【課題】撥インク性がより向上した着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】光重合性化合物（Ａ）と、撥インク性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、着色剤（Ｄ）と、を含有する着色感光性樹脂組成物において、撥インク性化合物（Ｂ）として、エチレン性不飽和基及びケイ素原子に結合した少なくとも１つのアルコキシ基を有するケイ素含有モノマー（Ｂ１）と、該ケイ素含有モノマー（Ｂ１）と共重合可能なフッ素系モノマー（Ｂ２）とを少なくとも共重合させた共重合体を用いる。 （もっと読む）

【課題】焼成前後の寸法変動が小さく、アウトガス発生が著しく少ない隔壁を製造しうる感光性ペーストを提供する。
【解決手段】［１］（Ａ）無機粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）酸発生剤および（Ｅ）有機溶媒を含有する感光性ペーストであって、（Ａ）がシリカ（Ａ−ａ）を必須成分として含み、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂が、５８０℃、０．５時間の焼成処理での熱質量減少率が９０重量％以上の有機樹脂であることを特徴とする感光性ペースト。
［２］［１］の感光性ペーストを用いてなるプラズマディスプレイ用隔壁。
［３］［２］の隔壁を備えたプラズマディスプレイ用部材。 （もっと読む）

【課題】感光性を有し、架橋剤を用いることなく現像が可能であり、かつ緻密性に優れた薄膜パターンを形成し得るシリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】ＳｉＨ基を有する少なくとも１種のシリコン含有ポリマーと、光線もしくは放射線の照射により酸または塩基を発生する化合物とを含有し、シリコン含有ポリマーが、３個の加水分解性基を有する少なくとも１種のシラン化合物（Ａ）と、４個の加水分解性基を有する少なくとも１種のシラン化合物（Ｂ）とを重合して得られたポリマーからなり、シラン化合物（Ａ）が、ＳｉＨ基を有するシラン化合物を含む、シリコン含有感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 酸素ガスに対するエッチング耐性に優れるとともに、転写パターンの剥離を防止し、基板上における保持時間についての問題を解消し、転写性にも優れるナノインプリント用の膜形成組成物及び感光性レジスト、ナノ構造体、これらを用いたパターン形成方法、並びにこのパターン形成方法を実現するためのプログラムを提供する。
【解決手段】光硬化反応を生じる機能を有する高分子ケイ素化合物を含むナノインプリント用の膜形成組成物。高分子ケイ素化合物は、電磁波に感応して開裂する官能基を有し、電磁波照射によって硬化反応を生じるものであることが好ましく、シロキサン系高分子化合物、シリコンカーバイド系高分子化合物、ポリシラン系高分子化合物、およびシラザン系高分子化合物またはこれらの任意の混合物であることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜のコストを低減、製造工程の簡略化を図り、移動度及びオンオフ電流比の高い性能に優れた薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】基板上に、ゲート電極及びゲート絶縁膜が形成されている薄膜トランジスタであって、上記ゲート絶縁膜が、下記の一般式（１）で表わされる構造を有し、Ｒ₁₁〜Ｒ_1nの内少なくとも１つがＨである少なくとも１種のシリコン含有ポリマー（Ａ１）と、活性光線もしくは放射線の照射により、酸または塩基を発生する化合物とを含むシリコン含有感光性組成物を用いて形成される。
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【課題】 黒色度に優れ、しかも薄膜を形成した場合においても、黒色着色剤の含有ばらつきが生じ難い、ブラックレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 無機系材料からなり、光の照射により硬化する感光性のバインダーと、カーボンブラックなどの黒色着色剤とを含有するブラックレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の硬化膜形成方法は、シロキサン樹脂を含有する放射線硬化性組成物を基板上に塗布し乾燥して塗膜を得る工程と、その塗膜を露光する工程と、を有し、かつ露光する工程の後に塗膜を加熱しないものである。 （もっと読む）