【課題】経時安定性を有した分散安定性の高い濃厚な金属微粒子分散物の製造方法、金属微粒子分散物、これを用いた着色組成物を提供する。
【解決手段】金属微粒子分散物の製造方法は、硫黄原子および／または窒素原子を１個以上有するアルカリ溶解性ポリマーの存在下で金属イオンを還元し、金属微粒子を形成することを特徴とし、金属微粒子分散物は、硫黄原子および／または窒素原子を１個以上有するアルカリ溶解性ポリマーと金属微粒子とを含有し、着色組成物は樹脂またはその前駆体の少なくとも１種、顔料微粒子、バインダーとなるポリマー等を含有することを特徴とする。これらの微粒子分散物および着色組成物によれば、分散安定性の高い濃厚な金属微粒子着色組成物を調整できる。カラーフィルターや液晶表示装置に利用することができる。 （もっと読む）

【課題】 ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用されるレジスト組成物を用いたサーマルフロープロセスにおいて、レジストパターンサイズの制御性に優れたサーマルフロー用ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、これに適した高分子化合物およびサーマルフロー用に適したポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むサーマルフロー用ポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、水素原子を有するアルカリ可溶性基（ｉ）の水素原子が、下記一般式（１）で表される酸解離性溶解抑制基（Ｉ）により置換されている構成単位（ａ１）を含む高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするサーマルフロー用ポジ型レジスト組成物。
【化１】


［式中、Ｚは脂肪族環式基を表し；ｎは０〜３の整数である。］ （もっと読む）

【課題】ドライエッチング耐性と、ＰＥＢ温度依存性との双方に優れ、かつ感度、解像度、焦点深度等のレジストとしての基本物性に優れた化学増幅型レジストである感放射線性樹脂組成物及びそれに使用される共重合体を提供する。
【解決手段】（ａ）ナフタレン骨格を有する繰り返し単位と、（ｂ）酸の作用により脱離可能な保護基で保護され前記保護基が脱離したときにアルカリ可溶性部位となる酸解離性基を有し、前記保護基を構成する炭素原子数及び酸素原子数の和が１０以下である繰り返し単位と、（ｃ）アルカリ可溶性部位を有する炭素数５以上の繰り返し単位とを有し（但し、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ異なる構造の繰り返し単位である。）、重量平均分子量が１０００〜５０００００である共重合体。 （もっと読む）

【課題】高感度で現像時の膜減りが少なく、０．７μｍ以下の薄い膜厚であっても現像マージンの広いポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、ナフトキノンジアジド化合物を含むポジ型感光性樹脂組成物であって、前記アルカリ可溶性樹脂を固形分３９重量％でγ―ブチロラクトンに溶解した溶液をシリコンウェハー上に塗布し、１２０℃で４分間プリベークを行って膜厚１０μｍ±０．５μｍのプリベーク膜を形成し、該プリベーク膜を２３±１℃の２．３８重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に３分間浸漬したときの溶解速度が２００ｎｍ／分以上５００ｎｍ／分以下であって、かつ前記ナフトキノンジアジド化合物のエステル化率が８５％以上９７％以下であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、より微細なパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分、及び（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤成分を含むレジスト組成物であって、前記（Ｂ）成分が下記一般式（Ｂ−０）［式中、Ｒ^０はアルキル基又はアルコキシ基を表し；Ｘはハロゲン化アルキル基を表し；ａは０〜３の整数であり；ａが２または３のとき、Ｒ^０は互いに同じでもよく異なっていてもよい。］で表される化合物（Ｂ０）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
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ポジ型の画像形成可能な要素は、輻射線吸収化合物と、親水性表面を有する基材の上の内層と外層を有する。内層は、アルカリ性現像液を使用して除去可能であり、かつ、その反復単位の1〜50 mol%は、以下の構造式(Ｉ):CH₂=C(R¹)C(=O)NR²(CR³R⁴)_nOH (Ｉ)(式中、R¹、R²、R³およびR⁴は、独立に、水素、低級アルキルまたはフェニルであり、nは1〜20である)で表されるエチレン系不飽和重合性モノマーの一種または二種以上から誘導されたポリマーを含む。この画像形成可能な要素は、現像と印刷の化学薬剤および溶媒に対する耐性が改善されている。 （もっと読む）

【課題】３６５ｎｍ以上の長波長領域において高い吸収を示し、感度が高く、有機溶剤への溶解性にも優れた化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有する化学増幅型ホトレジスト組成物、該組成物を用いたレジスト層積層体およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物。式（Ｉ）中、Ｒ^１−３のうち１つは一般式（Ｉａ）で表される基であり；式中、Ｙは芳香環から２つの水素原子を除いた基であって、；Ｚは芳香環から１つの水素原子を除いた基であって、該芳香環は置換基を有していてもよく；ＹおよびＺのうち少なくとも一方における芳香環が、少なくとも１つのアルコキシ基を有する。
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【課題】活性光線又は放射線によるパターン形成用として、感度、解像力、パターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスが小さく、更には、表面ラフネスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂（Ｃ）特定の一般式で表される低分子ラクトン化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】
架橋材や架橋触媒を使用せずに熱硬化することができ、昇華物起因のウェハー欠陥が十分に抑制された反射防止膜を提供する。
【解決手段】
炭素と炭素との多重結合を含有する繰り返し単位（Ａ）を有する付加重合性樹脂を含むリソグラフィー用反射防止膜形成組成物。炭素と炭素との多重結合を含有する繰り返し単位（Ａ）が、少なくとも１つの二重結合を側鎖に含有する繰り返し単位である。炭素と炭素との多重結合を含有する繰り返し単位（Ａ）が、α，β−不飽和カルボニル結合を側鎖に含有する繰り返し単位である付加重合性樹脂が、熱硬化性を有する炭素と炭素との多重結合を含有する繰り返し単位（Ａ）と、吸光性を有する芳香族環を含有する繰り返し単位（Ｂ）とを含み、樹脂を構成する全単位構造中に繰り返し単位（Ａ）がモル比で０．０１以上含有するものである。 （もっと読む）

【課題】耐熱性を有するレリーフ構造体を製造可能であり、高感度で膜減りが小さく、現像後のウエハー内での膜厚均一性、キュア後の膜厚均一性に優れた感光性樹脂組成物及び該組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ナフトキノンジアジド基を含有するポリベンゾオキサゾール前駆体（Ａ）、ナフトキノンジアジド感光剤（Ｂ）、及び、特定のフェノール性水酸基含有化合物（Ｃ）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物及び該組成物を用いた半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】作業性及び画像形成特性の両者に優れ、合紙の使用を省略することも可能な感光性平版印刷版を提供すること
【解決手段】感光性平版印刷版の表面に付着させて使用される赤外線感受性の感光性平版印刷版用粒子状マット剤であって、赤外線吸収染料を含むことを特徴とするマット剤 （もっと読む）

【課題】ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、電子線または極紫外線に有効に感応するＥＢ、ＥＵＶ用として好適な化学増幅型ポジ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】放射線が照射されることにより酸を発生する感放射線性酸発生剤（Ａ）と、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂（Ｂ）と、酸の作用により連鎖反応的に酸を発する酸増殖剤（Ｃ）と、放射線が照射されることにより塩基性を失う感光性塩基性化合物（Ｄ）とを含み、酸増殖剤（Ｃ）が炭素環骨格に下記式（１）で表されるスルホナート基を有する化合物である。
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【課題】感度、解像度、焦点深度、ドライエッチング耐性及びＰＥＢ温度依存性に優れ、特にドライエッチング耐性に優れた化学増幅型レジストである感放射線性樹脂組成物及びそれに使用される共重合体を提供する。
【解決手段】（ａ）ナフタレン骨格を有する繰り返し単位と、（ｂ）下記一般式（１）〜（４)で示される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも一種と、（ｃ）アルカリ可溶性部位を有する炭素数５以上の繰り返し単位とを有し（但し、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ異なる構造の繰り返し単位である。）、重量平均分子量が１０００〜５０００００である共重合体。
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【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用され、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、Dark Field MaskとBright Field Maskとの同一サイズ且つ同一露光量における両者の仕上がりサイズの差（Dark・Bright差）が低減化されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）ジアマンタン構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ化アルコキシ基を持つポリネオペンタンジオール型の含フッ素化合物、及び、（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】スルホニウム塩系酸発生剤を含有し、かつ３６５ｎｍ以上の長波長領域における感度が高い化学増幅型ホトレジスト組成物、該化学増幅型ホトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供。
【解決手段】（ａ）酸によりアルカリ溶解性が変化する樹脂と、（ｂ）放射線照射により酸を発生する化合物と、（ｃ）下記一般式（Ｃ１）で表される化合物とを含有し、前記（ｂ）放射線照射により酸を発生する化合物が、スルホニウム塩系酸発生剤（ｂ−１）を含有する化学増幅型ホトレジスト組成物。
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式（Ｉ）（式中、記号及び指数はそれぞれ以下のように定義される：Ａは、Ａ’、Ｒ、又はＯ−Ｒであり；ここで、Ｒは、１〜８個の炭素原子を有する、直鎖、分岐鎖、又は環式で、飽和又は不飽和の脂肪族基であり；Ａ’は、同一か又は異なり、式（Ｉａ）であり；Ｂは、結合、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−Ｏ−（Ｏ）Ｃ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−、又は−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−であり；Ｒ^１は、Ｈ又はＯＨであり；ｍは、１、２、３、４、又は５であり；Ｙは、式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）であり；ｎは、≧３の正の有理数であり；Ｅは、同一か又は異なり、−ＣＨ−ＣＨＲ^２−、−ＣＨＲ^２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨＲ^２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨＲ^２−ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_ｒ−Ｏ−、又は−Ｏ−（ＣＨ_２）−であり；Ｒ^２は、Ｈ又はＣＨ_３であり；ｒは、１又は４である）の化合物は、フォトレジストのための感光性成分として好適である。

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【課題】レジスト組成物の原料となる化合物、および該化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】ビス（４−（ｔ−ブトキシカルボニルメチルオキシ）−３−ホルミル）ジフェニルメタンにジメチルフェノールを縮合させた化合物を合成し、これを加水分解してカルボン酸を得る。該カルボン酸およびそのアダマンチルオキシメチルエステルは表面荒れの少いレジスト用高分子の原料となる。 （もっと読む）

【課題】高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少ないポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】一般式（ａ）及び（ｂ）


で示される繰り返し単位を有する高分子化合物を含有するするポジ型レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】原画フィルムを必要としないで凸状のレリーフ像を形成することが可能な、取り扱い性に優れた感光性樹脂印刷版原版、感熱マスク層にピンホールのない感光性樹脂印刷版原版とその製造方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、水またはアルコールに溶解または分散可能な樹脂および紫外光により硬化可能なモノマーを含有する感光性樹脂層（Ａ）、紫外線吸収能と赤外線吸収能を有し水不溶性である２層以上の感熱マスク層（Ｃ）をこの順に有する感光性樹脂印刷版原版。 （もっと読む）

内層および外層並びにＩＲ吸収色素等の輻射線吸収化合物を含んで成るポジ型画像形成性要素。内層はアルカリ性現像剤を使用して除去することができる高分子材料を含む。インク受容性外層は、画像形成用輻射線による露光前にアルカリ性現像剤を使用して除去することができない。外層は、露光時に実質的に反応しないにペンダントエポキシ基を有するポリマーバインダーを含む。 （もっと読む）