【課題】半導体などの基板の全体に対して均一に工程が行なわれるように基板を保持する基板保持ユニット、及びこれを利用する効率の良い基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板保持ユニットは、第１保持部及び第２保持部を含む。第１保持部は第１方向に移動可能であり、第１方向に対応する方向に工程流体が提供される基板に対して、基板の第１部分を保持する。第２保持部は第２方向に移動可能であり、基板の第２部分を保持する。第１及び第２保持部のうち少なくとも一つは、工程流体が提供される間、基板を保持する。 （もっと読む）

【課題】基板を支持するスピンヘッドを提供する。
【解決手段】スピンヘッドは、回転可能なボディと、上部に突出し、かつ回転時ボディに置かれた基板の側部を支持するチャックピンとを有する。チャックピンは、上下方向にボディに提供された垂直ロッドを有する。基板が回転する時、垂直ロッドは基板から側方向に離隔するように位置される。支持ロッドは、流線型に提供された側面を有する。支持ロッドは、上部から見る時、幅が漸進的に減少する接触部を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】全てのチャックピンが基板との接触を高速回転時にも維持でき、スピンヘッド本体の熱変形によるチャックピンの設定位置のずれを防止できるスピンヘッドを提供する。
【解決手段】本体と、本体から上方に突出して設置されるチャックピンと、本体上に置かれた基板の側部を支持する支持位置及び本体の中心から支持位置より離れた待機位置の間でチャックピンを移動させ、且つチャックピンが待機位置にある場合には本体上に基板を着脱可能に置く余地を与えるように、チャックピンと固定結合される移動ロッド、回転可能で支持位置に位置したチャックピンが待機位置に移動できるように外側面に突起を有するカム、及びチャックピン各々が互いに独立して待機位置から支持位置に向かう方向へ移動できるように、移動ロッド各々に独立して復元力を印加するチャックピン復元器を有するチャックピン移動ユニットと、を備える。 （もっと読む）

【課題】 基板洗浄方法及び装置が開示される。
【解決手段】 レーザービームを利用する基板洗浄方法及び装置において、工程チャンバー内にはレーザー誘起衝撃波が発生する空間を限定する内部チャンバーが配置される。前記レーザービームは前記内部チャンバー内に位置した焦点に集中され、これによってレーザー誘起プラズマ衝撃波が前記レーザー焦点の周囲に発生する。前記プラズマ衝撃波は内部チャンバーの内側表面によって反射され、前記内部チャンバーの下部を通じて基板上に照射される。結果的に基板上に照射されるプラズマ衝撃波の強度が増加し、これによって、基板上の汚染物質の除去効率が向上する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、炭素ナノチューブの製造装置及びこれを利用した炭素ナノチューブの製造方法を提供する。
【解決手段】複数の炭素ナノチューブ合成ユニットを直列に配置して、炭素ナノチューブ合成工程を連続的に進行することを特徴とする。このような特徴によれば、均一な品質の炭素ナノチューブを合成することができる炭素ナノチューブの製造装置及びこれを利用した炭素ナノチューブの製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】パーティクルを排出するユニットとこれを含む基板移送装置を提供する。
【解決手段】隔壁はハウジングの内部に垂直方向に配置され、ハウジングの内部空間を第１空間及び第２空間に区分する。圧力発生部材は、第１空間を上部空間及び下部空間に区分し、上部空間及び下部空間内で正圧及び負圧が交互に発生するように第１空間内で垂直方向に移動する。基板支持部材は、第２空間内で移動可能に配置され、基板を支持して移送する。複数のゲートはハウジングの側壁及び隔壁に具備され、第２空間から第１空間を経て外部空間にパーティクルを排出するために正圧及び負圧によって開閉される。 （もっと読む）

【課題】 基板の上部面と下部面を効率的に洗浄またはエッチングできる基板加工方法を提供する。
【解決手段】 基板加工方法によると、基板を支持し、支持された基板を回転させる。薬液、洗浄液、及びガスのうち、少なくとも１つを回転する基板の下部面に選択的に噴射する。基板の下部面に噴射される薬液、洗浄液、及びガスと同一の薬液、洗浄液、及びガスのうち、少なくとも１つを回転する基板の上部面に選択的に噴射する。従って、基板の下部面を洗浄またはエッチングするために基板の下部で薬液、洗浄液、及びガスを噴射することで、基板の上部面と下部面に対する工程を同時に進行することができる。 （もっと読む）

【課題】 超音波振動生成装置及び方法、そしてウエハー洗浄装置及び方法が開示される。
【解決手段】 超音波振動生成装置及び方法は、振動発生部から発生された超音波振動が伝達部材の物質層を通過するようにして、超音波振動の強度及び方向を調節する。ウエハー洗浄装置及び方法は、洗浄液供給部から洗浄液をウエハーに供給し、超音波振動発生部が超音波振動を発生し、超音波振動を伝達部材の物質層を通過するようにして超音波振動の強度及び方向を調節して、強度及び方向が調節された超音波振動が洗浄液に伝達される。 （もっと読む）

【課題】エンドエフェクタを含む基板移送ロボットを提供すること。
【解決手段】前記エンドエフェクタは、リストプレートと、垂直方向に移動自在に前記リストプレートに連結され、第１基板を支持するための第１ブレードと、前記第１ブレードと隣接するように前記リストプレートに連結され、第２基板を支持するための第２ブレードと、を含む。昇降ユニットは、前記第１基板が前記第１ブレードによって支持されるように前記第１ブレードを上方に移動させ、前記第２基板が前記第２ブレードによって支持されるよう前記第１ブレードを下方に移動させる。 （もっと読む）

【課題】金属触媒粒子を分散し浮遊させて炭素ナノチューブを生成する際に、金属触媒の堆積による損失を抑制し、空間活用率を向上できる炭素ナノチューブ製造装置及びその方法を提供する。
【解決手段】炭素ナノチューブ製造装置は、反応チャンバ及び反応チャンバの下底に備えた分散板を備える。分散板は、プレート及びプレートの端部に形成されたガス誘導部を備え、プレートの中央部には触媒供給ホールが形成される。ガス誘導部は、ソースガスをプレート中央部上方に向かってガイドして触媒供給ホールから排出する金属触媒を反応チャンバ内の上方向に浮遊させる。 （もっと読む）