【課題】圧電体層のクラックの発生を抑制することができる圧電アクチュエータの製造方法、圧電アクチュエータ、この圧電アクチュエータを備える液滴吐出ヘッド、インクカートリッジ、インクジェット記録装置及びマイクロポンプを提供する。
【解決手段】下電極層形成工程と、圧電体前駆体層積層工程と、圧電体前駆体を結晶化させて圧電体層９を形成する圧電体層形成工程と、上電極層形成工程と、によって圧電素子５６を作成し、圧電素子５６の変形によって圧電素子５６に密着した振動板５５が変形する圧電アクチュエータ２００の製造方法において、圧電体層形成工程で、圧電変形領域の圧電体前駆体層を焼成して多結晶体からなる多結晶部９ａとし、多結晶部９ａと非晶質部９ｂとを有する該圧電体層９を形成する。 （もっと読む）

【課題】応力を緩和することができる信頼性の高い圧電素子を提供する。
【解決手段】圧電素子１００は、第１電極２０と、第１電極２０の上に形成された第１圧電体３０と、第１電極２０および第１圧電体３０の側方に形成され、第１圧電体３０の密度より小さい密度を有する低密度領域４０と、第１圧電体３０および低密度領域４０を覆って形成された第２圧電体５０と、第２圧電体５０の上に形成された第２電極６０と、を含み、第１圧電体３０および第２圧電体５０の少なくとも一方は、低密度領域４０に近づくにつれてシリコンの濃度が大きくなる分布を有する。 （もっと読む）

【課題】安定した変位特性を有し、信頼性の低下を抑えたアクチュエーター装置の製造方法、このアクチュエーター装置を備えた液体噴射ヘッドの製造方法およびこの液体噴射ヘッドを備えた液体噴射装置の製造方法を得ること。
【解決手段】フォトリソエッチ工程の段階で、下電極６０が形成される領域を残して、振動板５２上の第１圧電体層７１が除去されるが、フォトリソエッチ工程後に、第１圧電体層７１、下電極６０および振動板５２にわたって、４ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の厚みのチタン酸ジルコン酸鉛を含む第２圧電体層７２を形成する。第２圧電体層７２が、下電極６０に形成された第１圧電体層７１および第２圧電体層７２上に形成される第３圧電体層７３と同じチタン酸ジルコン酸鉛なので、第１圧電体層７１と第２圧電体層７２との界面付近および第２圧電体層７２と第３圧電体層７３との界面付近で組成不安定相を生じにくくできる。 （もっと読む）

【課題】振動板と圧電素子の電極との界面剥離を抑制しつつ、圧電素子の歪みエネルギーを振動板の変形に効率よく使うことができる液滴噴射ヘッド及び液滴噴射装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係る液滴噴射ヘッド６００は、第１振動板２ａと、第１振動板２ａ上に形成された第２振動板２ｂと、第２振動板２ｂ上に形成された第１導電層１０と、第１導電層１０上に形成された圧電体層３０と、圧電体層３０上に形成された第２導電層２０と、を有する圧電アクチュエーターを備えた液体噴射ヘッドであって、第２振動板２０は、ヤング率が２３０ＧＰａ以上２７０ＧＰａ以下である酸化ジルコニウムからなる。 （もっと読む）

【課題】抗電界を超えた電界を印加することによっても圧電素子の十分な変位量が得られ且つ繰り返し駆動しても圧電素子の変位量の低下を抑えることができる液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びにアクチュエーターを提供する。
【解決手段】圧電素子３００が、流路形成基板１０の上部に形成される第１の電極６０と、第１の電極６０の上部に形成される圧電体層７０と、圧電体層７０の上部に形成される第２の電極８０とで構成され、圧電体層７０は、２成分系のチタン酸ジルコン酸鉛からなる第１の圧電体膜７１と、この第１の圧電体膜７１の第１の電極６０側に設けられてジルコニウム及びチタン以外の添加金属元素を含む多成分系のチタン酸ジルコン酸鉛からなる第２の圧電体膜７２と、で構成されているようにする。 （もっと読む）

【課題】圧電体膜を用いた圧電素子に係わり、特に、駆動電圧を高くすることなく大きな撓み変形が得られる圧電素子を提供する。
【解決手段】
圧電素子を、櫛形形状の導電性弾性板２と、導電性弾性板２の各櫛歯部に設けた圧電素子セグメント１ａ〜ｅと、により構成し、圧電素子セグメントを。、櫛歯部の一方の面に順次形成した第１の圧電体膜３及び第１の電極５と、他方の面に順次形成した第１の圧電体膜４と分極方向が同じ第２の圧電体膜及４び第２の電極６と、により構成し、第１の電極５及び第２の電極６の接続点と、導電性弾性板２と、の間に電圧を印加することにより第１の圧電体膜３と第２の圧電体膜４が同方向に撓み変形して大きな撓み変動が起こるようにした。 （もっと読む）

【課題】より高い圧電性能を得ることが可能な新規なドメイン構造の圧電体膜を提供する。
【解決手段】圧電体膜１は、結晶配向性を有する複数のペロブスカイト型酸化物膜１Ａ，１Ｂが積層されたものである。複数のペロブスカイト型酸化物膜は、互いに隣接する膜の自発分極軸方向が異なるという関係を有している。複数のペロブスカイト型酸化物膜は、互いに隣接する膜の結晶系が異なっていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】通常ペロブスカイト型構造を取り得ないペロブスカイト型酸化物を、その物質固有の特性を有して、常圧にて、且つ厚みを制限されることなく製造可能とする。
【解決手段】ペロブスカイト型酸化物積層体１は、基板１１上に、少なくとも１層の下記一般式（Ｐ１）で表される第１のペロブスカイト型酸化物膜２１（不可避不純物を含んでいてもよい）と、通常ペロブスカイト型の結晶構造を取り得ない酸化物からなり（不可避不純物を含んでいてもよい）、下記一般式（Ｐ２）で表される少なくとも１層の第２のペロブスカイト型酸化物膜２２とが交互に積層されたものである。
ＡＢＯ_３ ・・・（Ｐ１）
ＣＤＯ_３ ・・・（Ｐ２）
（上記式中、Ａ及びＣはＡサイト元素であり１種又は複数種の金属元素、Ｂ及びＤはＢサイト元素であり１種又は複数種の金属元素、Ｏは酸素原子。） （もっと読む）

【課題】圧電体薄膜素子の圧電性能を損なうことなく、電極と圧電薄膜との膜の密着性を上げ、圧電体薄膜素子を用いたデバイスの作成プロセスで安定した品質と歩留まりを有す圧電体薄膜素子を提供すること。
【解決手段】圧電体薄膜１４を備える圧電体薄膜素子１５であって、圧電体薄膜１４は膜厚方向に、複数の結晶配向を有する多結晶体で構成された層（第１の圧電体薄膜１４ａ）と、単一の結晶配向を有する多結晶体で構成された層（第２の圧電体薄膜１４ｂ）を含むようにした。 （もっと読む）

【課題】疲労特性及び圧電特性に優れた圧電素子並びにこの圧電素子を用いた圧電アクチュエータ及びインクジェット式記録ヘッドを提供する。
【解決手段】圧電膜と該圧電膜に接する一対の電極とを基板上に有する圧電素子であって、前記圧電膜は、鉛系圧電膜と非鉛系圧電膜とが積層した構造を有し、前記圧電膜の、前記基板から最も遠い層と前記基板に最も近い層とは、非鉛系圧電膜であることを特徴とする圧電素子。 （もっと読む）

【課題】優れた圧電特性がある良好なペロブスカイト構造のニオブ酸リチウムカリウムナトリウム薄膜を形成した圧電薄膜素子を提供する。
【解決手段】圧電薄膜４が（Ｎａ_x1Ｋ_y1Ｌｉ_z1）ＮｂＯ₃（０＜ｘ１＜１、０＜ｙ１＜１、０≦ｚ１＜１、ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１）で表されるアルカリニオブ酸化物系ペロブスカイト構造の誘電体薄膜であり、下部電極３と圧電薄膜４の間に（Ｎａ_x2Ｋ_y2Ｌｉ_z2）ＮｂＯ₃（０＜ｘ２＜１、０＜ｙ２＜１、０≦ｚ２＜１、ｘ２＋ｙ２＋ｚ２＝１かつｙ１＞ｙ２）で表されるアルカリニオブ酸化物系ペロブスカイト構造の下地誘電体薄膜６を有する。 （もっと読む）

【課題】 例えばスタック型強誘電体キャパシタの強誘電体層の製造方法において、良好な配向性を有する強誘電体層が得られる強誘電体層の製造方法を提供する。
【解決手段】 強誘電体層の製造方法は、基体の上方に、気相法によって第１の強誘電体層２２を形成する工程と、第１の強誘電体層２２の上方に、液相法によって第２の強誘電体層２４を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】圧電素子を構成する圧電膜や振動板等を薄膜化することで半導体プロセスで一般に用いられている微細加工を可能とする圧電素子の製造方法、および、長尺でかつ高密度に形成された液吐出口を有する液体噴射記録ヘッドの製造方法を実現する。
【解決手段】液吐出口２と圧力室３と、Ｐｂ、ＴｉおよびＺｒを有する圧電膜９とその両側に設けられた電極７、８からなる圧電振動部１０とを備える。圧電膜９は、それぞれペロブスカイト構造を有しかつ互いに接するように形成された第１層１１と第２層１２とを含んでなり、成膜時の温度から少なくとも４５０℃までの間を３０℃／ｍｉｎ以上の冷却速度で急速冷却して成膜し、単一配向結晶あるいは単結晶ＰＺＴを形成する。 （もっと読む）

【課題】電圧印加による変形を繰り返しても変形量の減少が少ない圧電積層体、圧電アクチュエータを提供する。
【解決手段】圧電セラミックスを主体とする圧電体層と導体層とをそれぞれ複数ずつ積層してなる積層体からなり、該積層体の全体厚みＴが５０μｍ以下、前記積層体の全体厚みＴに対する前記導体層の各厚みの合計厚みｔの比ｔ／Ｔが０．１以下、Ｘ線回折測定における前記圧電セラミックスの（２００）面のピーク強度Ｉ（２００）に対する（００２）面のピーク強度Ｉ（００２）の比Ｉ（００２）／Ｉ（２００）が１．８以下であることを特徴とする。 （もっと読む）