【課題】 レジスト調製時の溶解性、現像時のレジスト膜密着性の特性を高めるだけでなく、レジスト安定性を向上させ、安全性にも優れたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 レジスト成分と有機溶剤を含むレジスト組成物であって、該有機溶剤として、（ａ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシ多価カルボン酸エステルからなるヒドロキシ多価カルボン酸エステル化合物群、（ｂ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のアセトキシカルボン酸エステルからなるアセトキシカルボン酸エステル化合物群、および（ｃ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６であるアルコキシカルボン酸エステルからなるアルコキシカルボン酸エステル化合物群より選ばれた少なくとも１種の有機溶剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】解像度が良好で、親水性表面を有し且つ水中での力学的強度が高い高分子複合体を形成できる感光性樹脂組成物及びそれを用いて形成した高分子複合体を提供する。
【解決手段】ナノ微粒子と溶媒と下記式（１）で表される感光性樹脂とを有する感光性組成物とする。


（式（１）中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立に、何れか一方が下記式（２）で表される感光基ユニットでもう一方がアミノ基。）


（Ｒ₃及びＲ₄の少なくとも一方に芳香環を介してアジド基を有する。） （もっと読む）

【課題】製造工程における樹脂パターンの膨潤や劣化などを抑制することができ、使用可能な樹脂の選択性の幅が広く、微細かつ高精細な樹脂パターンを低コストで簡便に効率よく形成可能な樹脂パターンの形成方法等の提供。
【解決手段】本発明の樹脂パターンの形成方法は、基体上に、光が照射されると前記樹脂と結合可能となる結合性基と、前記基体の表面と結合可能な官能基とを少なくとも有する樹脂固定用化合物を含む樹脂固定層を形成する樹脂固定層形成工程と、前記樹脂固定層上に、前記樹脂を含む樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、前記樹脂層に光を像様に照射することにより、該光を照射した領域の前記樹脂固定層と前記樹脂層とを結合させて潜像を形成する潜像形成工程と、前記光が照射されていない領域における樹脂層を、物理的刺激により剥離し除去することにより、樹脂パターンを現像する現像工程とを少なくとも含む。 （もっと読む）

【課題】光に対する感度が向上する感光性樹脂を構成するため、水溶性の新規な芳香族アジド化合物及び、それから誘導される感光性モノマーおよび（共）重合体を提供することを目的とする。
【解決手段】新規な芳香族アジド化合物からなる感光性モノマー（ＩＩ）、その前駆体（Ｙ＝Ｈ）および（ＩＩ）で表されるモノマーの（共）重合体を提供する。


（式中、Ｘは水素原子、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ_４を、Ｒ_１、Ｒ_２は同じでも異なっていても良く、水素原子、ハロゲン基、ヒドロキシ基、炭素数５以下のアルコキシ基を表し、Ｙはモノマーの場合、メタクリロイル、アクリロイルなどの不飽和炭化水素基を表わす。） （もっと読む）