本教示は、分子のマトリックス支援レーザー脱離イオン化（ＭＡＬＤＩ）質量分析法のために有用なプレートおよびそのプレートを作製するためのプロセスに関する。疎水性コーティングおよびＭＡＬＤＩマトリックス材料とポリマーのような境界剤との混合物の薄膜コーティングを含む複合コーティングを備える、ＭＳ分析またはＭＳ−ＭＳ分析のために適したＭＡＬＤＩプレートが開示される。本教示に従って作製されるＭＡＬＤＩプレートは、ＭＡＬＤＩ−ＭＳスペクトルの低質量領域（１，０００ダルトン未満）におけるマトリックスイオンの抑制のために有用である。
（もっと読む）

本発明の実施形態は、多孔質シリコン上でイオン化脱離を実施するための基板、このようなイオン化脱離を実施するための方法およびこれらの基板の製造方法を対象とする。シリコン上でイオン化脱離を実施するための基板を対象とする一実施形態は、式（Ｉ）；または式（ＩＩ）の式を有する表面を有する基板を含む。上の式で、ＸはＨもしくはＹであり、Ｘの少なくとも２５モルパーセントはＹであり、Ｙは、ヒドロキシルまたは−Ｏ−Ｒ_１またはＯ−ＳｉＲ_１，Ｒ_２，Ｒ_３であり、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、Ｃ_１からＣ_２５の線状、環状または分岐状のアルキル、アリールまたはアルコキシ基、ヒドロキシル基またはシロキサン基からなる群から選択され、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３の基は、置換されていないか、または１つまたはそれ以上の基（例えば、ハロゲン、シアノ、アミノ、ジオール、ニトロ、エーテル、カルボニル、エポキシド、スルホニル、陽イオン交換体、陰イオン交換体、カルバメート、アミド、尿素、ペプチド、タンパク質、炭水化物、および核酸官能基）で置換されている。

（もっと読む）