洗浄モジュールに関するものである。

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本発明は、圧縮空気貯蔵発電システム及び圧縮空気貯蔵発電システムを利用した発電方法に関するものであり、より詳細には、深夜電気及び余剰に生産された電気を利用して地中に埋設された貯蔵タンクに高圧の空気を注入し、電力消費量が多い時間には、タンク内の高圧の空気を一定に排出して発電機を駆動させることでエネルギーを効率的に管理する圧縮空気貯蔵発電システム及び圧縮空気貯蔵発電システムを利用した発電方法に関するものである。
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【課題】機能性インクの消費を抑えつつ、高アスペクト比を有する高解像度パターンを効率よく形成する方法を提供する。
【解決手段】基板10上に犠牲フィルム30を付着させる工程（ａ）と、犠牲フィルム30に露光及び現像を行って所望のパターン状凹部40を有するパターン鋳型30’を形成する工程（ｂ）と、パターン状凹部40に機能性材料を含有するインクＭを充填する工程（ｃ）と、インクＭを乾燥させる工程（ｄ）とを含む高解像度パターンの形成方法であって、犠牲フィルム30の厚さを100×β／α以上［ただしαはインクＭ中の機能性材料の体積分率（体積％）であり、βは高解像度パターンの厚さ（μｍ）である。］とする高解像度パターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】 機能性インクＭの消費を抑えつつ、高アスペクト比を有する高解像度パターンを効率よく形成する方法を提供する。
【解決手段】 ドライフィルムレジスト30を基板10上に部分又は全面的に付着させた後、レーザ等の集束可能なエネルギービームを直接照射するか、マスク又は回折光学素子を介して特定波長帯の光を投射して露光した後、現像によりパターン状凹部40を有するパターン鋳型30’を形成し、機能性インクＭをパターン状凹部40に充填し、乾燥後、パターン鋳型30’を除去することにより高解像度パターンを形成する方法。 （もっと読む）