支持領域に対して長手方向に基板を送給するシステムと基板送給の方向に平行な印字ヘッドを移動させるシステムとを使用する装置(30、40、50)及びインクジェット印刷方法が開示される。印字ヘッド(20)の長手方向に直角な走査列間の割り出しは最初は基板送給システム(16)によって実行される。実際の送給距離はエンコーダである他の基板位置測定装置(26)を使用して測定される。制御装置(25)は、実際の送給距離と所望の送給距離との間に生じる何れかの誤差の量を決定する。制御装置(25)は次いで信号を送信して印字ヘッド(20)を移動させて送給システムの送りにおける何れの誤差も補償する。補償調節はそれから次の引き続く基板割り出し段階になされる。印字ヘッドは自身の次の補正と共にホーム位置である零位置に向けて後ろへ戻る傾向がありかつ累積運動の結果としてこのホーム位置から離れて立ち去らない。
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記録素子の印刷及び処理システム及び方法が提供されている。システムは、キャリアを含む液体を記録素子上に計量分配するプリントヘッドを含む。キャリア除去ステーション（２２）が、プリントヘッドの下流に位置し、記録素子内に存在するキャリアの所定百分率を除去する。変換ステーション（２４）が、キャリア除去ステーションの下流に位置し、記録素子の耐久特性を強化する。１つの実施態様において、印刷、キャリア除去、及び、変換は、単一ユニット内で達成される。他の実施態様において、印刷はスタンドアローンユニット内で達成されるのに対し、キャリア除去及び変換は第二のスタンドアローンユニット内で達成される。この代替的な実施態様において、記録素子の輸送は、機械的機器を用いて自動的に、或いは、システム使用者によって手動で達成され得る。

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記録素子を処理する装置及び方法が提供されている。装置（２０）は、記録素子内に存在するキャリアの所定百分率を除去するよう構成されたキャリア除去ステーション（２２）を含む。変換ステーション（２４）は、キャリア除去ステーションの下流に位置し、記録素子の耐久特性を強化するよう構成されている。キャリア除去ステーション及び変換ステーションの少なくとも１つの動作パラメータが個別に調節可能であるよう、コントローラ（２５）がキャリア除去ステーション及び変換ステーションの少なくとも１つに電気的に接続されている。

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吸収性被印刷物上に印刷する方法が開示される。ある態様では、本方法は被印刷物コックルによる画像歪みを軽減する。
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【課題】ワークにおける指標の位置にかかわらずパターンの形成（描画）を行うことができる液滴吐出装置、かかる液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、かかる液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、および、かかる電気光学装置を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の液滴吐出装置は、装置本体と、基板搬送テーブルと、基板搬送テーブルをＹ軸方向に移動させるＹ軸方向移動機構と、液滴吐出ヘッドを有するヘッドユニット１１と、ヘッドユニット１１をＸ軸方向に移動させるＸ軸方向移動機構６とを備える。Ｘ軸方向移動機構６は、アライメントカメラ１７を、ヘッドユニット１１と独立にＸ軸方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】 キャリッジ駆動モータなどの直流モータ１１に与える駆動電流が予め定めるレベル以上となると、リミッタ回路１５がスイッチング素子をオフ駆動する電流制限動作を行うとともに、一旦前記電流制限動作を行うと、所定のオフタイムの間、再駆動を禁止することで前記電流制限動作を安定させるようにした駆動装置１２において、円滑な電流制限動作を行いつつ、制御性の向上を図る。
【解決手段】 ＰＷＭ信号がオフデューティとなると、オフタイム切換え回路１６が前記オフタイムを短縮する。したがって、オンデューティが継続する状態では前記オフタイムは比較的長く、不用意な電流制限動作の繰返しを防止することができるとともに、一旦オフデューティとなって、オンデューティへの切換わりの可能性のある状態では、前記オフタイムは比較的短くなり、その切換わりに速やかに追従することができる。 （もっと読む）

【課題】 複数の記録素子毎におけるドットの形成位置のバラツキの影響を小さくして、ラスタ間におけるドットの形成位置のずれを抑えることによって、画像品位の低下を防止することができる記録装置および記録方法を提供すること。
【解決手段】 複数のインク吐出口が複数列形成された記録ヘッドを用いて、記録ヘッドの主走査方向における複数のＰ回の主走査と被記録媒体の少なくとも１回の副走査方向の搬送とによって、互いに隣接するＮラスタ上のドットおよび互いに隣接するＭカラム上のドットを異なる条件で記録する記録方式において、画像データの同一レベルに対して用いられるドット配置パターンを複数、周期的に変更し、その複数のドット配置パターンとしては、それが繰り返し用いられる１周期内において、Ｎラスタのそれぞれに形成されるドット数、およびＭカラムのそれぞれにて形成されるドット数を均一化するパターンを用いる。 （もっと読む）