【課題】間欠的に噴射する場合など噴射作動に中断があっても、安定良くドライアイス粒子を生成して噴射できるようにする。
【解決手段】炭酸ガスを収容したガス容器(２)と、ガス容器(２)から取り出した液化炭酸ガスを案内する供給路(３)と、供給路(３)の下流側に接続された噴射機(４)とを備える。噴射機(４)は、ハウジング(６)の外面に供給路(３)が接続されるガス入口(７)を開口し、先端に噴射口(８)を備える。ガス入口(７)と噴射口(８)との間にガス流路を形成し、このガス流路に絞り手段と膨張部とを上流側から順に設ける。供給路(３)に冷却手段(５)を設け、冷却手段(５)と噴射機(４)との間での液化炭酸ガスの温度(T2)を、ガス容器(２)から取り出した炭酸ガスの温度(T1)に比べて２℃以上低温に維持する。 （もっと読む）

【課題】シリコンを原料とする水素の製造を、後処理に手間を要する副生成物を伴わずに、高い回収率にて連続して行わせ得る水素製造装置を提供する。
【解決手段】密閉可能な反応容器１又は２の内部に、水タンクＴ₁ 内の水を供給して所定の圧力にまで昇圧させると共に、ヒータ10又は20により加熱して亜臨界状態としておき、この反応容器１又は２に、スラリータンクＴ₂ 内のシリコンスラリーをスラリーポンプ31の動作により送り込み、反応容器１又は２の内部に亜臨界状態の水とシリコンとの接触反応により水素を発生させ、水素送出管４を経て高圧分離器５に導入して水蒸気を分離させ、回収管50を経て蓄圧器６に回収する。 （もっと読む）

【課題】 広い面積にわたって均一に炭素含有固体膜を形成することのできる薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 チャンバー内で炭化水素誘導体からなる原料流体と二酸化炭素からなるキャリア流体を混合して超臨界状態を形成し、白金、タングステン、コバルト、ニッケル、鉄またはその合金から選ばれたすくなくとも１種の金属触媒での触媒反応により超臨界流体中の原料流体に活性種を発生させ、その流体を基板に吹き付けることにより、基板上に炭素含有固体膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 広い面積にわたって均一に薄膜を形成することのできるシリコン含有固体膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 チャンバー内でシラン誘導体からなる原料流体と二酸化炭素からなるキャリア流体を混合して超臨界状態を形成し、さらに白金、タングステン、コバルト、ニッケル、鉄またはその合金から選ばれたすくなくとも１種の金属触媒による触媒反応により超臨界流体中の原料流体に活性種を発生させ、その流体を基板に吹き付けることにより、基板上にシリコン含有固体膜を形成する。 （もっと読む）