【課題】基板上に複数の薬液や気体を供給して、基板を洗浄・乾燥する基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板が在置されるチャックを有する基板支持機構と、基板の上面に乾燥用流体を噴射する第１のノズルユニットと、上部が開放され、チャックの周辺を囲むような形状を有する下部カバーと、基板に対する乾燥工程が外部と隔離された状態で行なわれるように、下部カバーの上部を開閉する上部カバーと、を含むことを特徴とする基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】 円滑に薬液を供給しつつ、装備状態を容易に維持しうるスリットノズル及びそれを備える薬液塗布装置を提供する。
【解決手段】 薬液が流入される供給孔が形成された第１胴体部と、第１胴体部と対向して配された第２胴体部と、第１及び第２胴体部の間に配されて第１及び第２胴体部を所定間隔離隔させるスペーサと、を備えるスリットノズル。ここで、スペーサは、第１及び第２胴体部の間に供給孔と連結された吐出口を形成することが望ましい。 （もっと読む）

【課題】隙間空間がなく洗浄工程中に噴射された液体によるミストが洗浄装置の外部に漏出し汚染及び腐食作用をおこすことを防止する洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】本発明の一実施形態による平板パネル洗浄装置は、内壁210、内壁210と締結され内部に空間を有する中空円筒形締結部215ａ及び中空円筒形締結部215ａの空間を通過する回転軸230ａ、回転軸230ａと一体型であり、締結部の外径よりさらに大きい内径を有する中空円筒形液除け220ａ及びロールブラシ250ａを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は基板を処理する装置に関する。
【解決手段】本発明によると、基板に高温及び高圧のスチームを噴射して基板の洗浄が行われる。スチーム発生器は基板にスチームを継続的に供給するように構成される。スチームによる洗浄後にはブラッシュによる洗浄を継続的に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は複数の処理液を順に用いて工程を実行する装置を提供する。
【解決手段】本発明の装置は、処理液の回収が可能になるように、それぞれの処理液を回収する処理液回収容器を具備し、また、工程進行のときに発生する汚染ガスを分離排出する排気部材を有する。 （もっと読む）

【課題】カーボンナノチューブの合成装置及び方法を提供すること。
【解決手段】カーボンナノチューブの合成装置は、カーボンナノチューブの生成空間を提供する反応炉と、前記反応炉を加熱する加熱部と、工程時に前記反応炉の生成空間に位置し、合成基板が置かれるボートと、前記反応炉の生成空間にソースガスを供給するノズルユニットとを有するガス供給部を備え、前記ノズルユニットは、互いに異なる高さからソースガスを供給する噴射部を備える。本発明に係るカーボンナノチューブの合成装置及び方法は、カーボンナノチューブ合成時に用いられるソースガスの均一な供給、ソースガスの効率的な排気、カーボンナノチューブの回収率の増加を図って、大量のカーボンナノチューブを効果的に合成させる。 （もっと読む）

【課題】炭素ナノチューブを効率的に生成するシステムと方法を提供する。
【解決手段】合成基板の上に炭素ナノチューブを生成する工程が行われる反応チャンバと、反応チャンバの一方に位置するステーション部と、ステーション部の内部に設置された、反応チャンバに／から合成基板をロード／アンロードする第１移送装置及び反応チャンバにロードされる前の合成基板が格納され、かつ反応チャンバからアンロードされた後の合成基板が待機する基板保管部と、基板保管部から合成基板を引き出して合成基板に生成された炭素ナノチューブを回収する回収部と、回収部で炭素ナノチューブを回収した合成基板の表面に触媒を塗布する触媒塗布部と、回収部と基板保管部の間、及び触媒塗布部と基板保管部の間における合成基板の移送を担当する第２移送装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ベーク工程進行時に冷却プレートと基板との間の圧力が真空または低圧になることを防止できる冷却プレート及びベーク装置を提供する。
【解決手段】基板が載置されるプレート２００と、該プレートに提供され載置された基板を加熱または冷却する温度調節部材とを含み、前記プレートの上面には基板が載置されるときに、外部の空気を基板Ｗと前記プレートとの間に形成された空間２０４に案内する案内通路が形成されている。これにより、前記空間内の圧力は、外部の圧力と同一に維持される。 （もっと読む）

【課題】本発明はベークユニットに使用される加熱プレートを冷却する方法を提供する。
【解決手段】ベークユニットは加熱プレート４２０と加熱プレート上に置かれて加熱プレートを冷却する温度調節板６００と搬送メカニズム５００からなり、加熱プレートの冷却は加熱プレートより低い温度を有する温度調節板を加熱プレート上に提供することによって実行される。温度調節板は基板を冷却する冷却プレートで冷却した後、加熱プレートへ移動される。 （もっと読む）

【課題】本発明は半導体ウェーハやＬＣＤ用硝子基板などの基板を薬液やリンス液等の洗浄液に沈積して洗浄した後、乾燥する洗浄乾燥装置及び方法に関する。
【解決手段】本発明の洗浄乾燥装置は洗浄液を貯蔵すると同時に洗浄液を下部から排出する洗浄室と、洗浄室の上部に配置される乾燥室を含むプロセスチャンバを有する。このプロセスチャンバの内部には乾燥室の内部に提供される気体を強制排気する排気部を具備することができる。排気部は洗浄室と乾燥室との間に配置され、乾燥室内の気流が上から下へ流れるように気体を強制排気する。このような構成の基板洗浄乾燥装置は、乾燥室の上部から乾燥ガスを供給して、基板の下部からそのガスを強制排気することで、乾燥室の内部に垂直な気流形成によって、基板の表面にわたって均一な層流を形成するようになるだけでなく、迅速な排気が可能して乾燥効率を高めることができるという利点がある。 （もっと読む）