【課題】フォトレジストの定量供給が可能な、且つフォトレジストの定量吐出の異常の有無及び気泡の有無を予め感知できる、半導体素子のフォトリソグラフィ工程に使用されるフォトレジスト供給装置を提供する。
【解決手段】フォトレジストをウェハに吐出する吐出ノズルと、吐出ノズルに定量のフォトレジストを供給する定量ポンプと、定量ポンプから吐出ノズルに供給されるフォトレジストが一時格納されるトラップタンクと、トラップタンクに格納されるフォトレジストが満たされているボトルと、定量ポンプから吐出ノズルに供給されるために待機するフォトレジストに気泡が含まれているかを判別する気泡判別部材と、気泡判別部材が気泡をチェックすると、定量ポンプで待機中のフォトレジストを廃液タンクにドレーンするために、定量ポンプと廃液タンクとを連結する第１ドレーンラインと、を含む。 （もっと読む）

【課題】気液分離装置及びこれを含む基板処理装置を提供すること。
【解決手段】気液分離装置は、分離箱、フィルター部、排気管、及び排水管を含む。分離箱は、上部に気液の流入される流入口が形成される。フィルター部は、分離箱の内部で流入口の下部に配置され、流入された気液から液体成分をフィルタリングする。排気管は、閉められた上部がフィルター部と向い合って分離箱の下部に連結され、側面にフィルター部を通過した気液の気体成分を排気させるための少なくとも一つの排気口が形成される。排水管は、排気管と隣接した分離箱の下部に連結され、フィルター部でフィルタリングされた気液の液体成分を排水させる。よって、設置空間を最小化し、かつ気液から液体成分と気体成分とを簡単に分離することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体基板を移送する基板移送装置及びその基板移送方法を提供する。
【解決手段】基板移送装置は、メーン積載部と、バッファ積載部と、分配ユニットとを含む。メーン積載部は、工程モジュールの前方に設置され、各々複数の基板を収容可能な収容容器を複数個積載でき、積載された収容容器と工程モジュール間での基板の移送が行われるように構成され、バッファ積載部は、収容容器を複数個積載でき、分配ユニットは、メーン積載部の上方に位置し、メーン積載部とバッファ積載部間で収容容器を移送する。このように、本願の基板移送装置は、メーン積載部に加えて、収容容器を積載できるバッファ積載部を具備し、メーン積載部とバッファ積載部間での収容容器の移送は分配ユニットを通じて行われるので、基板の移送に必要な時間を短縮し、生産性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】
基板表面を選択的にエッチングするための基板処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】
本発明による基板処理方法は、第１ノズルが回転する基板の中心にエッチング液を供給し、第２ノズルが基板の中心から離れた位置で前記エッチング液の濃度を希釈するエッチング妨害流体を供給する。 （もっと読む）

【課題】 集積回路素子を製造するための基板が曲がることを減少させる。
【解決手段】 基板のディッピング又はケミカルのフローによって基板の一部分が曲がる場合、基板の一部分が曲がるように基板の一部分に印加される力と逆方向に力が作用するように基板の一部分に収容されたケミカル又は基板の一部分にフローされるケミカルをバスの外部にフローさせる。 （もっと読む）

【課題】 ケミカル噴射装置及びこれを含む基板処理装置が開示される。
【解決手段】 ケミカル噴射装置は、第１噴射配管、第２噴射配管、及び駆動部を含む。前記第１及び第２噴射配管は同一線上に位置し、ケミカルを基板に噴射する多数の第１及び第２噴射ノズルを有する。前記駆動部は、前記第１及び第２噴射配管の間で前記第１及び第２噴射ノズルをスウィングさせるために互いに隣接する前記第１及び第２噴射配管の端部に駆動力を提供する。従って、第１及び第２噴射配管に形成された第１及び第２噴射ノズルを安定にスウィングすることができる。 （もっと読む）

【課題】高効率で大量生産が可能な炭素ナノチューブ生成装置を特徴とする。
【解決手段】金属触媒とソースガスとが互いに反応して、炭素ナノチューブが生成される反応空間を提供する反応炉と、反応空間で金属触媒の流動化を向上させて、生産性の向上とガス転換率を高めて、炭素ナノチューブ価格の低減及び金属触媒が反応炉の側壁に癒着するのを防止するための回転体を備える炭素ナノチューブの生成装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置及びこれを用いる基板移送方法を提供する。
【解決手段】本発明の基板処理装置は、複層構造の第１処理ユニットと第２処理ユニット（露光ユニット）との間で基板を移送するインタフェースユニットが第１処理ユニットに基板を搬出入するための基板収容部を有し、基板の移送停滞を防止するためのバッファ部がインタフェースユニット又は第１処理ユニットに配置されることを特徴とする。このような特徴により、複層構造の第１処理ユニットと第２処理ユニット（露光ユニット）との間の基板移送をより効率よく行なうことができる。 （もっと読む）

【課題】 遠隔制御電力分配装置及びこれを含む半導体装備の電力分配システムが開示される。
【解決手段】 遠隔制御電力分配装置は、主電力線を通じて外部から供給される使用者電力を分配して複数の第１電力線を通じて一つ以上の移送モジュールと複数の処理モジュールを含む複数のデバイスモジュールそれぞれに複数の必要電力を供給する。ＣＴＣは電力分配器及びデバイスモジュールと接続され、必要電力を電力線通信を通じて実時間で遠隔制御する。したがって、複数の電力線通信とＧＵＲＩＣＳというソフトウェアプログラムを通じて半導体装備システムの維持保守及び電力システムの分散制御及びモニタリングを実時間で遠隔によって行うことができる。 （もっと読む）

【課題】感光液塗布工程を効率的に遂行できユニット及び装置の構成を簡素化できる処理液供給ユニットと、これを用いた基板処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明によれば、（好ましくは二つの）ノズルアームが提供され、それぞれのノズルアームに複数個の感光液ノズルと有機溶剤ノズルとが装着される。感光液ノズルと有機溶剤ノズルの内部を流れる感光液及び有機溶剤は、これらのノズルを囲んで外接する流路を介して供給される温度調節流体により温度が維持され得る。また、工程を遂行しているノズルアームが一時的に待機する待機ポートが提供され、工程に用いられていない感光液ノズルには有機溶剤が提供され、工程に使用中の感光液ノズルには有機溶剤が提供されないようにできる。 （もっと読む）