【課題】オゾン水混合液供給装置及び方法、並びにこれを具備する基板処理装置を提供する。
【解決手段】本発明によるオゾン水混合液供給装置は、処理液供給ライン及びオゾン水供給ライン夫々から処理液及びオゾン水の供給を受けこれを混合して予め設定された濃度範囲内のオゾン水混合液を製造する混合ラインと、混合ラインから製造するオゾン水混合液を処理ユニットに分配させる分配ラインと、を有する。混合ラインには、混合バルブ及びスタティックミキサを設ける。本発明は、混合タンクのような混合容器なしにインライン混合方式で予め設定のオゾン水混合液を製造及び供給する。 （もっと読む）

【課題】基板洗浄装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基板洗浄装置及び方法を開示したものであり、基板の移動方向と直交する方向に対して傾斜してブラシを配置し基板を洗浄処理することを特徴とする。
前記特徴によると、基板の洗浄效率を向上させ、基板の移動安全性を向上させ、洗浄液のチャンバ外部への漏出を抑制する基板洗浄装置及び方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】処理流体ナイフの垂れを防止しうる処理流体供給装置を提供する。
【解決手段】処理流体ナイフは、前記基板の表面に対して平行する方向に延長し、前記処理流体を供給するためのスリットノズルを有する。ロッドは、前記ナイフの垂れを防止するために前記ナイフを通じて延長して前記ナイフの延長方向に張力が印加される。よって、前記ナイフの垂れによって発生しうる基板の損傷を防止することができ、前記基板上に前記処理流体を均一に供給することができる。 （もっと読む）

【課題】 チャンバー外部に処理液の流出を抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板処理装置は、基板の処理空間を提供するチャンバー、チャンバーの内部に配置され、第１方向に延長されチャンバーの外部から両端部に提供された処理液が流れる第１供給ライン、第１供給ラインと連通され基板に向かうように延長され、処理液を基板に向かって噴射する噴射部、及び噴射部を第１方向と垂直な第２方向にスウィングさせるために、第１供給ラインと非接触方式で第１供給ラインを回転させる駆動ユニットを含む。従って、基板処理装置は、基板全体に均一に処理液を供給する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、映像処理に使われる液晶表示装置（ＬＣＤ）などの平板表示装置用の基板の圧痕検査とシリコン塗布を効率的に行う、基板の製造装置及び方法を提供する。
【解決手段】基板の製造装置は、互いに高さの異なる上下の層に配置された検査モジュールと塗布モジュールとを具備する。具体的に説明すると、検査モジュールは、基板に付着されて基板に信号を入出力する信号送受信部材と基板との結合状態を検査する。塗布モジュールは、信号送受信部材のリード線を保護するための保護膜を信号送信部材と基板とに形成する。その際、検査モジュールと塗布モジュールとが互いに高さの異なる上下の層に備えられるので、空間活用率を向上できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板処理装置及びその製造方法を開示し、工程設備の工程ユニットをモジュール化し、モジュール化された工程ユニットをメインフレームに脱着可能に設置することを特徴とする。
【解決手段】工程設備の製造に必要とする作業時間及び作業量を減少させることができるだけでなく、各工程ユニットの維持補修をより容易に実施できる基板処理装置及びその製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板保持ユニット及びこれを利用する基板処理装置が提供される。
【解決手段】前記基板保持ユニットは、ベース板及び前記ベース板に形成された保持部を含む。前記保持部は、二つの保持台及び複数の保持部材を含む。前記二つの保持台は、所定方向に沿って伸び、相互離隔する。前記複数の保持部材は、前記所定方向に沿って互いに離隔するように設けられ、それぞれが前記保持台を連結する。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明は、処理液が満たされる処理槽に基板を浸漬して洗浄する装置及び方法に関する。本発明による基板処理装置は、各々の処理槽に具備され工程時に基板を支持するボートを有し、前記ボートは、工程時に基板の互いに異なる部分と接触して基板を支持する。本発明は、各々の処理槽のボートが支持する基板の接触部分を互いに相違するようにして、ある一つの処理槽で洗浄されなかった基板の接触部分が他の処理槽で洗浄されるようにすることによって、基板を支持する支持部材によって基板の洗浄効率が低下することを防止する。 （もっと読む）

【課題】 ブラシアセンブリ及びこれを有する基板洗浄装置が開示される。
【解決手段】 ブラシを用いて基板を洗浄するための装置において、ブラシアセンブリは工程チャンバー内で回転可能に配置されるシャフトと、前記シャフトの中央部位に配置され、基板を洗浄するための洗浄液の供給を受け、基板の表面と接触して前記基板の洗浄を行うブラシと、前記基板を洗浄する間、前記ブラシに供給された洗浄液が前記シャフトに沿って前記シャフトの端部に向かって流れることを防止するために気流を発生させる送風ユニットを含む。従って、前記ブラシに供給された洗浄液が前記工程チャンバーの外部に漏洩することが防止されることができる。 （もっと読む）

【課題】工程溶液の準備工程に要する時間を最小化して、工程効率を向上させることができる工程溶液処理方法及びこれを用いた基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理槽に基板処理用の工程溶液を提供するステップと、工程溶液を処理槽に連結した循環ラインを通して循環させる循環ステップと、を有し、循環ステップは工程溶液が循環ラインを移動するメイン循環ステップと、循環ラインの第１位置で分岐した後、第２位置で結合するバイパスラインを経由して工程溶液が移動するサブ循環ステップを含み、メイン循環ステップは第１位置と第２位置との間で工程溶液をフィルタリングするステップと、を含む。 （もっと読む）