【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）は式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有するレジスト組成物。［式中、Ｒ^１”〜Ｒ^３”はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基又はアルキル基を表し、少なくとも１つは水素原子の一部が式（ｂ１−０−０１）で表される基で置換された置換アリール基であり、Ｗは炭素数２〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である。］
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【課題】半透過型液晶表示装置のカラーフィルタ基板であって、透明着色画素の着色反射部に特に、径１０μｍあるいはそれ以下の微細なスルーホールを再現することができ、かつ高感度、現像プロセスマージンに優れ、オーバーコート層との密着性に優れる感光性着色組成物からなるカラーフィルタ基板の提供を目的とする。
【解決手段】少なくとも、透過部とスルーホールを備える反射部とに区分された複数の透明着色画素及び前記透明着色画素の上部にオーバーコート層を有するカラーフィルタ基板において、前記オーバーコート層が、ＪＩＳ−Ｋ５４００に準拠した１００マス碁盤目テープ法による密着性評価で、前記オーバーコート層の剥離欠陥の面積が全面積の１５％未満であることを特徴とするカラーフィルタ基板である。 （もっと読む）

【課題】パターン再現性に優れたブラックマトリクスを得るための黒色感光性樹脂組成物及びそれを用いたブラックマトリクスの製造法及びカラーフィルタ並びに液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも光重合性モノマーと、樹脂バインダーと、重合開始剤と、黒色顔料と、溶剤と、を含有してなる黒色感光性樹脂組成物であって、
前記重合開始剤が、アセトフェノン系光重合開始剤、スルホニウム有機ホウ素錯体及びオキソスルホニウム有機ホウ素錯体から選ばれるすくなくとも一つを含有している黒色感光性樹脂組成物を透明基板１１上に塗布して、黒色感光層２１を形成し、露光波長２５４ｎｍの遠紫外線を用いてパターン露光し、現像等のパターニング処理を行って、パターン再現性に優れたブラックマトリクス２１ａを得る。 （もっと読む）

【課題】通常の透明着色画素の形成では、そのコーナー部に大きな丸みを持つため、遮光膜の角の部分で白抜けが避けがたかった。本発明の目的は半径３μｍＲ以下の小さなコーナー部を有する透明着色画素が配設されているカラーフィルタ基板及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法において、少なくとも以下の工程を含み、かつ、この工程順で製造することを特徴とする、液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。（１）基板上に、最大吸収波長が２３０〜３３０ｎｍの重合開始剤を１種以上含有する感光性着色組成物を塗布する工程。（２）感光性着色組成物の層を２３０ｎｍから３３０ｎｍの波長を含む光源を用いて露光する工程。（３）感光性着色組成物の層を半径３μmＲ以下のコーナー部を有する多角形の透明着色画素として現像する工程。 （もっと読む）

【課題】硬化性、塗布適性、塗膜の厚み均一性、現像性、及び、パターン形成性に優れ、インクジェット法に適用した際には、打滴性が良好で、平滑で色ムラのない硬化物が得られる硬化性着色組成物の提供。高色純度で、且つ表示ムラの発生が抑制されたカラーフィルタ、及び該カラーフィルタを有する液晶表示装置の提供。
【解決手段】少なくとも、着色剤、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、重合開始剤、１個以上の（メタ）アクロイル基を有する界面活性剤、及び溶剤を含有することを特徴とする硬化性着色組成物、該組成物を用いてなるカラーフィルタ及び液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】経時安定性に優れる表示装置用光重合性組成物の提供。
【解決手段】少なくとも一種の金属粒子又は金属を有する粒子と、下記一般式（Ｉ）で表される光重合開始剤と、ｐＫａが３．０以下の酸に由来の基を有する樹脂と、エチレン性二重結合を有する付加重合性モノマーと、を含有する表示装置用光重合性組成物である。
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【課題】表示装置を構成するカラーフィルタ用として用いたとき、光照射した後に得られる画像形状が良好な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】重合性化合物と架橋性のバインダーと下記一般式（Ｉ）で表される光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物であって、前記光重合開始剤を前記モノマーに対して４質量％以上１２質量％以下含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
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【課題】着色画像その色純度と遮光部の色濃度が高く、高コントラストを実現するカラーフィルタ及び該カラーフィルタを備える液晶表示装置、及び、本発明のカラーフィルタの形成に有用な、色純度の高い着色画素を形成しうる画素形成用硬化性組成物、色濃度の高い遮光部を形成しうる遮光部形成用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】着色画素形成用硬化性組成物により形成され、ＣＩＥ表色系において、Ｃ光源での色純度がＮＴＳＣ方式の３原色色度点の面積（１００）に対して６５％以上である着色画素と、遮光部形成用硬化性組成物により形成され、光学濃度（ＯＤ値）が４．５以上であり、幅５〜１５μｍの遮光部とを有し、カラーフィルタコントラスト比が５０００以上であるカラーフィルタ。 （もっと読む）

【課題】パターン断面形状が台形形状となる隔壁を製造しうる感光性ペーストを提供する。
【解決手段】［１］（Ａ）無機粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）酸発生剤、（Ｅ）有機溶媒、（Ｆ）下記式（１０）で表される化合物を含有する感光性ペースト。


（式中、Ｚは炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数２〜２０のアルケニル基を表す。Ｘは下記式（１１）で示される２価の基である。）


（式中、Ｒは炭素数１〜６のアルキレン基を表し、ｉは１〜６の整数である。）
［２］［１］の感光性ペーストを用いてなるプラズマディスプレイ用隔壁。
［３］［２］の隔壁を備えたプラズマディスプレイ用部材。 （もっと読む）

【課題】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト用材料およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられる酸の作用によりアルカリ溶解性が増大するレジスト用材料であって、重合体状含フッ素化合物（Ｆ）を含み、デカリンに対する後退角が３０°以上であるレジスト用材料、前記イマージョンリソグラフィー法によるレジストパターンの形成方法であって、前記レジスト用材料を含むレジスト形成組成物を基板上に塗布して基板上にレジスト膜を形成する工程、イマージョンリソグラフィー工程、および、現像工程をこの順に行う、基板上にレジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜へのダメージが少なく、良好な矩形形状のレジストパターンを形成することが可能であり、かつ、レジスト組成物中の樹脂に、どのような構造の樹脂を用いても使用が制限されることがないレジスト保護膜形成用組成物、及びこのレジスト保護膜形成用組成物を用いたレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】（ａ）アルカリ可溶性ポリマー、及び（ｂ）エーテル系溶剤を含有する保護膜形成用組成物、及び該保護膜形成用組成物を用いたレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】波長１９３ｎｍにおける液浸露光時に接触した水などの液浸露光用液体への溶出物の量が少ない。
【解決手段】波長１９３ｎｍにおける屈折率が空気よりも高い液浸露光用液体を介して放射線照射する液浸露光を含むレジストパターン形成方法に用いられ、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有し、該感放射線性酸発生剤（Ｂ）が下記式（１）で表される化合物を含有する。


各Ｒ¹は相互に独立に炭素数１〜８のパーフルオロもしくは部分的にフッ素化された直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、または互いのＲ¹が結合したフッ素化アルキレン基を表し、３つのＲ²は少なくとも１つのＲ²が炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を表し、残りのＲ²は水素原子を表す。 （もっと読む）

【課題】パターン断面形状が台形形状となる隔壁を製造しうる感光性ペーストを提供する。
【解決手段】［１］（Ａ）無機粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）酸発生剤、（Ｅ）有機溶媒、（Ｆ）（Ｆ）下記式（１０）で表される化合物
を含有することを特徴とする感光性ペースト。


（式中、Ｘは炭素数２〜４のアルケニル基を表し、Ｙは、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソリニル基およびジオキサニル基からなる群から選ばれる。）
［２］［１］の感光性ペーストを用いてなるプラズマディスプレイ用隔壁。
［３］［２］の隔壁を備えたプラズマディスプレイ用部材。 （もっと読む）

【課題】マスク全面で均一な露光を行うことができ、高精細な微細パターンを形成することが可能となる近接場露光に用いられる被露光物の形成方法、近接場露光方法及び近接場露光方法による素子の製造方法を提供する。
【解決手段】露光光の波長サイズ以下の微小開口を有する遮光膜を密着させ、露光光源から光を照射してパタンを転写する近接場露光に用いられる被露光物の形成方法であって、
凹凸を有する基板２０１上に、該基板の凹凸を埋め込むように形状緩衝層と光吸収層としての機能を兼ね備えた層２０２を形成し、該基板表面を平坦化する工程と、
前記形状緩衝層と光吸収層としての機能を兼ね備えた層上に、感光性レジスト層２０４を形成する工程と、を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】マスク全面で均一な露光を行うことができ、高精細な微細パターンを形成することが可能となる近接場露光に用いられる被露光物の形成方法、近接場露光方法及び近接場露光方法による素子の製造方法を提供する。
【解決手段】露光光の波長サイズ以下の微小開口を有する遮光膜を密着させ、露光光源から光を照射してパタンを転写する近接場露光に用いられる被露光物の形成方法であって、
凹凸を有する基板２０１上に、該基板の凹凸を埋め込むように形状緩衝層２０２を形成し、該基板表面を平坦化する工程と、
前記形状緩衝層上に、前記露光光を反射する光反射層２０３を形成する工程と、
前記光反射層上に、感光性レジスト層２０４を形成する工程と、を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、通常露光での現像欠陥性能が改善され、液浸露光に適用した場合のＤＯＦとプロファイルの劣化が改善され、水に対する追随性が良好で、且つスカムの発生が抑制されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｆ）特定の界面活性剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】液浸露光による微細パターン形成プロセスにおける現像工程で剥離が可能であり、なおかつ液浸露光時における液浸水に対する膨潤量が少なく、現像後に良好なレジストパターン形状を与えることが可能となる液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】乾燥膜としたときのアルカリ現像液に対する溶解速度が、２０ｎｍ／秒〜３００ｎｍ／秒であることを特徴とする液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】液浸露光時に溶け出た酸を、補うもしくは、見かけ上補填すること、また露光・現像・パターン形成の一連のタクトをコンパクトにすることで液浸露光での不具合を低減すること。
【解決手段】本発明は、ウエハＷ上のレジストと露光レンズ１１との間に液体Ｌを介在させる露光において、この液体Ｌとして、酸発生化合物を含むものを用いる。また、本発明は、ポジ型のレジストを用いる場合、この液体Ｌとして、アルカリ性水溶液を用いる。また、本発明は、ネガ型のレジストを用いる場合、この液体Ｌとして、架橋剤を含む樹脂水溶液を用いるものである。 （もっと読む）