【課題】光学的及び電気的特性に優れた耐熱性絶縁膜を形成することのできる感光性組成物及びこの感光性組成物に用いられるアルカリ可溶性シルセスキオキサン並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）間移動触媒を含有する有機溶媒層と水性溶媒層との二層状態を作り、前記有機溶媒層に一般式（１）：ＲＳｉＸ₃（式中、Ｒは、Ｃ₁〜Ｃ₅の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル基、Ｃ₂〜Ｃ₅のアルケニル基、又はアリール基を表し、Ｘは塩素、臭素又は沃素を表す。）で表されるトリハロシランを滴下し、有機溶媒層及び界面にて制御された反応を行うことによりポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００以下のシルセスキオキサンを製造し、（Ｂ）得られたシルセスキオキサンをアシル化剤を用い、例えばフリーデル−クラフツ反応によりアシル化することによりアシル化されたシルセスキオキサンを製造する。得られたシルセスキオキサンとキノンジアジド感光剤、あるいは光酸又は塩基発生剤とにより感光性組成物を製造し、これを基体上に塗布し、露光後現像し、硬化することにより、耐熱性絶縁パターン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を基板上に形成した場合に、得られたパターン膜の柔軟性を高めることができ、従ってパターン膜の耐久性を高めることができる感光性組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物を重合させることにより得られたシロキサンポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物に、下記式（１）で表され、かつ下記式（１）中のｐが２であるシラン化合物が含まれており、上記シロキサンポリマーの重量平均分子量が５００〜６００００の範囲内にあり、上記シロキサンポリマーの固形分酸価が５〜８００ＫＯＨｍｇ／ｇの範囲内にある感光性組成物。
Ｓｉ（Ｘ）_ｐ（Ｒ）_４−ｐ ・・・式（１）
上記式（１）中、Ｘは加水分解性基を表し、Ｒは炭素数１〜３０の非加水分解性の有機基を表し、ｐは１〜４の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】自由度を損なうことなく高解像度を実現する微細構造の作製方法を提供すること。
【解決手段】まず、図１（ｂ）のように、ネガ型レジスト１０２を基板１０１に塗布する。次に、図１（ｃ）のように、ネガ型レジスト１０２に、電子ビーム（エネルギービームに対応）１０３を第１のパターンで照射する（第１の露光ステップ）。ついで、図１（ｄ）のように、ネガ型レジスト１０２を現像して、ブロック状（第１の構造に対応）のレジスト１０２Ａを形成する（第１の現像ステップ）。そして、図１（ｅ）のように、ブロック状のレジスト１０２Ａに、電子ビーム１０３を第１のパターンとは異なる第２のパターンで照射する（第２の露光ステップ）。最後に、図１（ｆ）のように、ブロック状のレジスト１０２Ａを現像して、３本の直交ナノワイヤ状（第２の構造に対応）のレジスト１０２Ｂを形成する（第２の現像ステップ）。 （もっと読む）

【課題】ＳｉとＳｉ以外の他の金属とを含む均質な複合酸化物ゾルの製造方法、均質な複合酸化物ゾルを用いたＳｉ含有ホログラム記録材料の製造方法を提供する。
【解決手段】金属元素としてＳｉとＳｉ以外の他の金属とを含む複合酸化物ゾルを製造する方法であって、シラノール化合物と、Ｓｉ以外の他の金属のアルコキシド化合物とを混合して反応させ、複合酸化物の前駆体を得る工程と、前記複合酸化物の前駆体に水を添加し、前記Ｓｉ以外の他の金属のアルコキシル基を加水分解させ、続いて、加水分解生成物を縮合反応させて、複合酸化物を形成する工程と、を備える複合酸化物ゾルの製造方法。その製造方法により得られるホログラム記録材料からなるホログラム記録層２１を有するホログラム記録媒体１１。 （もっと読む）

【課題】高感度で熱硬化後にアルカリ溶剤へ耐性がある感光性シロキサン組成物の提供。
【解決手段】（ａ）ポリシロキサン（ｂ）下記一般式（１）で表されるキノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤からなる感光性シロキサン組成物。
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【課題】電気・電子材料、例えば、半導体デバイス、多層配線基板の製造用として有用なポリオルガノシロキサン及びそれを用いた感光性樹脂組成物で、優れたキュア残膜率を有し、アルカリ現像可能な樹脂膜を形成することが可能なポリオルガノシロキサン及び感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定シラノール化合物（ａ）、特定アルコキシシラン（ｂ）、及び特定酸無水物構造を含むアルコキシシラン（ｃ）を触媒の存在下、積極的に水を添加することなく縮合させる方法で得られるポリオルガノシロキサン、及びこれを含有する感光性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】低露光量においても基板との密着性、耐溶剤性に優れ、且つ現像残渣の生じることのない画素およびブラックマトリックスを与える新規な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、並びに（Ｄ）光重合開始剤、ならびに（Ｅ）オキシラニル基、オキセタニル基、エピスルフィド基、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、イソシアネート基、アミノ基、ウレイド基およびスチリル基の群から選ばれる少なくとも１種の官能基を含有するシロキサンオリゴマーを含有することを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】感光性組成物を基板上に塗布し、硬化させて得られた硬化物からなる膜を基板から剥離する方法であって、硬化物からなる膜を基板から容易に剥離することができ、基板を再利用することを可能とする膜の剥離方法を提供する。
【解決手段】アルコキシシランの縮合物（Ａ）と、第１，第２の刺激により活性化する刺激剤（Ｂ）とを含む感光性組成物１を基板２上に塗布した後に、該感光性組成物１に第１の刺激を与えることにより、感光性組成物１硬化させて得られた硬化物からなる感光性組成物膜１Ｃに、第２の刺激を与えて、硬化物からなる膜１Ｃを基板２から剥離する、膜１Ｃの剥離方法。 （もっと読む）

【課題】感光性組成物を基板上に塗布し、硬化させて得られた硬化物からなる膜を基板から剥離する方法であって、硬化物からなる膜を基板から容易に剥離することができ、基板を再利用することを可能とする膜の剥離方法を提供する。
【解決手段】アルコキシシランの縮合物（Ａ）と、刺激により活性化し、アルコキシシランの縮合物（Ａ）を架橋させる第１の刺激剤（Ｂ）と、第１の刺激剤（Ｂ）を活性化する刺激とは異なる刺激により活性化する第２の刺激剤（Ｃ）とを含む感光性組成物１を基板２上に塗布した後に、該感光性組成物１に第１の刺激剤（Ｂ）を活性化する刺激を与えることにより、感光性組成物を硬化させて得られた硬化物からなる膜１Ｃに、第２の刺激剤（Ｃ）を活性化する刺激を与えて、硬化物からなる膜１Ｃを基板２から剥離する、膜１Ｃの剥離方法。 （もっと読む）

【課題】感光性組成物、特に、二層、あるいは多層レジストに好適な感光性組成物、感光性組成物に好適な樹脂、および該樹脂の製造に好適な化合物、該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解して脱離する基を有する特定のシロキサン単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物、該樹脂、および該樹脂の製造に好適な化合物、および該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性が良好であり、かつその硬化物が優れた柔軟性及び弾性回復特性を有するフォトスペーサ用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 親水性ポリマー（Ａ）、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）、２個以上の加水分解性アルコキシ基を有するポリシロキサン（Ｃ）及び光ラジカル重合開始剤（Ｄ）を含有し、該ポリシロキサン（Ｃ）が一般式（１）で表されるシラン化合物（ｃ１）を必須構成単量体とする縮合物である、アルカリ現像可能なフォトスペーサ用感光性樹脂組成物（Ｑ）である。
【化４】


Ｒ¹は、アルキル基の炭素数が１〜６の、（メタ）アクリロイロキシアルキル基、グリシドキシアルキル基、メルカプトアルキル基、及びアミノアルキル基からなる群から選ばれる１種以上の有機基、Ｒ²は炭素数１〜１２の脂肪族飽和炭化水素基または炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、Ｒ³は炭素数１〜４のアルキル基、ｍは０または１である。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性が良好であり、かつその硬化物が優れた平坦性および耐熱透明性を有するカラーフィルター基板保護膜用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 親水性ポリマー（Ａ）、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）、２個以上の加水分解性アルコキシ基を有するポリシロキサン（Ｃ）及び光ラジカル重合開始剤（Ｄ）を含有し、該ポリシロキサン（Ｃ）が下記一般式（１）で表されるシラン化合物（ｃ１）を必須構成単量体とする縮合物である、カラーフィルター基板保護膜用感光性樹脂組成物（Ｑ）である。
【化４】


［式中、Ｒ¹は（メタ）アクリロイロキシアルキル基、グリシドキシアルキル基、メルカプトアルキル基、及びアミノアルキル基からなる群から選ばれる１種以上の有機基、Ｒ²は炭素数１〜１２の脂肪族飽和炭化水素基または炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、Ｒ³は炭素数１〜４のアルキル基、ｍは０または１である。］ （もっと読む）

【課題】希薄アルカリ現像液で現像可能であり、熱硬化後に高透明性を有する硬化膜を得ることができる感光性シロキサン組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）下記一般式（１）で表される化合物を加水分解、縮合させることによって得られる共重合体であるポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤を含有する感光性シロキサン組成物。
【化１】


（Ｒ^１の少なくとも一つはオキセタニル基またはコハク酸無水物基が置換したアルキル基またはオキシアルキル基を表し、その他のＲ^１は水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数６〜１５のアリール基のいずれかで表され、複数のＲ^１はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Ｒ^２は水素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアシル基、炭素数６〜１５のアリール基のいずれかを表し、複数のＲ^２はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。ｘは１〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】 フォトリソグラフィー法でパターニングが可能な感光性を有する撥液性表面処理剤であり、撥液性と感光性の両立のみならず、基板への密着性、撥液塗膜の硬度、環境対応性のすべてを兼ね備えたものを提供する。
【解決手段】フッ素化合物（Ａ）、加水分解性金属アルコキシド、その加水分解化合物およびその縮合物からなる群から選択された少なくとも一種の金属化合物（Ｂ）、溶媒（Ｃ）、光酸発生剤（Ｄ）を必須成分とするフッ素系感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】露光した後に、例えば３００℃以下の比較的低い温度で熱処理することによって、アルコキシシランの縮合物の架橋効率を十分に高めることができ、かつ電気的絶縁性能に優れた薄膜パターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルコキシシランの縮合物と、光線もしくは放射線の照射により酸または塩基を発生する酸又は塩基発生剤（Ａ）と、塩基性化合物（Ｂ）とを含有する、ネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】光加工プロセスに用い、光硬化性と耐光性のある感光性重合体組成物の提供。
【解決手段】下記式の化合物を用いて得られるかご型ケイ素化合物、金属錯体、および有機溶媒を配合して、感光性重合体組成物を得る。
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【課題】成膜性が良好であり、感光性を有し、かつ成膜後に焼成することにより容易に耐熱性が高い膜が得られる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】かご状シルセスキオキサン構造が平均１箇所を超えて他のかご状シルセスキオキサン構造と結合してなるシルセスキオキサン重合体であって、該かご状シルセスキオキサン構造が平均１個以上の感光性付与基を含むシルセスキオキサン重合体と、感光剤と、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】感光性を有し、短時間で現像でき、かつ感光性組成物に由来した着色がない薄膜パターンを形成することを可能とするシリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】ＳｉＨ基を有する少なくとも１種のシリコン含有ポリマーと、光線もしくは放射線の照射により酸または塩基を発生する化合物とを含有し、シリコン含有ポリマーが、下記式（１）で表される２個の加水分解性基を有する少なくとも１種のシラン化合物（Ａ）を重合して得られたポリマーからなり、シラン化合物（Ａ）が、ＳｉＨ基を有するシラン化合物を含む、シリコン含有感光性組成物。
ＳｉＨ_ｐ（Ｘ）_２（Ｒ_１）_２−ｐ・・・式（１） （もっと読む）

【課題】感光性を有し、架橋剤を用いることなく現像が可能であり、かつ貯蔵安定性に優れているシリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】ＳｉＨ基を有する少なくとも１種のシリコン含有ポリマーと、光線もしくは放射線の照射により酸または塩基を発生する化合物とを含有し、シリコン含有ポリマーが、３個の加水分解性基を有する少なくとも１種のシラン化合物（Ａ）と、１個又は２個の加水分解性基を有する少なくとも１種のシラン化合物（Ｂ）とを重合して得られたポリマーからなり、シラン化合物（Ａ）及びシラン化合物（Ｂ）のうち少なくとも一方が、ＳｉＨ基を有するシラン化合物を含む、シリコン含有感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】コントラストの高い親水性領域と撥水性領域を表面に有する処理基材の提供。また、特別な装置や高エネルギー光、長時間の光の照射を必須とせず、低光量により短時間で処理基材を製造する方法の提供。
【解決手段】基材の表面に親水性領域と撥水性領域とを有する処理基材であって、撥水性領域はエポキシ基官能基の１個以上と撥水性部分を有する化合物（ａ）、および光カチオン重合開始剤を含む組成物（Ａ）を硬化させた膜厚が０．１〜１００ｎｍである撥水性の膜からなる処理基材。基材の表面を親水化処理して表面を親水性にし、該表面に組成物（Ａ）を含む膜を形成し、該膜の表面の一部に光を照射して組成物（Ａ）を硬化させて膜厚が０．１〜１００ｎｍである撥水性の膜を形成し、基材の表面に存在する未硬化の組成物（Ａ）を除去して親水性の表面を露出させることによって、処理基材を製造する方法。 （もっと読む）