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Fターム[2H025CB43]の内容

フォトレジストの材料 (104,520) | 結合剤・非感光性高分子 (11,324) | 官能基で特定されるもの (2,896) | 酸性基 (1,094) | カルボキシル基 (944)

Fターム[2H025CB43]に分類される特許

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【課題】 支持体の表面に感光層を設けた光重合系感光性平版印刷版を、製造後長期間、高温高湿条件下で保存しても、その後画像露光及び現像を行い印刷した時に、地汚れの発生のない、経時安定性の高い光重合系平版印刷版の製版方法を提供すること。
【解決手段】 アルミニウム支持体上に中間層及び光重合性感光層を順に積層してなる感光性平版印刷版を画像露光し、現像液で現像することを含む平版印刷版の製版方法であって、該中間層が側鎖に燐酸基を有する高分子化合物を含み、並びに該現像液が無機アルカリ塩、及びポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン系界面活性剤を含みかつpHが11.0〜12.7である、上記平版印刷版の製版方法。 (もっと読む)


【課題】高感度、高解像度、寸法制御性等の諸性能に優れたアルカリ水溶液を用いて現像するポジ型パタン形成材料およびそれを遮光膜として機能させる露光用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線照射により酸を生じる化合物およびカルボキシル基および/またはフェノール性水酸基を有するバインダ樹脂、1分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を有する化合物、および窒素含有樹脂結合剤を酸触媒付加反応させて得られる組成物を少なくとも含むパタン形成材料を用いる。 (もっと読む)


【課題】 電子線リソグラフィーを用いて、良好な形状を有する数十ナノメートル径のホールパターンを形成する。
【解決手段】 下地表面上に、ポジ型の電子線レジストを含有するレジスト層を形成し、前記レジスト層に電子線を照射した後、現像することにより、前記レジスト層にホールを形成する工程を有し、前記ホールの平均径をW(単位:nm)とし、Wが80のときの最適な電子線照射量をD80としたとき、40≦W≦70であるホールを形成する際に、電子線照射量DWが0.85×60/(W−20)≦DW/D80≦1.1×60/(W−20)
を満足するように電子線を照射するレジストパターンの形成方法。 (もっと読む)


【課題】 感度、耐刷性および保存安定性が十分な感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】 親水性表面を有する支持体上に、i)線状高分子重合体バインダー、ii)付加重合可能なエチレン性不飽和結合とウレタン基を有する化合物及び溶剤を含有する光重合層塗布液を塗布し、感光性平版印刷版の温度が90〜140℃で10秒間以上保たれる条件で加熱乾燥することにより得られたことを特徴とし、好ましくは、該加熱乾燥後、感光性平版印刷版の温度を50℃以下に冷却したあと、引き続きその光重合層上に、水溶性の酸素遮断性物質を含有する保護層を塗布し、加熱乾燥することにより得られる。 (もっと読む)


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